[發明專利]顯示模組及顯示裝置在審
| 申請號: | 202110401156.0 | 申請日: | 2021-04-14 |
| 公開(公告)號: | CN112987387A | 公開(公告)日: | 2021-06-18 |
| 發明(設計)人: | 韓佳慧;董學;梁蓬霞;方正;孟憲芹;彭瑋婷 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1362 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人: | 胡艷華;曲鵬 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 模組 顯示裝置 | ||
1.一種顯示模組,包括:對盒設置的陣列基板結構層和彩膜基板結構層,所述陣列基板結構層和彩膜基板結構層之間包括液晶層,陣列基板結構層位于彩膜基板結構層和背光源結構層之間;
所述陣列基板結構層包括:第一基底和依次設置在所述第一基底上的第一絕緣層、第一偏光結構層和驅動結構層;所述第一基底上還設置至少一個反射結構;或者,所述陣列基板結構層包括:第一基底和依次設置在第一基底上的第一偏光結構層、第一絕緣層和驅動結構層;所述第一偏光結構層上還設置至少一個反射結構;
所述驅動結構層包括形成像素驅動電路的半導體開關元件;
所述第一絕緣層覆蓋所述反射結構;所述反射結構用于將來自背光源結構層的部分入射光反射回所述背光源結構層;其中,所述背光源結構層包括反射片;所述反射結構在第一基底上的正投影覆蓋半導體開關元件的有源層在第一基底上的正投影;
所述第一偏光結構層用于將來自背光源結構層的入射光轉換為偏振光并透射至液晶驅動層。
2.根據權利要求1所述的顯示模組,其特征在于:
所述第一偏光結構層包括反射式偏光片,所述反射式偏光片用于將來自背光源結構層的一部分入射光轉換為第一偏振光并透射至液晶驅動層,將來自背光源結構層的另一部分入射光轉換為第二偏振光并反射回所述背光源結構層;所述第一偏振光與第二偏振光的偏振方向相互垂直。
3.根據權利要求2所述的顯示模組,其特征在于:
所述反射式偏光片包括:金屬線柵偏振器WGP。
4.根據權利要求1所述的顯示模組,其特征在于:
所述彩膜基板結構層包括:第二基底和依次設置在所述第二基底上的彩膜層和第一平坦層;所述彩膜層包括間隔設置的子像素和黑矩陣。
5.根據權利要求1所述的顯示模組,其特征在于:
多個反射結構沿著驅動結構層中的柵線方向和數據線方向呈網格狀分布,采用的反射材料的材質為金屬。
6.一種顯示模組,包括:對盒設置的陣列基板結構層和彩膜基板結構層,所述陣列基板結構層和彩膜基板結構層之間包括液晶層,彩膜基板結構層位于陣列基板結構層和背光源結構層之間;
所述陣列基板結構層包括:第一基底和設置在所述第一基底上的驅動結構層;所述驅動結構層包括形成像素驅動電路的半導體開關元件和遮光結構;所述遮光結構在第一基底上的正投影覆蓋所述像素驅動電路的半導體開關元件的有源層;
所述彩膜基板結構層包括:第二基底和依次設置在所述第二基底上的第一絕緣層、第一偏光結構層、第一平坦層和彩膜層;所述第二基底上還設置至少一個反射結構;或者所述彩膜基板結構層包括:第二基底和依次設置在所述第二基底上的第一偏光結構層、第一絕緣層、第一平坦層和彩膜層;所述第一偏光結構層上還設置至少一個反射結構;或者所述彩膜基板結構層包括:第二基底和依次設置在所述第二基底上的第一偏光結構層、第一絕緣層和彩膜層;所述第一偏光結構層上還設置至少一個反射結構;
所述彩膜層包括間隔設置的子像素和黑矩陣;所述黑矩陣用于分隔相鄰子像素;
所述第一偏光結構層用于將來自背光源結構層的入射光轉換為偏振光并透射至彩膜層;
所述第一絕緣層覆蓋所述反射結構;所述反射結構用于將來自背光源結構層的部分入射光反射回所述背光源結構層;其中,所述背光源結構層包括反射片;
所述反射結構與黑矩陣相對設置,二者中的至少一個在第一基底上的正投影覆蓋半導體開關元件的有源層在第一基底上的正投影。
7.根據權利要求6所述的顯示模組,其特征在于:
所述第一偏光結構層包括反射式偏光片,所述反射式偏光片用于將來自背光源結構層的一部分入射光轉換為第一偏振光并透射至彩膜層,將來自背光源結構層的另一部分入射光轉換為第二偏振光并反射回所述背光源結構層;所述第一偏振光與第二偏振光的偏振方向相互垂直。
8.根據權利要求7所述的顯示模組,其特征在于:
所述反射式偏光片包括:金屬線柵偏振器WGP。
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