[發(fā)明專利]電子設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110400569.7 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113113759B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-05-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊文強(qiáng);張敏;謝華飛;吳俊緯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 維沃移動(dòng)通信有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01Q1/22 | 分類(lèi)號(hào): | H01Q1/22;H01Q1/52;H05K5/02 |
| 代理公司: | 北京友聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 汪海屏;尚志峰 |
| 地址: | 523863 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電子設(shè)備 | ||
1.一種電子設(shè)備,其特征在于,包括:
殼體,所述殼體包括層疊設(shè)置的電極層和電致變色層;
輻射部,對(duì)應(yīng)所述殼體的外沿設(shè)于所述殼體的背光側(cè);
其中,所述電極層的數(shù)量為多個(gè),所述電致變色層夾設(shè)在多個(gè)所述電極層中的兩個(gè)之間,多個(gè)所述電極層中至少一個(gè)電極層包括相連的減薄部和堆疊部,所述減薄部對(duì)應(yīng)所述輻射部設(shè)置,所述減薄部的厚度小于所述堆疊部的厚度;
所述減薄部圍設(shè)在所述堆疊部的外沿處,所述減薄部包括靠近所述電致變色層的減薄面,
其中,所述減薄面包括:
第一邊緣,所述第一邊緣與所述堆疊部相連;
第二邊緣,相較于所述第一邊緣遠(yuǎn)離所述堆疊部,所述第一邊緣與所述電致變色層之間的距離,小于所述第二邊緣與所述電致變色層之間的距離;
由所述第一邊緣向所述第二邊緣的方向,所述減薄面與所述電致變色層之間的距離逐漸變化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其特征在于,
所述減薄面包括以下至少一種:曲面段、平面段。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其特征在于,
自所述第一邊緣向所述第二邊緣的方向,所述減薄面與所述電致變色層之間的距離逐漸增大。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其特征在于,
自所述第一邊緣向所述第二邊緣的方向,所述減薄面與所述電致變色層之間的距離呈階梯狀增大。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其特征在于,
所述堆疊部的厚度大于等于3nm,小于等于20nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其特征在于,
多個(gè)所述電極層中每一個(gè)電極層的中心厚度均大于所述電極層的外沿厚度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其特征在于,
所述輻射部的數(shù)量為多個(gè),多個(gè)所述輻射部對(duì)應(yīng)所述殼體的外沿間隔設(shè)置;
多個(gè)所述輻射部包括以下任意組合:主控制板、移動(dòng)通信天線、WiFi、藍(lán)牙天線、NFC天線。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述電子設(shè)備還包括:
刻蝕縫隙,設(shè)于所述減薄部朝向所述電致變色層的表面上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電子設(shè)備,其特征在于,
所述刻蝕縫隙的寬度大于等于10μm,小于等于30μm;
所述刻蝕縫隙的數(shù)量為多個(gè),多個(gè)所述刻蝕縫隙中相鄰兩個(gè)之間的間隔大于等于0.3mm,小于等于10mm。
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