[發明專利]一種太赫茲電磁誘導透明超材料及其制備方法和應用有效
| 申請號： | 202110400475.X | 申請日： | 2021-04-14 |
| 公開（公告）號： | CN113093319B | 公開（公告）日： | 2022-03-04 |
| 發明（設計）人： | 時彥朋;花明;劉笑宇;宋金梅;李美坪 | 申請（專利權）人： | 山東大學 |
| 主分類號： | G02B5/00 | 分類號： | G02B5/00;H01Q15/00 |
| 代理公司： | 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221 | 代理人： | 張曉鵬 |
| 地址： | 250101 山東*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 赫茲 電磁 誘導 透明 材料 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種太赫茲電磁誘導透明超材料，其特征在于：包括基底和基底上的周期性排布機構，每個周期性結構包括一個圓盤凸起結構和一個金屬條狀結構，金屬條狀結構位于圓盤結構的一側，金屬條狀結構與圓盤凸起結構的直徑平行；
圓盤凸起結構的半徑為10-100μm，厚度1-10μm；
金屬條狀結構的長度為10-100μm，寬度1-10μm，厚度0.1-1um；
圓盤凸起結構與金屬條狀結構之間的間距為1.5-3μm；
相鄰兩排周期性結構之間的，相對的兩個圓盤外邊緣的間距為100-200μm；
每排的相鄰的兩個周期性結構的，圓盤外邊緣的間距為10-100μm；金屬條狀結構的材質為金、銀、鋁、鐵、鈦金屬材料中的一種。
2.如權利要求1所述的太赫茲電磁誘導透明超材料，其特征在于：圓盤凸起結構的半徑為30-50μm，厚度為3-8μm。
3.如權利要求2所述的太赫茲電磁誘導透明超材料，其特征在于：圓盤凸起結構的半徑為35-40μm，厚度為3-5μm。
4.如權利要求1所述的太赫茲電磁誘導透明超材料，其特征在于：金屬條狀結構的長度為36-40μm，厚度為0.3-0.6μm。
5.如權利要求1所述的太赫茲電磁誘導透明超材料，其特征在于：金屬條狀結構的長度比圓盤結構的直徑相差0-30μm。
6.如權利要求1所述的太赫茲電磁誘導透明超材料，其特征在于：周期性排布機構為矩形陣列的排布形式。
7.如權利要求1所述的太赫茲電磁誘導透明超材料，其特征在于：相鄰兩排周期性結構之間的，相對的兩個圓盤外邊緣的間距為110-140μm。
8.如權利要求1所述的太赫茲電磁誘導透明超材料，其特征在于：每排的相鄰的兩個周期性結構的，圓盤外邊緣的間距為80-100μm。
9.如權利要求1所述的太赫茲電磁誘導透明超材料，其特征在于：圓盤凸起結構的材質與基底的材質相同。
10.如權利要求1所述的太赫茲電磁誘導透明超材料，其特征在于：基底為硅基底或石英襯底。
11.如權利要求1-10任一項所述的太赫茲電磁誘導透明超材料的制備方法，其特征在于：
具體步驟為：
依次在基底上形成周期性的圓盤結構、條狀結構；
然后在條狀結構對應的位置上生長金屬層。
12.如權利要求11所述的太赫茲電磁誘導透明超材料的制備方法，其特征在于：在基底上形成周期性的圓盤結構的方法為：在基底上涂覆光刻膠，然后烘干、冷卻、曝光、顯影、定影得到周期性的圓盤狀的光刻膠掩膜結構，然后進行刻蝕得到周期性的圓盤結構。
13.如權利要求11所述的太赫茲電磁誘導透明超材料的制備方法，其特征在于：在基底上形成周期性的條狀結構的方法為：在具有周期性的圓盤結構的基底上涂覆光刻膠，然后烘干、冷卻、曝光、顯影、定影得到周期性的條狀的光刻膠掩膜結構，然后進行刻蝕得到周期性的條狀結構。
14.如權利要求11所述的太赫茲電磁誘導透明超材料的制備方法，其特征在于：生長金屬層的方法為電子束蒸發法。
15.如權利要求1-10任一項所述的太赫茲電磁誘導透明超材料在慢光、光信號處理、光存儲、量子開關、光傳感領域的應用。
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