[發(fā)明專(zhuān)利]超前注漿方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110397113.X
• 申請(qǐng)日: 2021-04-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113027490B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-03-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 雷升祥;梁爾斌;王華偉;張志偉;王志康;鄭凱;靳德勇;劉小勇;孫孝鋒
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中鐵十四局集團(tuán)有限公司;中國(guó)鐵建股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): E21D11/10
• 分類(lèi)號(hào): E21D11/10
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 白雪

1.一種超前注漿方法，既有建筑(1)下方具有第一導(dǎo)洞(10)，其特征在于，所述超前注漿方法包括：

步驟S40：在所述第一導(dǎo)洞(10)的掌子面上標(biāo)記第一注漿孔位(20)，所述第一注漿孔位(20)包括多個(gè)，多個(gè)所述第一注漿孔位(20)沿所述第一導(dǎo)洞(10)的掌子面的兩側(cè)邊沿以及底邊間隔布置，所述第一導(dǎo)洞(10)的掌子面的靠近所述第一導(dǎo)洞(10)的頂邊無(wú)所述第一注漿孔位(20)；

步驟S50：以所述第一注漿孔位(20)作為鉆孔起點(diǎn)朝向與其靠近的所述第一導(dǎo)洞(10)的內(nèi)壁進(jìn)行鉆孔以形成第一鉆孔(30)，所述第一鉆孔(30)的鉆孔終點(diǎn)位于所述第一導(dǎo)洞(10)的周向外側(cè)并位于所述掌子面在挖掘方向的前側(cè)；以每個(gè)所述第一注漿孔位(20)為起點(diǎn)鉆設(shè)多個(gè)所述第一鉆孔(30)，多個(gè)所述第一鉆孔(30)的鉆孔終點(diǎn)在所述第一導(dǎo)洞(10)的挖掘方向上間隔布置并位于同一水平面上；

步驟S60：向所述第一鉆孔(30)內(nèi)注漿。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超前注漿方法，其特征在于，多個(gè)所述第一鉆孔(30)的鉆孔終點(diǎn)投影在所述掌子面所在的平面上后形成多個(gè)投影點(diǎn)，相鄰兩個(gè)所述投影點(diǎn)之間的距離在0.5m至1m之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超前注漿方法，其特征在于，采用后退式注漿法向所述第一鉆孔(30)內(nèi)注漿。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超前注漿方法，其特征在于，所述第一鉆孔(30)的鉆孔終點(diǎn)與所述第一鉆孔(30)的鉆孔起點(diǎn)在所述第一導(dǎo)洞(10)的延伸方向上的最大距離10m至15m之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超前注漿方法，其特征在于，多個(gè)所述鉆孔終點(diǎn)在所述掌子面所在的平面上的投影的連線與所述第一導(dǎo)洞(10)的內(nèi)壁的距離L在1m至2m之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超前注漿方法，其特征在于，每個(gè)所述第一注漿孔位(20)到所述第一導(dǎo)洞(10)的內(nèi)壁的垂直距離在0.5m至1m之間。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超前注漿方法，其特征在于，每個(gè)所述第一鉆孔(30)在所述第一導(dǎo)洞(10)的掌子面所在的平面上的投影在所述第一導(dǎo)洞(10)的周向方向上呈放射狀分布。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超前注漿方法，其特征在于，所述第一導(dǎo)洞(10)的下方還設(shè)置有第二導(dǎo)洞(40)，在所述步驟S40之前，所述超前注漿方法還包括：

步驟S10：在所述第二導(dǎo)洞(40)的掌子面上標(biāo)記第二注漿孔位(50)，所述第二注漿孔位(50)包括多個(gè)，多個(gè)所述第二注漿孔位(50)沿所述第二導(dǎo)洞(40)的掌子面周向邊沿間隔布置；

步驟S20：以所述第二注漿孔位(50)作為鉆孔起點(diǎn)朝向與其靠近的所述第二導(dǎo)洞(40)的內(nèi)壁進(jìn)行鉆孔以形成第二鉆孔，所述第二鉆孔的鉆孔終點(diǎn)位于所述第二導(dǎo)洞(40)的周向外側(cè)并位于所述掌子面在挖掘方向的前側(cè)；

步驟S30：向所述第二鉆孔內(nèi)注漿。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的超前注漿方法，其特征在于，所述步驟S20還包括：

以每個(gè)所述第二注漿孔位(50)為起點(diǎn)鉆設(shè)多個(gè)所述第二鉆孔，多個(gè)所述第二鉆孔的鉆孔終點(diǎn)在所述第二導(dǎo)洞(40)的挖掘方向上間隔布置并位于同一水平面上。