[發(fā)明專利]一種電子元件的消泡型封裝工藝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110396780.6 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113270330B | 公開(公告)日: | 2023-06-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 湯雪蜂 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市智楠科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/56 | 分類號(hào): | H01L21/56;H01L21/67 |
| 代理公司: | 深圳市洪荒之力專利代理有限公司 44541 | 代理人: | 李青 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍崗*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電子元件 消泡型 封裝 工藝 | ||
1.一種電子元件的消泡型封裝工藝,其特征在于:包括以下步驟:
S1、首先將芯片安裝在基板上,然后在芯片上方鋪上一層內(nèi)呼吸動(dòng)球;
S2、對(duì)內(nèi)呼吸動(dòng)球進(jìn)行位置的預(yù)處理,然后進(jìn)行分層澆注環(huán)氧樹脂;
S3、進(jìn)行第一層的環(huán)氧樹脂的澆注,澆筑后對(duì)基板的下方進(jìn)行加熱處理,使內(nèi)呼吸動(dòng)球膨脹,再進(jìn)行急降溫處理,使內(nèi)呼吸動(dòng)球恢復(fù)原狀;依次多次重復(fù)加熱和急降溫的處理,使內(nèi)呼吸動(dòng)球不斷重復(fù)膨脹-復(fù)原的過程,呈現(xiàn)“呼吸”態(tài),從內(nèi)部對(duì)環(huán)氧樹脂起到震動(dòng)的作用,消除環(huán)氧樹脂內(nèi)部的空隙;
S4、第一層環(huán)氧樹脂冷卻定型后,進(jìn)行第二層的環(huán)氧樹脂的澆注,澆注后自然冷卻,完成電子元件的封裝。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子元件的消泡型封裝工藝,其特征在于:所述步驟S3中加熱和急降溫處理的重復(fù)次數(shù)不少于5次。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電子元件的消泡型封裝工藝,其特征在于:所述加熱和急降溫處理每次重復(fù)的間隔不低于10秒。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種電子元件的消泡型封裝工藝,其特征在于:所述加熱的溫度為90-110℃,急降溫處理的降溫速度為5-8℃/s,且急降溫處理后的最終溫度為20-25℃。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子元件的消泡型封裝工藝,其特征在于:所述步驟S2中內(nèi)呼吸動(dòng)球位置的預(yù)處理操作包括以下步驟:
S21、在內(nèi)呼吸動(dòng)球鋪好后,使用磁板在基板下方來回移動(dòng),然后將磁板臨時(shí)固定下基板下;
S22、然后通過絕緣瓷桿撥動(dòng)內(nèi)呼吸動(dòng)球,引導(dǎo)內(nèi)呼吸動(dòng)球的光滑端與芯片接觸,非光滑端向上排列,直至內(nèi)呼吸動(dòng)球鋪勻。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種電子元件的消泡型封裝工藝,其特征在于:所述鋪勻的標(biāo)準(zhǔn)為:芯片表面沒有明顯的空隙以及沒有多個(gè)內(nèi)呼吸動(dòng)球疊在一起。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子元件的消泡型封裝工藝,其特征在于:所述內(nèi)呼吸動(dòng)球包括外球殼(1)以及固定連接在外球殼(1)內(nèi)底端的內(nèi)呼吸球芯(2),所述內(nèi)呼吸球芯(2)內(nèi)部填充有鐵粉與高導(dǎo)熱氣體的混合物,所述外球殼(1)和內(nèi)呼吸球芯(2)之間的空隙內(nèi)飽和填充有絕緣油。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種電子元件的消泡型封裝工藝,其特征在于:所述高導(dǎo)熱氣體飽和填充,所述鐵粉的體積為內(nèi)呼吸球芯(2)內(nèi)容積的1/3-1/2。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種電子元件的消泡型封裝工藝,其特征在于:所述外球殼(1)外端固定連接有多個(gè)均勻分布的外擠壓球(4),所述外擠壓球(4)內(nèi)飽和填充有惰性氣體,所述外擠壓球(4)與內(nèi)呼吸球芯(2)之間固定連接有拉繩(3)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種電子元件的消泡型封裝工藝,其特征在于:所述內(nèi)呼吸球芯(2)、拉繩(3)和外擠壓球(4)均為彈性材料制成,所述外球殼(1)為硬質(zhì)密封材料制成,且拉繩(3)處于繃直狀態(tài)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





