[發明專利]顯示基板、裝置及其制備方法

有效

• 申請號: 202110396503.5
• 申請日: 2021-04-13
• 公開（公告）號: CN113130613B
• 公開（公告）日: 2023-08-18
• 發明（設計）人: 袁長龍;馮靖伊;曹席磊;徐映嵩;張振華
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: H10K59/12
• 分類號: H10K59/12;H10K59/122;H10K50/844;H10K71/00;G06F3/041;H01L27/15
• 代理公司: 北京風雅頌專利代理有限公司 11403
• 代理人: 車英慧

1.一種顯示基板，包括：

基底；

陣列排布的發光元件，設置在所述基底上；以及

反射結構，設置在所述發光元件的遠離所述基底的一側，并被配置為反射所述發光元件發出的側向光，使得所述側向光能夠從所述顯示基板射出；

像素界定層，設置在所述基底上，并被配置為劃分所述發光元件及所述發光元件的周邊區域；

所述反射結構包括支撐部和反射側面，所述支撐部覆蓋由所述像素界定層限定出的開口區；并且所述支撐部的側面朝向所述開口區傾斜，所述反射側面設置在所述支撐部的側面，所述反射側面用于反射所述發光元件發出的側向光，所述反射側面為半透半反的膜層，所述反射側面用以反射部分側向光，并使部分側向光發生折射；相鄰所述發光元件的反射側面通過反射正面連接，所述反射正面在所述基底上正投影位于所述像素界定層在所述基底上的正投影中。

2.根據權利要求1所述的顯示基板，還包括：

所述反射側面在所述基底上的正投影位于所述發光元件的周邊區域在所述基底上的正投影中。

3.根據權利要求2所述的顯示基板，其中，所述反射側面在所述基底上的正投影環繞或者部分環繞所述發光元件在所述基底上的正投影的周圍。

4.根據權利要求2所述的顯示基板，其中，所述支撐部與所述像素界定層限定出的開口區無重疊；并且所述支撐部的側面向遠離所述開口區的方向傾斜。

5.根據權利要求2所述的顯示基板，還包括：

吸光層，被配置為吸收光路對準所述反射結構的環境光；其中，所述吸光層在所述基底上的正投影位于所述像素界定層在所述基底上的正投影中。

6.根據權利要求1所述的顯示基板，還包括：

封裝層，設置在陣列排布的發光元件上；

所述反射結構位于所述封裝層內。

7.?根據權利要求1所述的顯示基板，還包括：

受光單元，設置在所述基底上，被配置為檢測手指反射光，進行指紋識別；以及

所述反射結構，還被配置為調整手指反射光的方向，使得所述手指反射光能夠被所述受光單元檢測。

8.根據權利要求7所述的顯示基板，其中，所述反射結構包括反射側面；所述反射側面向遠離所述受光單元的方向傾斜。

9.一種顯示裝置，包括權利要求1~8任一項所述的顯示基板。

10.根據權利要求9所述的顯示裝置，其中，所述顯示基板包括封裝層，所述顯示裝置還包括：

觸控層，設置在所述封裝層上；

所述反射結構位于所述觸控層上、所述觸控層內或者所述封裝層和所述觸控層之間。

11.根據權利要求10所述的顯示裝置，其中，

所述反射結構包括反射側面和支撐部；

所述觸控層包括第一觸控電極和觸控絕緣層；所述第一觸控電極位于所述觸控絕緣層上；

所述反射側面和所述第一觸控電極的制作材料為同種材料；所述支撐部和所述觸控絕緣層的制作材料為同種材料。

12.一種對權利要求11所述的顯示裝置的制備方法，包括：

提供包括發光元件的基板；

在所述基板上形成第二觸控電極；

采用半色調掩膜構圖工藝在所述基板和所述第二觸控電極上形成觸控絕緣層及突出所述觸控絕緣層的支撐部；

采用一次構圖工藝形成第一觸控電極和位于所述支撐部的側面的反射側面；

其中，所述反射側面被配置為反射所述發光元件發出的側向光，使得所述側向光能夠從顯示裝置射出。