[發(fā)明專利]涂布在線監(jiān)測(cè)方法、裝置、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110395574.3
• 申請(qǐng)日: 2021-04-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113310619B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-11-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 夏儉波;李青樺;陳志剛;徐鵬飛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 紹興中芯集成電路制造股份有限公司
• 主分類號(hào): G01L11/00
• 分類號(hào): G01L11/00;G01R31/00
• 代理公司: 華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 王程

本申請(qǐng)涉及一種涂布在線監(jiān)測(cè)方法、裝置、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)。其中，涂布在線監(jiān)測(cè)方法包括：獲取涂布機(jī)臺(tái)電磁閥組當(dāng)前的電磁閥動(dòng)作信號(hào)，根據(jù)電磁閥動(dòng)作信號(hào)確定當(dāng)前涂布工作狀態(tài)；獲取涂布腔體的當(dāng)前壓力值；在當(dāng)前壓力值超過(guò)當(dāng)前涂布工作狀態(tài)對(duì)應(yīng)的閾值的情況下，輸出報(bào)警信息。本申請(qǐng)能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)測(cè)涂布腔體管路壓力值，監(jiān)控各涂布工作狀態(tài)的壓力曲線是否異常，從而判斷機(jī)臺(tái)HMDS在哪個(gè)工作進(jìn)程下出現(xiàn)異常，極大地縮小了判斷范圍及復(fù)機(jī)時(shí)間。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種涂布在線監(jiān)測(cè)方法、裝置、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)。

背景技術(shù)

集成電路的制造流程極為復(fù)雜，通常要用到許多化學(xué)制劑；其中，涂膠工藝中所用到的光刻膠大部分都具有疏水性，而晶圓表面的羥基和殘留的水分子則具有親水性。若在晶圓表面直接旋涂光刻膠，會(huì)由于光刻膠和晶片的粘合性較差，可能造成局部的間隙或氣泡，從而可能影響光刻和顯影效果。

目前在涂膠工藝中引入了六甲基二硅氮甲烷(Hexamethyldisilazane，簡(jiǎn)稱HMDS)化學(xué)制劑涂到硅片表面，通過(guò)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物；該化合物是一種表面活性劑，可以將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?即晶圓表面接觸角提高，進(jìn)而提高晶圓表面粘附性)，其疏水基可以很好地與光刻膠結(jié)合，起到耦合的作用；而在后續(xù)顯影的過(guò)程中，由于該化學(xué)制劑增強(qiáng)了光刻膠與基底的粘附力，進(jìn)而有效抑制刻蝕液進(jìn)入掩膜與基底的側(cè)向刻蝕。

在實(shí)現(xiàn)過(guò)程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)傳統(tǒng)技術(shù)中至少存在如下問(wèn)題：目前的Track HMDS方式無(wú)法完成實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)。

發(fā)明內(nèi)容

基于此，有必要針對(duì)上述技術(shù)問(wèn)題，提供一種能夠進(jìn)行實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)的涂布在線監(jiān)測(cè)方法、裝置、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，一方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種涂布在線監(jiān)測(cè)方法，包括：

獲取涂布機(jī)臺(tái)電磁閥組當(dāng)前的電磁閥動(dòng)作信號(hào)，根據(jù)電磁閥動(dòng)作信號(hào)確定當(dāng)前涂布工作狀態(tài)；

獲取涂布腔體的當(dāng)前壓力值；

在當(dāng)前壓力值超過(guò)當(dāng)前涂布工作狀態(tài)對(duì)應(yīng)的閾值的情況下，輸出報(bào)警信息。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，當(dāng)前壓力值為ADH腔體的正負(fù)壓力經(jīng)隔離轉(zhuǎn)換器的透明轉(zhuǎn)換處理得到；

電磁閥動(dòng)作信號(hào)包括以下信號(hào)中的任意一種或任意組合：增粘劑空氣供應(yīng)排放管路電磁閥動(dòng)作信號(hào)、涂布腔體排氣管路電磁閥動(dòng)作信號(hào)以及增粘劑空氣混合注入管路電磁閥動(dòng)作信號(hào)。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，當(dāng)前涂布工作狀態(tài)為涂布腔體抽真空負(fù)壓狀態(tài)、增粘劑空氣混合注入狀態(tài)、增粘涂布狀態(tài)、排氣狀態(tài)或涂布腔體真空釋放狀態(tài)。

一種涂布在線監(jiān)測(cè)裝置，包括：

工作狀態(tài)確認(rèn)模塊，用于獲取涂布機(jī)臺(tái)電磁閥組當(dāng)前的電磁閥動(dòng)作信號(hào)，根據(jù)電磁閥動(dòng)作信號(hào)確定當(dāng)前涂布工作狀態(tài)；

腔體壓力獲取模塊，用于獲取涂布腔體的當(dāng)前壓力值；

報(bào)警模塊，用于在當(dāng)前壓力值超過(guò)當(dāng)前涂布工作狀態(tài)對(duì)應(yīng)的閾值的情況下，輸出報(bào)警信息。

一種涂布在線監(jiān)測(cè)設(shè)備，包括用于獲取涂布腔體壓力的壓力傳感器，以及用于連接涂布機(jī)臺(tái)電磁閥組的處理器；處理器與壓力傳感器相連；

處理器用于實(shí)現(xiàn)上述的方法的步驟。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，壓力傳感器為正負(fù)壓力表；正負(fù)壓力表串接在涂布機(jī)臺(tái)的涂布腔體管路中。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，還包括連接在處理器與壓力傳感器之間的隔離轉(zhuǎn)換器。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，涂布腔體為ADH腔體；電磁閥組包括多個(gè)電磁閥；電磁閥一一對(duì)應(yīng)設(shè)置于相應(yīng)的管道內(nèi)。