[發(fā)明專利]測量裝置及測量方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110395298.0 | 申請日： | 2021-04-13 |
| 公開（公告）號： | CN113108691B | 公開（公告）日： | 2022-12-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳建強(qiáng);曾安;唐壽鴻 | 申請（專利權(quán)）人： | 南京中安半導(dǎo)體設(shè)備有限責(zé)任公司 |
| 主分類號： | G01B9/02015 | 分類號： | G01B9/02015 |
| 代理公司： | 北京布瑞知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11505 | 代理人： | 秦衛(wèi)中 |
| 地址： | 210000 江蘇省南京市自由貿(mào)易試*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 測量 裝置 測量方法 | ||
1.一種測量裝置，其特征在于，包括：分束器和反射系統(tǒng)，其中，
所述分束器用于將光源提供的光束分成射向成像系統(tǒng)的第一光束和射向待測量晶圓的第一表面的第二光束，并將所述第一表面反射回的所述第二光束反射至所述反射系統(tǒng)；
所述反射系統(tǒng)用于將所述第一表面反射回的所述第二光束反射至所述待測量晶圓的與所述第一表面相對的第二表面，并將所述第二表面反射回的所述第二光束反射至所述分束器，以便所述第二表面反射回的所述第二光束穿過所述分束器，射向所述成像系統(tǒng)，其中所述成像系統(tǒng)用于根據(jù)所述第一光束和所述第二表面反射回的所述第二光束獲得干涉圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，所述分束器為偏振分束器，所述測量裝置還包括第一四分之一波片和第二四分之一波片，其中，
所述第一四分之一波片設(shè)置在所述分束器與所述第一表面之間的光路上，其中，在所述第二光束從所述分束器射向所述第一表面的過程中，所述第二光束穿過所述第一四分之一波片，并且，在所述第二光束從所述第一表面反射回所述分束器的過程中，所述第二光束穿過所述第一四分之一波片；
所述第二四分之一波片設(shè)置在所述分束器與所述第二表面之間的光路上，其中，在所述第二光束從所述分束器射向所述第二表面的過程中，所述第二光束穿過所述第二四分之一波片；在所述第二光束從所述第二表面反射回所述分束器的過程中，所述第二光束穿過所述第二四分之一波片。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，還包括：
第一透鏡，設(shè)置在所述光源與所述分束器之間的光路上，用于對所述光束進(jìn)行擴(kuò)散；
第二透鏡，設(shè)置在所述分束器與所述第一表面之間的光路上，用于對從所述分束器射向所述第一表面的所述第二光束進(jìn)行準(zhǔn)直，并用于對從所述第一表面反射回所述分束器的所述第二光束進(jìn)行匯聚；
第三透鏡，設(shè)置在所述分束器與所述反射系統(tǒng)之間的光路上，用于對從所述分束器射向所述反射系統(tǒng)的所述第二光束進(jìn)行準(zhǔn)直，并用于對從所述反射系統(tǒng)射向所述分束器的所述第二光束進(jìn)行擴(kuò)散；
第四透鏡，設(shè)置在所述反射系統(tǒng)與所述第二表面之間的光路上，用于對從所述反射系統(tǒng)射向所述第二表面的所述第二光束進(jìn)行擴(kuò)散，并用于對從所述第二表面反射回所述反射系統(tǒng)的所述第二光束進(jìn)行準(zhǔn)直；
第五透鏡，設(shè)置在所述反射系統(tǒng)與所述第二表面之間的光路上，用于對從所述反射系統(tǒng)射向所述第二表面的所述第二光束進(jìn)行準(zhǔn)直，并用于對從所述第二表面反射回所述反射系統(tǒng)的所述第二光束進(jìn)行匯聚；以及
第六透鏡，設(shè)置在所述分束器與所述成像系統(tǒng)之間的光路上，用于對所述第一光束和所述第二光束進(jìn)行準(zhǔn)直，
其中，在所述第二光束從所述反射系統(tǒng)射向所述第二表面的過程中，所述第二光束依次穿過所述第四透鏡和所述第五透鏡；在所述第二光束從所述第二表面反射回所述反射系統(tǒng)的過程中，所述第二光束依次穿過所述第五透鏡和所述第四透鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的測量裝置，其特征在于，所述反射系統(tǒng)包括多個(gè)反射單元。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的測量裝置，其特征在于，還包括哈特曼傳感器，其中，所述多個(gè)反射單元包括半透射半反射單元，以使得所述第二光束的一部分穿過所述半透射半反射單元射向所述哈特曼傳感器。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的測量裝置，其特征在于，所述第一光束為所述光束被所述分束器反射的部分，所述第二光束為所述光束穿過所述分束器的部分，所述第一光束垂直于所述第二光束；
所述分束器的將所述第二光束反射至所述反射系統(tǒng)的反射平面與所述第一表面的夾角為45度，所述多個(gè)反射單元包括第一反射單元、第二反射單元和第三反射單元，所述分束器的將所述第二光束反射至所述反射系統(tǒng)的反射平面與所述第一反射單元的反射平面垂直，所述第一反射單元的反射平面與所述第二反射單元的反射平面垂直，所述第二反射單元的反射平面與所述第三反射單元的反射平面垂直，所述第三反射單元的反射平面與所述第二表面的夾角呈45度；
所述第二光束沿與所述第一表面垂直的方向射向所述第一表面，并沿與所述第二表面垂直的方向射向所述第二表面。
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