[發(fā)明專利]用于負(fù)壓治療和沖洗的設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110395110.2
• 申請日: 2016-06-27
• 公開（公告）號: CN113058083A
• 公開（公告）日: 2021-07-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蒂莫西·馬克·羅賓遜;克里斯多佛·布賴恩·洛克;詹姆斯·A·呂克邁爾
• 申請（專利權(quán)）人: 凱希特許有限公司
• 主分類號: A61M1/00
• 分類號: A61M1/00;A61M3/02
• 代理公司: 北京安信方達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262
• 代理人: 李慧慧;鄭霞

1.一種用于對組織部位提供負(fù)壓治療和沖洗的系統(tǒng)，包括：

敷件，所述敷件包括組織接口和覆蓋件，其中，所述組織接口是被配置成接觸所述組織部位的歧管，并且所述覆蓋件是被配置成定位在所述歧管上方以形成密封空間的聚合物蓋布；

第一流體接口，所述第一流體接口被配置成流體聯(lián)接至所述密封空間和流體源；

第二流體接口，所述第二流體接口被配置成流體聯(lián)接至所述密封空間和負(fù)壓源；并且，其特征在于

沖洗閥，所述沖洗閥流體聯(lián)接至所述第一流體接口，所述沖洗閥包括：

殼體，所述殼體具有端壁和錐形端；

流體入口，所述流體入口聯(lián)接至所述端壁并且被配置成流體聯(lián)接至所述流體源；

流體出口，所述流體出口聯(lián)接至所述錐形端并且被配置成聯(lián)接至所述負(fù)壓源；

柱塞，所述柱塞被布置在所述殼體中，所述柱塞具有頭部、桿、并且形成流體聯(lián)接至所述流體入口的流體入口腔室和流體聯(lián)接至所述流體出口的流體出口腔室，所述桿具有聯(lián)接至所述頭部的第一端和聯(lián)接至閥構(gòu)件的第二端，其中，所述流體出口腔室是可變體積腔室；

流體通路，所述流體通路被布置在所述柱塞中并且延伸穿過所述頭部、穿過所述桿、并靠近所述柱塞的所述閥構(gòu)件的一側(cè)終止，所述流體通路流體聯(lián)接至所述流體入口和所述流體出口；以及

彈簧，所述彈簧被配置成至少部分地圍繞所述桿并且偏置所述柱塞。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述第一流體接口包括凸緣，所述凸緣被配置成將所述第一流體接口聯(lián)接至所述聚合物蓋布。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述第二流體接口包括凸緣，所述凸緣被配置成將所述第二流體接口聯(lián)接至所述聚合物蓋布。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述第一流體接口包括管，所述管被配置成插入穿過所述聚合物蓋布并且流體聯(lián)接至所述密封空間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述第二流體接口包括管，所述管被配置成插入穿過所述聚合物蓋布并且流體聯(lián)接至所述密封空間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述彈簧被配置成使所述柱塞在第一位置、第二位置和第三位置之間偏置。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中，在所述第一位置時的所述彈簧的長度大于在所述第二位置時的所述彈簧的長度和在所述第三位置時的所述彈簧的長度。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中，在所述第二位置時的所述彈簧的長度大于在所述第三位置時的所述彈簧的長度。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，還包括布置在所述閥構(gòu)件的一側(cè)中的凹槽，所述凹槽被配置成用于在所述閥構(gòu)件定位在所述流體出口中時將所述流體出口流體聯(lián)接至所述可變體積腔室。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，所述凹槽具有在約0.2mm與約0.3mm之間的直徑。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，所述凹槽的大小被確定為在約125mm Hg的負(fù)壓下提供約0.5cc/分鐘的流率。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述流體通路具有在約1mm與約2mm之間的直徑。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述流體通路的大小被確定為在約75mm Hg的負(fù)壓下提供約10cc/分鐘的流率。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述流體源包括靜脈注射流體袋。

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述流體是鹽水。