[發(fā)明專利]金屬化膜及金屬化薄膜電容器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110393018.2 | 申請日： | 2021-04-13 |
| 公開（公告）號： | CN113314341A | 公開（公告）日： | 2021-08-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳淵偉;鄭建林;張聰慧 | 申請（專利權(quán)）人： | 廈門法拉電子股份有限公司 |
| 主分類號： | H01G4/33 | 分類號： | H01G4/33;H01G4/32;H01G4/015;H01G4/14 |
| 代理公司： | 廈門創(chuàng)象知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35232 | 代理人： | 陳文戎 |
| 地址： | 361022 福*** | 國省代碼： | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 金屬化 薄膜 電容器 | ||
1.一種金屬化膜，其特征在于，包括：有機(jī)薄膜層、高方阻層和多根加厚筋條；
其中，所述高方阻層蒸鍍在所述有機(jī)薄膜層一側(cè)，所述多根加厚筋條間隔分布在所述高方阻層相對于所述有機(jī)薄膜層的另一側(cè)；
所述有機(jī)薄膜層的寬度大于所述高方阻層的寬度，以通過所述有機(jī)薄膜層與所述高方阻層之間的寬度差值設(shè)置無鍍層區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的金屬化膜，其特征在于，所述加厚筋條的延伸方向與金屬化膜的纏繞方向平行。
3.如權(quán)利要求1所述的金屬化膜，其特征在于，所述加厚筋條的延伸方向與金屬化膜的纏繞方向垂直。
4.如權(quán)利要求1所述的金屬化膜，其特征在于，還包括：加厚層，所述加厚層設(shè)置在所述高方阻層表面，且與所述加厚筋條位于同一側(cè)。
5.如權(quán)利要求4所述的金屬化膜，其特征在于，所述加厚層與所述多根加厚筋條一體化設(shè)置。
6.如權(quán)利要求1所述的金屬化膜，其特征在于，所述加厚筋條的延伸長度小于等于所述金屬化膜寬度的二分之一。
7.一種金屬化薄膜電容器，其特征在于，包括兩層如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的金屬化膜，所述兩層金屬化膜之間錯位設(shè)置。
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