[發明專利]基于范德華力的壓印脫模裝置及脫模方法

有效

• 申請號: 202110391856.6
• 申請日: 2021-04-13
• 公開（公告）號: CN113085428B
• 公開（公告）日: 2023-03-24
• 發明（設計）人: 郭俊;任明俊;張鑫泉;張哲
• 申請（專利權）人: 霖鼎光學（上海）有限公司
• 主分類號: B44B5/00
• 分類號: B44B5/00;B44B5/02
• 代理公司: 上海泰能知識產權代理事務所(普通合伙) 31233
• 代理人: 錢文斌;宋纓

1.一種基于范德華力的壓印脫模裝置，包括真空腔箱體，所述真空腔箱體內設置有基平臺，所述基平臺用于放置待脫模的模板與薄膜，其特征在于，所述真空腔箱體內還包括升降平臺和起模刀；所述升降平臺在靠近所述基平臺的一面設置有吸附單體，所述吸附單體能夠與所述待脫模的薄膜產生范德華力；所述起模刀用于切入所述待脫模的模板與薄膜的粘合界面，且刀面與所述粘合界面始終保持共面；所述吸附單體包括彈性件和吸附盤，所述彈性件的一端與所述升降平臺相連，另一端與所述吸附盤相連，所述吸附盤與所述待脫模的薄膜接觸的一面為能夠產生范德華力的仿生吸附結構；所述吸附單體有多個，其中，一個吸附單體布置在所述待脫模的模板與薄膜之間粘連力最小的位置，其余吸附單體布置在與所述粘連力最小的位置與所述待脫模的模板的中心位置的連線相互垂直的若干揭開線上；所述粘連力最小的位置為模板與薄膜的邊緣位置；所述揭開線沿著所述邊緣位置與所述待脫模的模板的中心位置的連線均勻分布。

2.根據權利要求1所述的基于范德華力的壓印脫模裝置，其特征在于，所述揭開線的兩端分別布置一個所述吸附單體，兩個所述吸附單體之間均勻分布若干個所述吸附單體。

3.根據權利要求1所述的基于范德華力的壓印脫模裝置，其特征在于，位于升降平臺最外圈的吸附單體的包絡圓與所述待脫模的薄膜的外圓重合。

4.根據權利要求1所述的基于范德華力的壓印脫模裝置，其特征在于，所述升降平臺包括基圓盤，所述基圓盤的中心位置設置有套筒，所述基圓盤的邊緣設置有導向輪轂；所述導向輪轂末端設置有一個通孔，所述通孔與位于所述真空腔箱體內的導柱相配合，所述套筒與位于所述真空腔箱體內的絲杠電機的絲桿螺紋配合，通過絲桿的旋轉帶動升降平臺沿著所述導柱產生上升運動和下降運動。

5.根據權利要求1所述的基于范德華力的壓印脫模裝置，其特征在于，所述起模刀安裝在直線推動器的推桿上，所述直線推動器固定安裝在所述真空腔箱體的內側壁，所述推桿推動所述起模刀切入所述待脫模的模板與薄膜的粘合界面，切入過程中，所述起模刀的刀面始終保持與所述粘合界面共面。

6.根據權利要求1所述的基于范德華力的壓印脫模裝置，其特征在于，所述真空腔箱體的側面設有圓形貫通孔，所述圓形貫通孔上安裝有抽氣管，所述抽氣管的另一端安裝在真空抽氣機上。

7.一種基于范德華力的壓印脫模方法，其特征在于，采用如權利要求1-6中任一所述的壓印脫模裝置，包括以下步驟：

(1)將待脫模的模板與薄膜放置在基平臺的脫模部位；

(2)將所述真空腔箱體調整為真空狀態；

(3)下降所述升降平臺，使得所述吸附單體的底部與所述待脫模的薄模接觸，并在所述吸附單體與所述待脫模的薄膜之間產生范德華力，停止下降所述升降平臺；

(4)起模刀運動到所述待脫模的模板與薄膜的粘合界面處，并沿著粘合界面切入，切入后，起模刀停止運動并保持所在位置；

(5)緩慢上升所述升降平臺，向上的拉力逐漸增大到大于所述起模刀切入點的粘附力，所述起模刀切入點的薄膜與模板脫離，粘附力最小部位傳遞到下一揭開線，升降平臺繼續緩慢上升，拉力繼續增大到大于揭開線處的拉力，使得薄膜與模板分離；

(6)脫模完成，去除薄膜與模板。