[發明專利]用于制備多孔石墨烯膜的方法、多孔石墨烯膜和電極

在審

• 申請號: 202110390441.7
• 申請日: 2021-04-12
• 公開（公告）號: CN113096973A
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 王曉京
• 申請（專利權）人: 王曉京
• 主分類號: H01G11/86
• 分類號: H01G11/86;H01G11/26
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 康志梅;陳偉

1.一種用于制備多孔石墨烯膜的方法，包括：

冷凍干燥氧化石墨烯漿料以形成多孔氧化石墨烯膜，并使用光束和微波照射多孔氧化石墨烯膜以形成多孔還原氧化石墨烯膜。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述氧化石墨烯包括一層或多層多孔氧化石墨烯膜。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，所述多孔氧化石墨烯膜的每一層包括：

多層的多孔氧化石墨烯片；和

位于兩個或多個氧化石墨烯片之間的氧官能團。

4.根據權利要求3所述的方法，其中，包括使用光或者微波照射除去氧化石墨烯片之間的至少一部分含氧官能團。

5.根據權利要求3所述的方法，其中，包括通過照射所述多孔氧化石墨烯膜在所述多孔氧化石墨烯膜中進一步產生孔洞。

6.根據權利要求2所述的方法，其中，包括在照射期間移動所述光束或者輻射束相對于所述多孔氧化石墨烯膜的位置。

7.根據權利要求2所述的方法，其中，氧化石墨烯包括多層多孔氧化石墨烯膜，由透明絕緣介電材料隔離。

8.根據權利要求7所述的方法，其中，通過照射同時還原所述多層氧化石墨烯膜。

9.根據權利要求1所述的方法，其中，所述氧化石墨烯包括氧化石墨烯溶液。

10.根據權利要求9所述的方法，其中，還包括：

將石墨氧化以形成氧化石墨；并在溶劑中剝離氧化石墨以形成氧化石墨烯漿料。

11.根據權利要求1所述的方法，其中，所述光束或輻射束包括連續波(CW)激光束或脈沖激光束。

12.根據權利要求1所述的方法，還包括：

使用形成的還原氧化石墨烯制作還原氧化石墨烯電極。

13.根據權利要求1所述的方法，其中，還包括：

輻射后將集流器連接到還原氧化石墨烯。

14.一種多孔還原氧化石墨烯膜，其通過權利要求1-11中的任一項的方法制得。

15.一種還原氧化石墨烯電極，其通過權利要求1-14中任一項的方法制得。

16.一種電容器，其通過權利要求1至14中任一項所述的方法制造。

17.根據權利要求16所述的電容器，其中，所述電容器是超級電容器。