[發(fā)明專利]一種陶瓷盤清洗設(shè)備

在審

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• 申請日: 2021-04-12
• 公開（公告）號: CN113083838A
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊杰;蔣君;孔玉朋;宋昌萬
• 申請（專利權(quán)）人: 拓思精工科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: B08B9/36
• 分類號: B08B9/36;B08B9/34;B08B9/30;B08B9/42;H01L21/67;H01L21/677;F26B21/00
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1.一種陶瓷盤清洗設(shè)備，其特征在于，包括清洗工位與移載工位；所述清洗工位的數(shù)量為至少一個，所述清洗工位一側(cè)設(shè)置有取料組件，所述移載工位數(shù)量為兩個且分別位于所述清洗工位兩端，所述移載工位關(guān)于所述清洗工位呈對稱設(shè)置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷盤清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗工位包括盒體、用于陶瓷盤外圈定位的外圈定位滾輪、用于陶瓷盤內(nèi)圈定位的內(nèi)圈軸承、用于陶瓷盤刷洗的毛刷、用于陶瓷盤驅(qū)動的驅(qū)動滾輪以及位于所述盒體底部的升降氣缸；所述盒體上設(shè)置有進水口。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種陶瓷盤清洗設(shè)備，其特征在于，所述外圈定位滾輪的數(shù)量為三個且呈外三角分布，所述內(nèi)圈軸承的數(shù)量為三個且呈內(nèi)三角分布。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種陶瓷盤清洗設(shè)備，其特征在于，所述毛刷包括頂部毛刷、底部毛刷與側(cè)毛刷，所述頂部毛刷與陶瓷盤頂部位置對應(yīng)，所述底部毛刷與陶瓷盤底部位置對應(yīng)，所述側(cè)毛刷與陶瓷盤側(cè)面位置對應(yīng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種陶瓷盤清洗設(shè)備，其特征在于，所述驅(qū)動滾輪與陶瓷盤邊緣位置對應(yīng)，所述升降氣缸的活塞桿端設(shè)置有接料塊。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷盤清洗設(shè)備，其特征在于，所述移載工位包括移料小車、用于所述移料小車頂升的第一頂升組件、用于陶瓷盤頂升的第二頂升組件、用于陶瓷盤移載的移載模組以及用于陶瓷盤緩存的緩存組件。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種陶瓷盤清洗設(shè)備，其特征在于，所述移料小車位于所述第一頂升組件的頂升端，所述移料小車內(nèi)的陶瓷盤位于所述第二頂升組件的頂升端，所述移載模組包括無桿氣缸、能夠沿所述無桿氣缸長度方向進行運動的移載直線模組與能夠沿所述移載直線模組長度方向進行運動的移載塊，所述移載塊與所述移載小車位置對應(yīng)，所述緩存組件對陶瓷盤進行緩存。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種陶瓷盤清洗設(shè)備，其特征在于，一移載工位還包括定心組件，所述定心組件包括兩個呈對稱設(shè)置的定心氣缸，所述定心氣缸的活塞桿端設(shè)置有定心塊，所述定心塊為V形塊。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷盤清洗設(shè)備，其特征在于，所述取料組件包括直線驅(qū)動模組與能夠沿所述直線驅(qū)動模組長度方向進行運動的取料治具，所述取料治具包括取料桿以及位于所述取料桿上的取料塊。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種陶瓷盤清洗設(shè)備，其特征在于，所述取料塊數(shù)量為兩個，所述取料塊上設(shè)置有托塊。