[發(fā)明專利]水平井的井眼軌跡校正方法、裝置、設(shè)備和存儲介質(zhì)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110390087.8 | 申請日: | 2021-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN113719236A | 公開(公告)日: | 2021-11-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 高健;王國勇;魏斌;梁治國;熊小林;白森;段志勇;劉吉;沈柏坪;曾番惠;田士偉;鄭麗君;敖蒼穹 | 申請(專利權(quán))人: | 中國石油天然氣集團有限公司;中國石油集團長城鉆探工程有限公司 |
| 主分類號: | E21B7/04 | 分類號: | E21B7/04;E21B44/00;E21B49/00;G06T11/20 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138 | 代理人: | 侯曉雅 |
| 地址: | 100007 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 水平 軌跡 校正 方法 裝置 設(shè)備 存儲 介質(zhì) | ||
本申請?zhí)峁┝艘环N水平井的井眼軌跡校正方法、裝置、設(shè)備和存儲介質(zhì),屬于石油勘探與開發(fā)技術(shù)領(lǐng)域。方法包括:基于化學(xué)元素參數(shù)和筆石參數(shù),分別確定待研究儲層的巖相圖和筆石圖;基于巖相圖和筆石圖,確定第一對比圖;基于筆石圖和第一測井曲線,確定第二對比圖;基于待研究儲層的每個地層的化學(xué)元素參數(shù),確定待研究儲層的目標(biāo)儲層;基于第一對比圖,確定目標(biāo)儲層的目標(biāo)巖相類型和目標(biāo)筆石類型;基于第二測井曲線、第二對比圖、隨鉆曲線和隨鉆解釋曲線,確定鉆井地層的巖相類型和筆石類型;基于鉆井地層的巖相類型和筆石類型與目標(biāo)巖相類型和目標(biāo)筆石類型的差別,調(diào)整目標(biāo)井的井眼軌跡,使井眼軌跡對準(zhǔn)目標(biāo)儲層,提高了待研究儲層的開發(fā)效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及石油勘探與開發(fā)技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種水平井的井眼軌跡校正方法、裝置、設(shè)備和存儲介質(zhì)。
背景技術(shù)
頁巖氣是儲存于頁巖儲層中的非常規(guī)天然氣;開發(fā)頁巖氣時,主要通過地質(zhì)綜合評價技術(shù)來指導(dǎo)頁巖儲層的水平井鉆井工作,使鉆井時能夠按照預(yù)設(shè)的井眼軌跡,鉆至頁巖儲層中富含頁巖氣的目標(biāo)儲層。由于水平井鉆井時的井眼軌跡與目標(biāo)儲層會存在誤差,因此需要校正水平井的井眼軌跡。
相關(guān)技術(shù)中,在鉆井完成后采用地質(zhì)分析化驗、地球物理測井等手段測得水平井的井眼軌跡,然后基于水平井的井眼軌跡與目標(biāo)儲層的存在的誤差,調(diào)整水平井的井眼軌跡。
由于評價頁巖儲層的地質(zhì)分析化驗、地球物理測井等手段基本在鉆井完成后進行,這樣,無法實現(xiàn)水平井鉆井過程中的隨鉆評價,即不能在鉆井過程中調(diào)整水平井的井眼軌跡,因此不能保證鉆井時井眼軌跡與目標(biāo)儲層的鉆遇率,導(dǎo)致后期需要大幅度調(diào)整鉆井過程中的井眼軌跡,進而影響鉆井作業(yè)的施工,使得頁巖氣的開發(fā)效率低。
發(fā)明內(nèi)容
本申請實施例提供了一種水平井的井眼軌跡校正方法和裝置,能夠提高頁巖氣的開發(fā)效率。所述技術(shù)方案如下:
一方面,提供了一種水平井的井眼軌跡校正方法,所述方法包括:
獲取待研究儲層的化學(xué)元素參數(shù)、筆石參數(shù)和第一測井曲線;
基于所述化學(xué)元素參數(shù),確定所述待研究儲層的巖相圖,所述巖相圖包括所述待研究儲層的每個位置深度的巖相類型和地層參數(shù);
基于所述筆石參數(shù),確定所述待研究儲層的筆石圖,所述筆石圖包括所述待研究儲層的每個位置深度的筆石類型和筆石分層參數(shù);
基于所述巖相圖和所述筆石圖,確定第一對比圖,所述第一對比圖包括所述每個位置深度的巖相類型、地層參數(shù)、筆石類型和筆石分層參數(shù);
基于所述筆石圖和所述第一測井曲線,確定第二對比圖,所述第二對比圖包括所述每個位置深度的筆石類型、筆石分層參數(shù)和第一測井曲線;
基于所述待研究儲層的每個地層的化學(xué)元素參數(shù),確定所述待研究儲層的目標(biāo)儲層;
基于所述第一對比圖,確定所述目標(biāo)儲層的目標(biāo)巖相類型和目標(biāo)筆石類型;
獲取所述待研究儲層的隨鉆解釋曲線,所述隨鉆解釋曲線包括所述每個位置深度的巖相類型、地層參數(shù)、第一元素錄井曲線和第一自然伽馬曲線;
獲取所述待研究儲層的目標(biāo)井鉆井時的井眼軌跡所在鉆井地層的第二測井曲線和隨鉆曲線,所述隨鉆曲線包括第二元素錄井曲線和第二自然伽馬曲線;
基于所述第二測井曲線、所述第二對比圖、所述隨鉆曲線和所述隨鉆解釋曲線,確定所述鉆井地層的巖相類型和筆石類型;
基于所述鉆井地層的巖相類型和筆石類型與所述目標(biāo)巖相類型和所述目標(biāo)筆石類型的差別,調(diào)整所述目標(biāo)井的井眼軌跡,使所述井眼軌跡對準(zhǔn)所述目標(biāo)儲層。
在一種可能的實現(xiàn)方式中,所述基于所述第二測井曲線、所述第二對比圖、所述隨鉆曲線和所述隨鉆解釋曲線,確定所述鉆井地層的巖相類型和筆石類型,包括:
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