[發(fā)明專利]一種特征確定方法、裝置、電子設(shè)備以及存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110389145.5
• 申請(qǐng)日: 2021-04-12
• 公開（公告）號(hào): CN113112406B
• 公開（公告）日: 2023-01-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李依明;李孟帆
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山東邁科顯微生物科技有限公司
• 主分類號(hào): G06T3/40
• 分類號(hào): G06T3/40;G02B21/00;G02B21/36
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 潘登

1.一種特征確定方法，其特征在于，包括：

根據(jù)樣本點(diǎn)的特征信息，構(gòu)建貝塞爾曲線；

根據(jù)貝塞爾曲線上的點(diǎn)、樣本點(diǎn)與樣本圖像之間的關(guān)系和待定位圖像，確定待定位圖像的目標(biāo)樣本圖像；

將目標(biāo)樣本圖像對(duì)應(yīng)的樣本點(diǎn)的特征信息，作為待定位圖像所對(duì)應(yīng)的點(diǎn)的特征信息；

所述根據(jù)貝塞爾曲線上的點(diǎn)、樣本點(diǎn)與樣本圖像之間的關(guān)系和待定位圖像，確定待定位圖像的目標(biāo)樣本圖像，包括：

從貝塞爾曲線上的點(diǎn)中取一點(diǎn)，作為目標(biāo)點(diǎn)；

根據(jù)樣本點(diǎn)與樣本圖像之間的關(guān)系，確定所述目標(biāo)點(diǎn)的預(yù)測(cè)圖像；

計(jì)算所述目標(biāo)點(diǎn)的預(yù)測(cè)圖像和所述待定位圖像之間的距離；

根據(jù)所述距離，確定待定位圖像的目標(biāo)樣本圖像；

所述根據(jù)所述距離，確定待定位圖像的目標(biāo)樣本圖像，包括：

若距離大于預(yù)設(shè)值，則基于所述目標(biāo)點(diǎn)的特征信息，計(jì)算殘差函數(shù)的導(dǎo)數(shù)，以確定下一預(yù)測(cè)點(diǎn)與所述目標(biāo)點(diǎn)之間的位置關(guān)系；其中，殘差函數(shù)根據(jù)貝塞爾曲線上的點(diǎn)、樣本點(diǎn)與樣本圖像之間的關(guān)系和待定位圖像構(gòu)建；

根據(jù)下一預(yù)測(cè)點(diǎn)與所述目標(biāo)點(diǎn)之間的特征關(guān)系，從貝塞爾曲線上的點(diǎn)中確定下一預(yù)測(cè)點(diǎn)，作為目標(biāo)點(diǎn)，并返回執(zhí)行計(jì)算所述目標(biāo)點(diǎn)的預(yù)測(cè)圖像和所述待定位圖像之間的距離的過程，直至距離小于預(yù)設(shè)值；

將所述目標(biāo)點(diǎn)的預(yù)測(cè)圖像作為待定位圖像的目標(biāo)樣本圖像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，計(jì)算殘差函數(shù)的導(dǎo)數(shù)，包括：

計(jì)算殘差函數(shù)的雅可比行列式或黑塞矩陣。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，根據(jù)貝塞爾曲線上的點(diǎn)、樣本點(diǎn)與樣本圖像之間的關(guān)系和待定位圖像，確定待定位圖像的目標(biāo)樣本圖像，包括：

從貝塞爾曲線上的點(diǎn)中，確定預(yù)設(shè)數(shù)量的候選點(diǎn)；

根據(jù)樣本點(diǎn)與樣本圖像之間的關(guān)系，確定所述候選點(diǎn)的候選圖像；

根據(jù)所述候選圖像與所述待定位圖像之間的距離，從所述候選圖像中確定所述待定位圖像的目標(biāo)樣本圖像。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述特征信息為位置信息。

5.一種特征確定裝置，其特征在于，包括：

曲線構(gòu)建模塊，用于根據(jù)樣本點(diǎn)的特征信息，構(gòu)建貝塞爾曲線；

目標(biāo)樣本圖像確定模塊，用于根據(jù)貝塞爾曲線上的點(diǎn)、樣本點(diǎn)與樣本圖像之間的關(guān)系和待定位圖像，確定待定位圖像的目標(biāo)樣本圖像；

特征信息確定模塊，用于將目標(biāo)樣本圖像對(duì)應(yīng)的樣本點(diǎn)的特征信息，作為待定位圖像所對(duì)應(yīng)的點(diǎn)的特征信息；

所述目標(biāo)樣本圖像確定模塊，包括：

目標(biāo)點(diǎn)確定單元，用于從貝塞爾曲線上的點(diǎn)中取一點(diǎn)，作為目標(biāo)點(diǎn)；

預(yù)測(cè)圖像確定單元，用于根據(jù)樣本點(diǎn)與樣本圖像之間的關(guān)系，確定所述目標(biāo)點(diǎn)的預(yù)測(cè)圖像；

距離確定單元，用于計(jì)算所述目標(biāo)點(diǎn)的預(yù)測(cè)圖像和所述待定位圖像之間的距離；

目標(biāo)樣本圖像確定單元，用于根據(jù)所述距離，確定待定位圖像的目標(biāo)樣本圖像；

所述目標(biāo)樣本圖像確定單元包括位置關(guān)系確定子單元和目標(biāo)樣本圖像確定子單元，其中，

所述位置關(guān)系確定子單元，用于若距離大于預(yù)設(shè)值，則基于目標(biāo)點(diǎn)的特征信息，計(jì)算殘差函數(shù)的導(dǎo)數(shù)，以確定下一預(yù)測(cè)點(diǎn)與目標(biāo)點(diǎn)之間的位置關(guān)系；其中，殘差函數(shù)根據(jù)貝塞爾曲線上的點(diǎn)、樣本點(diǎn)與樣本圖像之間的關(guān)系和待定位圖像構(gòu)建；

目標(biāo)點(diǎn)確定子單元，用于根據(jù)下一預(yù)測(cè)點(diǎn)與目標(biāo)點(diǎn)之間的特征關(guān)系，從貝塞爾曲線上的點(diǎn)中確定下一預(yù)測(cè)點(diǎn)，作為目標(biāo)點(diǎn)，并返回執(zhí)行計(jì)算目標(biāo)點(diǎn)的預(yù)測(cè)圖像和待定位圖像之間的距離的過程，直至距離小于預(yù)設(shè)值；

所述目標(biāo)樣本圖像確定子單元，用于將目標(biāo)點(diǎn)的預(yù)測(cè)圖像作為待定位圖像的目標(biāo)樣本圖像。

6.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括：

一個(gè)或多個(gè)處理器；

存儲(chǔ)器，用于存儲(chǔ)一個(gè)或多個(gè)程序；

當(dāng)所述一個(gè)或多個(gè)程序被所述一個(gè)或多個(gè)處理器執(zhí)行，使得所述一個(gè)或多個(gè)處理器實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的特征確定方法。

7.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，該程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的特征確定方法。