[發明專利]顯示面板及其制作方法在審
| 申請號: | 202110388725.2 | 申請日: | 2021-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN113193138A | 公開(公告)日: | 2021-07-30 |
| 發明(設計)人: | 段廷原 | 申請(專利權)人: | TCL華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人: | 杜蕾 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 及其 制作方法 | ||
1.一種顯示面板,包括顯示區域和與所述顯示區域相鄰的非顯示區域,其特征在于,所述顯示面板包括:
基板;
第一間隔物,設于所述非顯示區;以及
第二間隔物,設于所述顯示區,
其中,所述第一間隔物背向所述基板的一端與所述基板之間的距離大于所述第二間隔物背向所述基板的一端與所述基板之間的距離,所述第一間隔物用以在蒸鍍時限位掩模板。
2.根據權利要求1所述顯示面板,其特征在于,還包括:
像素定義層,設于所述顯示區域,并設于所述基板之上;以及
裂紋阻擋部,設于所述非顯示區域,并設于所述基板上,
其中所述第一間隔物設于所述裂紋阻擋部上,并且所述第二間隔物設于所述像素定義層上。
3.根據權利要求2所述顯示面板,其特征在于,所述第一間隔物在所述基板上的投影的寬度小于所述裂紋阻擋部在所述基板上的投影的寬度。
4.根據權利要求2所述顯示面板,其特征在于,還包括平坦化層,所述平坦化層設于所述基板和所述像素定義層之間,并且,所述平坦化層設有缺口,所述裂紋阻擋部設于所述缺口之中。
5.根據權利要求4所述顯示面板,其特征在于,還包括:
陽極,設于所述平坦化層上,并與所述像素定義層間隔開;以及
薄膜封裝層,覆蓋所述像素定義層和所述陽極。
6.根據權利要求4所述顯示面板,其特征在于,所述第一間隔物與所述第二間隔物具有相同的高度,所述裂紋阻擋部的高度大于所述像素定義層和所述平坦化層的高度。
7.根據權利要求2所述顯示面板,其特征在于,所述第一間隔物與所述第二間隔物同層地設置。
8.根據權利要求1至7中任一項所述顯示面板,其特征在于,所述第一間隔物的材料為無機物。
9.一種顯示面板的制作方法,其特征在于,包括如下步驟:
提供一基板,所述顯示面板包括顯示區域和與所述顯示區域相鄰的非顯示區域;
在所述非顯示區形成第一間隔物;以及
在所述顯示區形成第二間隔物,
其中,所述第一間隔物背向所述基板的一端與所述基板之間的距離大于所述第二間隔物背向所述基板的一端與所述基板之間的距離,所述第一間隔物用以在蒸鍍時限位掩模板。
10.根據權利要求9所述顯示面板的制作方法,其特征在于,還包括如下步驟:
在所述基板之上形成像素定義層,其中所述像素定義層設于所述顯示區域;以及
在所述基板上形成裂紋阻擋部,其中所述裂紋阻擋部設于所述非顯示區域,
其中,所述第一間隔物設于所述裂紋阻擋部上,并且所述第二間隔物設于所述像素定義層上。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





