[發明專利]一種擴張輻射流動機構有效
| 申請號： | 202110387919.0 | 申請日： | 2021-04-09 |
| 公開（公告）號： | CN112943753B | 公開（公告）日： | 2022-06-24 |
| 發明（設計）人： | 黎鑫;余徐波 | 申請（專利權）人： | 浙江大學 |
| 主分類號： | F15D1/00 | 分類號： | F15D1/00 |
| 代理公司： | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人： | 萬尾甜;韓介梅 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 擴張 輻射 流動 機構 | ||
1.一種擴張輻射流動機構，其特征在于，所述機構具有底面，且在所述底面上設有流體供給口，在使用時，使所述機構的底面與被吸附物體表面形成縫隙，流體由所述流體供給口流出進入所述縫隙并沿縫隙向外流動，所述縫隙為擴張縫隙，滿足如下：以所述流體供給口作為流動的起始點，存在一段徑向長度，在該長度內沿著徑向方向向外，所述縫隙的高度不斷變大。
2.根據權利要求1所述的擴張輻射流動機構，其特征在于，所述的被吸附物體的表面為平面。
3.根據權利要求1所述的擴張輻射流動機構，其特征在于，所述機構的底面為平面。
4.根據權利要求1所述的擴張輻射流動機構，其特征在于，在所述徑向長度內，沿著徑向方向向外，所述縫隙的高度呈線性增大。
5.根據權利要求4所述的擴張輻射流動機構，其特征在于，在所述徑向長度之外，沿著徑向方向向外，所述縫隙的高度保持不變。
6.根據權利要求1所述的擴張輻射流動機構，其特征在于，在所述徑向長度內，沿著徑向方向向外，所述縫隙的高度呈非線性增大。
7.根據權利要求6所述的擴張輻射流動機構，其特征在于，在所述徑向長度之外，沿著徑向方向向外，所述縫隙的高度保持不變。
8.根據權利要求1所述的擴張輻射流動機構，其特征在于，所述縫隙滿足如下：以所述流體供給口作為流動的起始點，沿著徑向方向向外，所述縫隙高度持續呈線性增大。
9.根據權利要求1-8任一項所述的擴張輻射流動機構，其特征在于，所述的徑向長度是擴張縫隙的流體入口處縫隙高度的10倍或以上。
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