[發(fā)明專利]一種基于SPR傳感裝置的真空全壓力測(cè)量方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110386437.3
• 申請(qǐng)日: 2021-04-12
• 公開（公告）號(hào): CN113108984A
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊志韜;汪世杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 哈爾濱理工大學(xué)
• 主分類號(hào): G01L21/00
• 分類號(hào): G01L21/00;G01N21/59
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種基于SPR技術(shù)的真空全壓力測(cè)量方法，其特征在于：所述方法是應(yīng)用SPR技術(shù)實(shí)現(xiàn)真空全壓力測(cè)量。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于SPR技術(shù)的真空全壓力測(cè)量方法，其特征在于該技術(shù)可使用角度調(diào)制型SPR傳感器實(shí)現(xiàn)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于SPR技術(shù)的真空全壓力測(cè)量方法，其特征在于所述結(jié)構(gòu)包括：真空室(1)、光源(2)、起偏器(3)、SPR測(cè)試裝置(4)、光纖(5)、電荷耦臺(tái)器件(CCD)檢測(cè)器(6)、計(jì)算機(jī)(7)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的光源(2)的波長(zhǎng)為632.8nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的SPR測(cè)試裝置(4)包括：棱鏡(4-1)、金膜(4-2)、待測(cè)介質(zhì)層(4-3)、步進(jìn)電機(jī)(4-4)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的SPR測(cè)試裝置(4)，其特征在于：所述的金膜(4-2)厚度為50nm，介電常數(shù)為ε_Au＝-11.740+1.26i。

7.根據(jù)權(quán)利要求要求3所述的SPR測(cè)試裝置(4)，其特征在于所述的步進(jìn)電機(jī)(4-4)用于改變?nèi)肷浣嵌龋葹?.00001°。