[發明專利]勻光裝置及方法、光源裝置和投影系統有效
| 申請號： | 202110378344.6 | 申請日： | 2021-04-08 |
| 公開（公告）號： | CN113189832B | 公開（公告）日： | 2022-06-17 |
| 發明（設計）人： | 葛明星;陳龍 | 申請（專利權）人： | 無錫視美樂激光顯示科技有限公司 |
| 主分類號： | G03B21/20 | 分類號： | G03B21/20;G02B27/14;G02B27/28 |
| 代理公司： | 北京市磐華律師事務所 11336 | 代理人： | 趙楠 |
| 地址： | 214200 江蘇省無錫市宜興經濟*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 裝置 方法 光源 投影 系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種光源裝置，其特征在于，包括：
激發光源、勻光裝置和波長轉換裝置，所述勻光裝置設置在所述激發光源與所述波長轉換裝置之間；
所述勻光裝置包括在光路上依次設置的分光裝置和透鏡陣列，
所述分光裝置用于對第一光束進行分光以獲得多個第二光束；
所述分光裝置包括由多個反射鏡片構成的陣列，所述第一光束經所述多個反射鏡片反射后獲得所述多個第二光束；以及
所述透鏡陣列，用于將入射的所述多個第二光束分成更多束分別進行整形，以轉變成第三光束。
2.根據權利要求1所述的光源裝置，其特征在于，所述多個第二光束的光束形狀與所述第一光束基本一致，所述多個第二光束之間的間距互不相等。
3.根據權利要求1或2所述的光源裝置，其特征在于，所述多個第二光束之間按照同一個方向分布。
4.根據權利要求3所述的光源裝置，其特征在于，所述多個第二光束之間的間距不等于所述透鏡陣列中每個透鏡之間在特定方向上的間距的整數倍，所述特定方向指所述多個第二光束的分布的方向。
5.根據權利要求1所述的光源裝置，其特征在于，所述多個反射鏡片采用分光鍍膜片或偏振片，用于滿足不同比例的透反射。
6.一種投影系統，其特征在于，包括根據權利要求1-5中任一項所述的光源裝置。
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