[發(fā)明專利]一種高溫半透明材料光學(xué)特性多參數(shù)同時(shí)辨識(shí)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110377004.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113218872B | 公開(公告)日: | 2022-05-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李可夫;朱澤宇;于薇;周建華;朱春英;丁玎;吳小芳;謝浪;齊宏 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北華航天工業(yè)學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | G01N21/17 | 分類號(hào): | G01N21/17;G01N21/31;G01N21/41;G01N21/47 |
| 代理公司: | 哈爾濱市陽光惠遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 23211 | 代理人: | 鄧宇 |
| 地址: | 065000 *** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高溫 半透明 材料 光學(xué) 特性 參數(shù) 同時(shí) 辨識(shí) 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種高溫半透明材料光學(xué)特性多參數(shù)同時(shí)辨識(shí)方法,屬于高溫材料熱物性測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明解決現(xiàn)有高溫情況下光譜透過率測(cè)量受雜散光、溫度均勻性等影響而具有難以預(yù)測(cè)的復(fù)雜性的問題。本發(fā)明建立基于優(yōu)化LOA算法的反演模型來計(jì)算高溫情況下半透明材料高溫光譜方向表觀發(fā)射率,該方法計(jì)算得到的表觀方向發(fā)射率與實(shí)驗(yàn)的測(cè)量值吻合較好。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種高溫半透明材料光學(xué)特性多參數(shù)同時(shí)辨識(shí)方法,屬于高溫材料熱物性測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
半透明材料在很多領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用,如紅外光學(xué)探測(cè)中的窗口材料。紅外光學(xué)探測(cè)具有空間分辨率高、靈敏度高、抗干擾能力強(qiáng)、復(fù)雜背景條件下工作能力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),因此紅外成像制導(dǎo)技術(shù)得到了廣泛應(yīng)用。隨著飛行器飛行速度越來越快,制導(dǎo)環(huán)境變得越來越惡劣,傳統(tǒng)的制導(dǎo)技術(shù)已不能滿足要求。
受高速流場(chǎng)摩擦對(duì)光學(xué)窗口的氣動(dòng)加熱影響,光學(xué)窗口會(huì)產(chǎn)生高溫和變形,導(dǎo)致折射率、吸收系數(shù)及散射系數(shù)等光學(xué)特性參數(shù)分布不均勻,在視場(chǎng)內(nèi)引入光程差,嚴(yán)重影響成像質(zhì)量;高溫窗口的熱輻射效應(yīng)形成輻射干擾,甚至淹沒目標(biāo)信號(hào)而不能接收目標(biāo)輻射,嚴(yán)重降低制導(dǎo)精度。因此,需要對(duì)半透明光學(xué)窗口介質(zhì)的折射率、吸收系數(shù)及散射系數(shù)等光譜物性同時(shí)進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量。
基于反演技術(shù)的輻射物性參數(shù)重建具有高度非線性、不適定性和低效性等問題,目前尚沒有一種反演技術(shù)和重建模型能夠有效解決多參數(shù)重建問題,特別是對(duì)于多參數(shù)場(chǎng)的同時(shí)重建,其病態(tài)性、多值性及串?dāng)_問題至今未得到徹底解決。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決現(xiàn)有高溫情況下光譜透過率測(cè)量受雜散光、溫度均勻性等影響而具有難以預(yù)測(cè)的復(fù)雜性的問題,提供一種高溫半透明材料光學(xué)特性多參數(shù)同時(shí)辨識(shí)方法。
本發(fā)明的技術(shù)方案:
一種高溫半透明材料光學(xué)特性多參數(shù)同時(shí)辨識(shí)方法,該方法包括以下步驟:
步驟1,通過實(shí)驗(yàn)方法獲得角度為θ1,θ2,θ3,θ4半透明材料光譜方向表觀發(fā)射率測(cè)量值εi(λ,θ),i=1,2,3,4;
步驟2,根據(jù)輻射傳輸逆問題求解算法,假設(shè)半透明試件的光譜折射率為n′λ、光譜吸收系數(shù)為κ′λ和光譜漫反射率為ρ′dλ,通過求解輻射傳輸方程計(jì)算得到該半透明材料的光譜方向表觀發(fā)射率估計(jì)值ε′i(λ,θ);
步驟3,將步驟1得到的半透明材料光譜方向表觀發(fā)射率測(cè)量值εi(λ,θ)和步驟2得到的半透明材料的光譜方向表觀發(fā)射率估計(jì)值ε′i(λ,θ)代入如下目標(biāo)函數(shù)計(jì)算公式,計(jì)算得到目標(biāo)函數(shù)值Fobj,目標(biāo)函數(shù)為:
步驟4,判斷步驟3獲得的目標(biāo)函數(shù)值Fobj是否小于設(shè)定閾值ξ,若目標(biāo)函數(shù)值Fobj小于或等于設(shè)定閾值ξ,則步驟2中所假設(shè)的半透明試件的光譜折射率n′λ、光譜吸收系數(shù)κ′λ和光譜漫反射率為ρ′dλ即為該半透明試件的真實(shí)光譜折射率nλ、光譜吸收系數(shù)κλ和光譜漫反射率為;
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





