[發明專利]一種DNA合成儀及合成方法

在審

• 申請號: 202110376131.X
• 申請日: 2021-04-08
• 公開（公告）號: CN113103578A
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發明（設計）人: 周夫之;王羿;何萍萍;陳浩;王海陽;施德盛;葉明漢
• 申請（專利權）人: 上海睿度光電科技有限公司
• 主分類號: B29C64/20
• 分類號: B29C64/20;B29C64/35;B29C64/393;B08B15/00;F26B21/00;B33Y30/00;B33Y40/20;B33Y50/02
• 代理公司: 上海三方專利事務所(普通合伙) 31127
• 代理人: 吳瑋;徐成澤

本發明涉及DNA合成技術領域，具體來說是一種DNA合成儀及合成方法，包括：噴頭打印設備；沖淋風干設備；防護設備；底板打印設備；以及正壓氣源和負壓氣源，正壓氣源連通至噴頭和風刀組件，負壓氣源連通至所述的抽氣管路、排液孔和噴頭。本發明通過運動控制卡、電驅動控制器、正壓氣源、負壓氣源的配合使用，實現對噴頭打印設備機構的運動控制和電驅動控制。能對工位上的待清洗物進行清洗，實現風淋和風干的功能；承載機構具有自動吸附待清洗物的功能，能夠實現待清洗物的固定；能防止清洗液污染其他工位和設備；能實現廢液的快速回收，將廢液迅速抽離，防止在承載機構的堆積；且能將殘余氣體抽走，減小對外部環境的影響，防止廢液蒸汽污染工作環境。

技術領域

本發明涉及DNA合成技術領域，具體來說是一種DNA合成儀及合成方法。

背景技術

DNA合成儀是能自動進行化學合成的儀器，能按設計自動連接氨基酸和/或核苷酸。

在對基材進行相關的操作前，需要對基材進行清洗，這是由于基材自身的潔凈程度對后續的操作、及操作完成后的產品品質有著至關重要的影響。而現有清洗裝置，在對基材進行清洗后，會有液體殘留在承載基材的承載機構上，并且清洗過程中還會產生蒸汽氣體，殘留的液體和蒸汽氣體將對工作環境進行污染，而將清洗過程中產生的殘留液體和氣體隨意排放還將對外部環境造成污染。

同時，在清洗過程中，高壓的清洗液將對基材產生沖擊，從而使得基材發生位移甚至從承載機構脫落。

然而，如果設置防止殘留液體堆積、蒸汽排放的結構，則將使得DNA合成儀的結構和控制變得更為復雜，不易于DNA合成儀的生產裝配和使用。

發明內容

本發明的目的在于解決現有技術的不足，提供一種DNA合成儀及合成方法，解決下述技術問題中的至少一種：清洗后殘留液體堆積在產品下側難以即時回收的問題；清洗后對工作環境的污染問題；廢液、廢氣排放污染外部環境的問題；清洗過程中產品難以固定的問題。

為了實現上述目的，設計一種DNA合成儀，包括：噴頭打印設備，包括噴頭運動模塊、噴頭信號驅動模塊、噴頭氣路模塊、儲液瓶組及與儲液瓶組相連的噴頭；沖淋風干設備，包括風刀組件、清洗噴管組件；防護設備，所述的防護設備包括設置于所述的沖淋風干設備的周向的防護罩，以及連通至防護罩內的抽氣管路；設置于所述的噴頭打印設備和沖淋風干設備下側的底板打印設備，包括運動機構和與運動機構相連的承載機構，所述的承載機構設有用于承載產品的承載位，所述的承載位內設有排液孔，所述的運動機構能帶動承載機構在噴頭打印設備和沖淋風干設備間運動；以及正壓氣源和負壓氣源，所述的正壓氣源連通至所述的噴頭和風刀組件，所述的負壓氣源連通至所述的抽氣管路、排液孔和噴頭。

本發明還具有如下優選的技術方案：

所述的正壓氣源與所述的噴頭和風刀組件之間，減壓閥和壓力傳感器。

所述的負壓起源和所述的抽氣管路、排液孔和噴頭之間，分別設有電磁閥。

所述的噴頭連接有三通電磁閥，所述的三通電磁閥的另兩個通路分別連接正壓氣源和負壓氣源。

所述的噴頭打印設備還包括數值觀測機構，用于觀測打印結果。

所述的防護罩的內側設有周向風管，所述的周向風管的出風方向為由上至下傾斜地指向所述的防護機構的方向。

所述的承載位的底部設有傾斜的排液面，所述的排液面的底部設有所述的排液孔。

所述的承載位內設有若干個用于承載待清洗物的支臺，所述的支臺上對應于所述的待清洗物的邊沿設有擋邊。

所述的承載位內設有負壓吸附組件，所述的負壓吸附組件與負壓氣源相連，用于固定所述的產品。