[發明專利]一種快速查找表線長模型可微化方法

有效

• 申請號: 202110375367.1
• 申請日: 2021-04-08
• 公開（公告）號: CN112800706B
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發明（設計）人: 陳剛;駱晨鐘
• 申請（專利權）人: 南京集成電路設計服務產業創新中心有限公司
• 主分類號: G06F30/3308
• 分類號: G06F30/3308
• 代理公司: 北京德崇智捷知識產權代理有限公司 11467
• 代理人: 王金雙

一種快速查找表線長模型可微化方法，包括以下步驟：基于快速查找表線長模型，將快速查找表模型轉換為半周長模型和雙點模型的和；對半周長模型和雙點模型分別進行可微化，實現對快速查找表模型的可微化。本發明的快速查找表線長模型可微化方法，通過解析法布局器在布局后進行實際全局繞線，其繞線長度比沒有使用可微化快速查找表線長模型的解析法布局器的繞線長度要短，實現了對實際繞線長度的更好的逼近。

技術領域

本發明涉及半導體集成電路設計技術領域，特別是涉及半導體集成電路設計工具后端布局中線長優化模型。

背景技術

在半導體集成電路設計中，有多種解析法線長優化模型，典型的方法有基于半周長的解析法線長優化模型和基于最小生成樹的解析法線長優化模型，不同的線長模型對實際繞線的逼近程度不同，在布局器中的運行效果也不盡相同。解析法線長優化模型所追求的目標就是在保證優化模型數學完整性的基礎上盡可能地逼近實際的繞線長度。

解析法布局器在布局中起著至關重要的作用。一個既能保證數學完備性，又能夠盡可能地逼近實際繞線長度的解析法線長優化模型是很重要的。對于現代集成電路后端布局，一個好的線長優化模型能夠為客戶帶來可觀的芯片性能的提升，同時降低成本。

隨著集成電路設計工藝技術的不斷提升，客戶對芯片功耗性能以及成本要求的不斷提高，芯片設計者對后端設計軟件的要求也在不斷提高。因此后端布局器包括線長優化模型都需要同步進行提升，設計更先進的線長優化模型也就自然成了后端布局器設計中比較重要的一部分。

現有技術中，比較流行的解析法線長優化模型為基于半周長模型的解析法線長優化模型，主要原因是其計算簡單效率高。然而其缺點也十分明顯，就是對實際繞線長度的逼近程度比較差。也有論文指出一些對半周長模型的改進方法，然后其僅僅是對誤差的一種修正，沒有真正從數學角度去逼近實際繞線長度。基于最小生成樹的解析法線長優化模型也是一種常用的方法，其對實際繞線的逼近程度相對于半周長模型有了大大提高，然而同快速查找表線長模型相比，其對實際繞線長度的逼近程度又有一定的差距。沒有進行可微化的快速查找表線長模型是不能直接用于解析法布局器的。

基于半周長模型的解析法線長優化模型對實際繞線長度的逼近程度較低，因此也帶來了后續流程中的更多不確定性。基于最小生成樹線長模型的解析法線長優化模型在對實際繞線長度的逼近程度上有所提高，但相對于快速查找表線長模型仍有一定差距。快速查找表模型對實際繞線長度的逼近程度高，但是沒有可微化模型，因此不能直接用于解析法布局器。

發明內容

為了解決現有技術存在的不足，本發明的目的在于提供一種快速查找表線長模型可微化方法，將快速查找表線長模型進行可微化，從而設計出一套可以在解析法布局器中使用的解析法線長優化模型，提高對實際繞線的逼近程度。

為實現上述目的，本發明提供的一種快速查找表線長模型可微化方法，包括以下步驟：

基于快速查找表線長模型，將快速查找表線長模型轉換為半周長模型和雙點模型的和；

對半周長模型和雙點模型分別進行可微化，實現對快速查找表模型的可微化。

進一步的，所述基于快速查找表線長模型，將快速查找表模型轉換為半周長模型和雙點模型的和的步驟，還包括，根據模型線網生成哈南網格，根據哈南網格得到快速查找表線長。

進一步的，所述根據哈南網格得到快速查找表線長的步驟，還包括，將快速查找表線長轉化為半周長線長與雙點線長的和。

進一步的，所述對半周長模型和雙點模型分別進行可微化，實現對快速查找表模型的可微化的步驟，還包括，

篩選出線網管腳中x軸最大、y軸最大的管腳和x軸最小、y軸最小的管腳，得到可微化的半周長模型；

獲取每段快速查找表線長的寬度和高度系數，得到可微化的雙點模型。