[發明專利]一種氣化爐及合成氣處理方法在審
| 申請號: | 202110374678.6 | 申請日: | 2021-04-07 |
| 公開(公告)號: | CN113201369A | 公開(公告)日: | 2021-08-03 |
| 發明(設計)人: | 丁滿福;李廣民;任金鎖;仙運昌;趙毛賓;賈雷;蔡蓓 | 申請(專利權)人: | 山西陽煤化工機械(集團)有限公司 |
| 主分類號: | C10J3/20 | 分類號: | C10J3/20;C10J3/48;C10J3/72;C10J3/82;C10K1/04 |
| 代理公司: | 北京天瀾智慧知識產權代理有限公司 11558 | 代理人: | 尚繼棟;師琦 |
| 地址: | 030032 山西省太原*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氣化 合成氣 處理 方法 | ||
1.一種氣化爐,包括:
氣化室(01);
合成氣熔渣通道(8);
隔板(9);以及
激冷室(03);
其中所述合成氣熔渣通道(8)連通所述氣化室(01)和所述激冷室(03),所述隔板(9)圍繞所述合成氣熔渣通道(8)固定于所述氣化室(01)和所述激冷室(03)之間,所述激冷室(03)設有膜式壁、調節支架(2)和激冷段。
2.根據權利要求1所述的氣化爐,其特征在于,所述膜式壁包括列管及鰭片組件(4)、第一集箱(7)和第二集箱(1);所述列管及鰭片組件(4)包括多根列管(41),相鄰所述列管(41)之間軸向間距通過具有有效寬度和有效厚度的所述鰭片(42)密封連接,所述有效寬度為0-20mm,所述有效厚度為5-12mm;所述列管(41)的管壁和所述鰭片(42)在兩端分別與所述第一集箱(7)和所述第二集箱(1)密封連接,所述列管(41)的管腔與所述第一集箱(7)和所述第二集箱(1)連通。
3.根據權利要求2所述的氣化爐,其特征在于,所述膜式壁圍成圓柱體或棱柱體通道,所述列管及鰭片組件(4)圍繞所述圓柱體或棱柱體通道的外周排列,所述圓柱體或棱柱體通道與所述合成氣熔渣通道(8)連通。
4.根據權利要求3所述的氣化爐,其特征在于,所述膜式壁還包括固定件(6),所述固定件(6)與所述第一集箱(7)和所述隔板(9)分別密封連接,使所述膜式壁通過所述固定件(6)與所述隔板(9)固定連接;所述隔板(9)、所述固定件(6)、所述第一集箱(7)和所述列管及鰭片組件(4)構成密封腔壁,使所述密封腔壁與所述激冷室(03)的外殼之間密封。
5.根據權利要求4所述的氣化爐,其特征在于,所述列管(41)豎直放置,所述列管及鰭片組件(4)的上端連接所述第一集箱(7),所述列管及鰭片組件(4)的下端連接所述第二集箱(1)。
6.根據權利要求5所述的氣化爐,其特征在于,所述膜式壁還包括一個或多個進水管(3)與一個或多個出水管(5),所述進水管(3)通過設置在所述第二集箱(1)上的進水管口與所述第二集箱(1)連通,所述出水管(5)通過設置在所述第一集箱(7)上的出水管口與所述第一集箱(7)連通。
7.根據權利要求6所述的氣化爐,其特征在于,所述調節支架(2)設置在所述膜式壁與所述激冷室(03)的外殼之間的爐體環腔中,并與所述膜式壁活動連接,用于調節所述膜式壁的徑向和軸向位移。
8.根據權利要求7所述的氣化爐,其特征在于,所述爐體環腔中設置有三個所述調節支架(2),所述調節支架(2)與所述膜式壁靠近下端的部分活動連接。
9.一種合成氣處理方法,包括在氣化爐的激冷室(03)中采用膜式壁替代下降筒(11)裝置;所述氣化爐包括氣化室(01)、合成氣熔渣通道(8)、隔板(9)以及所述激冷室(03);所述激冷室(03)設有所述膜式壁、調節支架(2)和激冷段;所述膜式壁包括列管及鰭片組件(4)、第一集箱(7)、第二集箱(1)、進水管(3)、出水管(5)和固定件(6);所述膜式壁圍成圓柱體或棱柱體通道,所述列管及鰭片組件(4)圍繞所述圓柱體或棱柱體通道的外周排列,所述圓柱體或棱柱體通道與所述合成氣熔渣通道(8)連通;所述列管(41)與所述列管(41)之間軸向間距通過具有有效寬度和有效厚度的所述鰭片(42)密封連接,所述有效寬度為0-20mm,所述有效厚度為5-12mm;所述膜式壁通過所述固定件(6)與所述激冷室頂部的所述隔板(9)固定連接,所述隔板(9)、所述固定件(6)、所述第一集箱(7)和所述列管及鰭片組件(4)構成密封腔壁,使所述密封腔壁與所述激冷室(03)的外殼之間密封;所述進水管(3)與所述第二集箱(1)連通,所述出水管(5)與所述第一集箱(7)連通;所述調節支架(2)設置在所述膜式壁與所述激冷室(03)的外殼之間的爐體環腔中,并與所述膜式壁靠近下端的部分活動連接。
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