[發明專利]雙氟磺酰亞胺鋰的制備方法及進料裝置有效
| 申請號: | 202110372709.4 | 申請日: | 2021-04-07 |
| 公開(公告)號: | CN112897487B | 公開(公告)日: | 2022-06-03 |
| 發明(設計)人: | 王曉東;徐煜;韓航飛;陳華勇;鄭偉建 | 申請(專利權)人: | 浙江三美化工股份有限公司 |
| 主分類號: | C01B21/086 | 分類號: | C01B21/086 |
| 代理公司: | 杭州六方于義專利代理事務所(普通合伙) 33392 | 代理人: | 施少鋒 |
| 地址: | 321200 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 雙氟磺酰 亞胺 制備 方法 進料 裝置 | ||
1.雙氟磺酰亞胺鋰的制備方法,其特征在于包括如下步驟:
a、在反應釜中加入二氯亞砜:
(1)將反應釜的底部通過固定螺栓豎向安裝在移動支架上的移動板上,反應釜包括上筒體和下筒體,上筒體和下筒體通過安裝螺栓固定連接,上筒體的外側焊接有兩段定位板,移動板在移動支架上定向移動,再將定位板上的定位螺栓向上擰動,使得定位螺栓的底部不穿出定位板,然后通過移動支架底部安裝的絲桿電機控制反應釜朝進料裝置方向移動,使得反應釜設置在進料裝置的下方,該進料裝置通過安裝支架固定在移動支架上,此時反應釜兩側的定位板緊貼在安裝支架上;
(2)控制進料裝置中的物料管下降,使得物料管和反應釜的進料管連通,再將儲料罐中的二氯亞砜通入到進料裝置的物料管中,二氯亞砜通過物料管和反應釜的進料管進入到反應釜中;
b、將氨基磺酸和氯磺酸在二氯亞砜中反應生成雙氯磺酸亞胺:
(1)當反應釜中的二氯亞砜通入完成后,停止儲料罐中的二氯亞砜通入,再控制進料裝置中的物料管上升,使得物料管和反應釜的進料管脫開,此時移動支架上安裝有驅動電機,驅動電機固定連接翻轉板,翻轉板支撐在移動支架上,移動支架上安裝有呈L形狀的限位板,然后通過移動支架底部安裝的絲桿電機控制反應釜遠離進料裝置方向移動,當其中一塊定位板和翻轉板上下對應,另一塊定位板和限位板上下對應時,擰動定位板上的定位螺栓,使得其中一個定位螺栓擰入到其中一塊定位板和翻轉板之間,另一個定位螺栓擰入到另一塊定位板和限位板之間;
(2)在反應釜的進料口中加入氨基磺酸和氯磺酸,將氨基磺酸和氯磺酸在二氯亞砜中反應生成雙氯磺酸亞胺;
c、在反應釜的進料口中加入無水氟化氫進行氟化,得到雙氟磺酰亞胺鋰,再通過反應釜的出料管對雙氟磺酰亞胺鋰進行收集;
d、對反應釜進行側向分體清洗:將出料管從反應釜的底部處拆除,再將反應釜和移動板之間的固定螺栓擰出,然后驅動電機控制翻轉板順時針轉動90°,使得反應釜水平設置,再對反應釜的上筒體進行支撐,然后將上筒體和下筒體之間的安裝螺栓擰出,拆除下筒體,將下筒體在清洗槽中清洗,再采用水管對上筒體的內部進行噴淋清洗,然后對上筒體的內部進行擦拭,清洗完成后,再對上筒體和下筒體進行干燥,干燥完成后,將上筒體通過安裝螺栓固定到上筒體上,然后反轉驅動電機,驅動電機控制翻轉板逆時針轉動90°,使得反應釜豎直設置,然后將出料管安裝到反應釜的底部處。
2.根據權利要求1所述的雙氟磺酰亞胺鋰的制備方法,其特征在于:步驟b中,對反應釜進行升溫回流操作,溫度控制在50-140℃。
3.根據權利要求1所述的雙氟磺酰亞胺鋰的制備方法,其特征在于:移動支架設有兩個滑移孔,采用T形狀的移動板,移動板安裝在滑移孔中,兩塊移動板之間焊接連接板,絲桿電機連接的絲桿螺母固定在連接板的底面上,連接板設有通孔,出料管穿過通孔。
4.根據權利要求1所述的雙氟磺酰亞胺鋰的制備方法,其特征在于:步驟d中,采用兩點式支撐裝置對上筒體進行支撐,兩點式支撐裝置包括底板、第一支撐板和第二支撐板,第一支撐板焊接在底板的頂面上,第二支撐板焊接在第一支撐板的側面上,采用緊固螺絲將底板固定在移動支架的底部處,采用第一支撐板對處于下方的定位板進行支撐,同時采用第二支撐板對上筒體的外側進行支撐。
5.基于權利要求1所述的雙氟磺酰亞胺鋰的制備方法的進料裝置,其特征在于:包括殼體和連接管,所述安裝支架焊接在所述殼體和所述移動支架之間,所述連接管和所述物料管連通,所述連接管的底部用于連通所述進料管,所述物料管穿出所述殼體的頂部,所述殼體的內部設有滑軌,所述連接管的外側設有滑塊,所述滑塊在所述滑軌中進行上下移動,所述殼體內部固定連接有氣缸,所述氣缸驅動連接所述連接管。
6.根據權利要求5所述的進料裝置,其特征在于:采用至少兩根所述連接管,所述連接管設有固定板,相鄰兩塊所述固定板之間通過連接螺栓固定連接。
7.根據權利要求6所述的進料裝置,其特征在于:所述連接管的外側焊接有上下分布的限位凸起,兩條上下分布的所述限位凸起之間形成限位槽,所述氣缸的底部固定連接有卡緊板,所述卡緊板限位在所述限位槽中。
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