[發明專利]介電透鏡以及具有介電透鏡的電磁設備

在審

• 申請號: 202110372684.8
• 申請日: 2021-04-07
• 公開（公告）號: CN113495397A
• 公開（公告）日: 2021-10-12
• 發明（設計）人: 特雷弗·波利多爾;塞爾焦·克拉維霍;迪爾克·巴爾斯;約翰·桑福德
• 申請（專利權）人: 羅杰斯公司
• 主分類號: G02F1/29
• 分類號: G02F1/29;H01Q15/02
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王萍;高雪

1.一種介電透鏡，包括：

介電材料的三維3D主體，其具有在空間上變化的介電常數Dk；

所述3D主體具有至少三個區域R(i)，所述至少三個區域具有相對于所述至少三個區域R(i)中的對應區域的周圍區域的介電常數值Dk(i)的局部最大值，所述至少三個區域R(i)的位置由相對于與所述3D主體相關聯的特定公共原點的方位角(i)、天頂角(i)和徑向距離(i)的局部坐標來限定，其中，(i)是范圍從1到至少3的索引；

其中，所述3D主體的在空間上變化的Dk被配置成以給定方位角和給定徑向距離至少根據區域R(1)與區域R(2)之間的天頂角而變化。

2.根據權利要求1所述的介電透鏡，其中，所述給定徑向距離是第一給定徑向距離，并且進一步地其中：

所述3D主體的在空間上變化的Dk還被配置成以所述給定方位角和第二變化徑向距離根據所述區域R(1)與所述區域R(2)之間的天頂角而變化，所述第二變化徑向距離根據所述天頂角而變化。

3.根據權利要求1至2中任一項所述的介電透鏡，其中：

所述3D主體的在空間上變化的Dk還被配置成以給定方位角和給定徑向距離根據所述區域R(1)與區域R(3)之間的天頂角而變化。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的介電透鏡，其中：

所述3D主體的在空間上變化的Dk還被配置成以給定天頂角和給定徑向距離根據所述區域R(2)與所述區域R(3)之間的方位角而變化。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的介電透鏡，其中：

所述3D主體的在空間上變化的Dk還被配置成根據所述特定公共原點與R(1)之間的徑向距離而變化。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的介電透鏡，其中：

所述3D主體的在空間上變化的Dk還被配置成根據所述特定公共原點與R(2)之間的徑向距離而變化。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的介電透鏡，其中：

所述3D主體的在空間上變化的Dk還被配置成根據所述特定公共原點與R(3)之間的徑向距離而變化。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的介電透鏡，其中：

所述3D主體具有基本區域和外表面區域，并且所述特定公共原點在所述基本區域附近。

9.根據權利要求8所述的介電透鏡，其中：

所述3D主體的在空間上變化的Dk還被配置成在至少三個不同的徑向方向上從所述特定公共原點到所述外表面區域變化。

10.根據權利要求1至9中任一項所述的介電透鏡，其中：

在相距180度的對應方位角處的R(2)和R(3)關于彼此對稱。

11.根據權利要求1至9中任一項所述的介電透鏡，其中：

在相距180度的對應方位角處的R(2)和R(3)關于彼此且關于R(1)對稱。

12.根據權利要求1至11中任一項所述的介電透鏡，其中：

所述3D主體在所述特定公共原點處的Dk等于或大于空氣的Dk且等于或小于1.2。

13.根據權利要求1至11中任一項所述的介電透鏡，其中：

所述3D主體的距所述特定公共原點達限定徑向距離rk處的Dk等于或大于空氣的Dk且等于或小于2。

14.根據權利要求1至11中任一項所述的介電透鏡，其中：

所述3D主體的距所述特定公共原點達限定徑向距離rk處的Dk等于或大于空氣的Dk且等于或小于1.5。