[發明專利]一種人臉識別方法、檢測方法、介質及電子設備

在審

• 申請號: 202110372506.5
• 申請日: 2021-04-07
• 公開（公告）號: CN113111762A
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發明（設計）人: 張善旭;李耀磊
• 申請（專利權）人: 瑞芯微電子股份有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 徐秋平

1.一種人臉識別方法，其特征在于，應用于人臉識別設備，所述人臉識別設備包括深度攝像頭模組，所述深度攝像頭模組包括投射器，所述人臉識別方法包括：

獲取一目標圖像，其中，所述目標圖像包括一目標對象的人臉區域；

獲取所述投射器對應于所述目標圖像在人臉距離下的直射區域作為第一區域；

獲取所述目標圖像中的人眼區域作為第二區域；

當所述第一區域與所述第二區域之間的重疊范圍小于等于一特定閾值時，開啟所述投射器并利用所述人臉識別設備對所述目標對象進行人臉識別。

2.根據權利要求1所述的人臉識別方法，其特征在于，獲取所述第一區域的一種實現方法包括：

獲取所述目標對象與所述深度攝像頭模組之間的距離；

根據所述深度攝像頭模組的設計標準參數和設計標準基線、以及所述目標對象與所述深度攝像頭模組之間的距離，獲取所述投射器的標準直射區域；

根據所述投射器的標準直射區域獲取所述第一區域。

3.根據權利要求1所述的人臉識別方法，其特征在于，獲取所述第一區域的一種實現方法包括：

獲取所述目標對象與所述深度攝像頭模組之間的距離；

獲取第一直射區域，其中，所述第一直射區域是指所述投射器處于標定階段時在紅外圖上的直射區域；

根據所述目標對象與所述深度攝像頭模組之間的距離以及所述第一直射區域，獲取第二直射區域，其中，所述第二直射區域是指所述投射器處于人臉識別階段時在所述目標對象與所述深度攝像頭模組之間的距離下紅外圖上的直射區域；

根據所述目標對象與所述深度攝像頭模組之間的距離、所述結構光模組的內參矩陣和外參矩陣以及所述第二直射區域，獲取所述第一區域。

4.根據權利要求1-3任一項所述的人臉識別方法，其特征在于，所述深度攝像頭模組為結構光模組，獲取所述第一直射區域的實現方法包括：

獲取所述投射器的紅外標定圖；

獲取所述投射器在所述紅外標定圖上的直射區域作為所述第一直射區域。

5.根據權利要求4所述的人臉識別方法，其特征在于，獲取所述投射器在所述紅外標定圖上的直射區域作為所述第一直射區域的實現方法包括：

根據所述投射器的零級直射區域中心的散斑分布形態，獲取所述紅外標定圖中的對應點作為所述第一直射區域的中心點；

根據所述投射器的零級直射區域頂點的散斑分布形態，獲取所述紅外標定圖中的對應點作為所述第一直射區域的頂點；

根據所述第一直射區域的中心點和頂點獲取所述第一直射區域。

6.根據權利要求3所述的人臉識別方法，其特征在于，所述深度攝像頭模組為結構光模組，獲取所述第一區域的實現方法包括：

獲取所述結構光模組的內參矩陣和外參矩陣，其中，所述內參矩陣包括紅外內參矩陣和彩色內參矩陣，所述外參矩陣包括旋轉矩陣和平移矩陣；

根據所述目標對象與所述深度攝像頭模組之間的距離、所述結構光模組的內參矩陣和外參矩陣以及所述第二直射區域的定位參數，獲取所述第一區域的定位參數；其中，所述定位參數包括頂點坐標和中心點坐標；

根據所述第一區域的定位參數獲取所述第一區域。

7.根據權利要求1-6任一項所述的人臉識別方法，其特征在于，所述人臉識別方法還包括：

根據所述目標圖像中的人臉狀況生成用戶提示信息；和/或

根據人臉識別的結果判斷所述深度攝像頭模組是否存在故障。