[發明專利]烹飪系統

在審

• 申請號: 202110369192.3
• 申請日: 2021-04-06
• 公開（公告）號: CN113491439A
• 公開（公告）日: 2021-10-12
• 發明（設計）人: 魯珀特·埃利斯頓;史蒂文·卡特爾;安德魯·約翰·羅伊·塔特斯菲爾德;喬舒亞·D·安東尼;本杰明·夏普;格雷戈里·菲什
• 申請（專利權）人: 沙克忍者運營有限責任公司
• 主分類號: A47J27/08
• 分類號: A47J27/08;A47J27/086;A47J37/06
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 王俠

1.一種用于烹飪食物的烹飪系統，所述烹飪系統包括：

殼體，所述殼體限定中空內部；

食物容器，所述食物容器可定位在所述中空內部中并且限定容器內部；

至少一個加熱元件，所述至少一個加熱元件定位在所述殼體中以加熱所述容器內部；

其中所述食物容器具有非橢圓形容器形狀，

其中所述容器內部被構造成耐受高壓烹飪環境；并且

其中所述殼體具有非橢圓形殼體形狀。

2.根據權利要求1所述的烹飪系統，其中所述非橢圓形容器形狀與所述非橢圓形殼體形狀相同或相似。

3.根據權利要求1所述的烹飪系統，其中所述非橢圓形容器形狀和所述非橢圓形殼體形狀是方形圓形狀。

4.根據權利要求1所述的烹飪系統，其中所述高壓烹飪環境達到至少70kPa的壓力。

5.根據權利要求1所述的烹飪系統，其中所述高壓烹飪環境達到40kPa與100kPa之間的壓力。

6.根據權利要求1所述的烹飪系統，其中所述殼體的所述中空內部包括與所述非橢圓形容器形狀相同或相似的非橢圓形形狀。

7.根據權利要求1所述的烹飪系統，其中所述至少一個加熱元件是設置在所述食物容器下方的加熱元件。

8.根據權利要求1所述的烹飪系統，其中所述至少一個加熱元件是設置在所述食物容器上方的加熱元件。

9.根據權利要求1所述的烹飪系統，其中所述至少一個加熱元件是設置在所述食物容器下方的第一加熱元件和設置在所述食物容器上方的第二加熱元件。

10.根據權利要求1所述的烹飪系統，其中所述食物容器的厚度圍繞所述食物容器的周邊變化。

11.根據權利要求10所述的烹飪系統，其中所述食物容器具有由多個圓角連接的多個側面，并且所述食物容器在所述多個圓角中的至少一個處的厚度大于所述食物容器在所述多個側面中的至少一個處的厚度。

12.一種用于烹飪食物的烹飪系統，所述烹飪系統包括：

殼體，所述殼體限定中空內部；

食物容器，所述食物容器可定位在所述中空內部中并且限定容器內部；

至少一個加熱元件，所述至少一個加熱元件定位在所述殼體中以加熱所述容器內部；

其中所述食物容器包括至少一個第一壁區域和至少一個第二壁區域，所述至少一個第一壁區域比所述至少一個第二壁區域具有更大的應力耐受性強化。

13.根據權利要求12所述的烹飪系統，其中所述容器內部被構造成耐受高壓烹飪環境。

14.根據權利要求13所述的烹飪系統，其中所述高壓烹飪環境達到至少70kPa的壓力。

15.根據權利要求13所述的烹飪系統，其中所述高壓烹飪環境達到40kPa與100kPa之間的壓力。

16.根據權利要求12所述的烹飪系統，其中所述食物容器具有非橢圓形容器形狀。

17.根據權利要求12所述的烹飪系統，其中所述食物容器包括方形圓容器形狀。

18.根據權利要求12所述的烹飪系統，其中所述食物容器包括在多個圓角之間延伸的多個側面，所述至少一個第一壁區域包括所述多個圓角中的一個，并且所述至少一個第二壁區域包括所述多個側面中的一個。