[發(fā)明專利]一種基于真空壓縮態(tài)注入的相位敏感放大器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110368692.5 | 申請日： | 2021-04-06 |
| 公開（公告）號： | CN113098405A | 公開（公告）日： | 2021-07-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 畢思文;周志英;朱海龍;杜京師;張守凱;沈敏;沈希毅;王悅虹 | 申請（專利權(quán)）人： | 畢思文 |
| 主分類號： | H03F1/26 | 分類號： | H03F1/26 |
| 代理公司： | 北京東方盛凡知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11562 | 代理人： | 張換君 |
| 地址： | 518131 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 基于 真空 壓縮 注入 相位 敏感 放大器 | ||
1.一種基于真空壓縮態(tài)注入的相位敏感放大器，其特征在于，包括：壓縮光、泵浦光、雙色鏡、PSA腔、分束鏡及探測裝置；
所述壓縮光與所述泵浦光相互垂直入射到所述雙色鏡，并通過所述雙色鏡入射到所述PSA腔中，進(jìn)行相位敏感放大，產(chǎn)生壓縮光，并與Local光在所述分束鏡處耦合，通過所述探測裝置進(jìn)行探測；
所述PSA腔包括第一平凹鏡、第二平凹鏡、溫控系統(tǒng)及PPKTP晶體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于真空壓縮態(tài)注入的相位敏感放大器，其特征在于，所述第一平凹鏡及所述第二平凹鏡的直徑為10mm，曲率半徑為30mm；
所述PPKTP晶體的尺寸為1mm*2mm*10mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于真空壓縮態(tài)注入的相位敏感放大器，其特征在于，所述第一平凹鏡的凹面鍍有1064nm的高反膜及532nm的部分透射膜；
所述第二平凹鏡的凹面鍍有532nm的高反膜和1064nm的部分透射膜；
所述第一平凹鏡及所述第二平凹鏡的平面鍍有1064nm的增透膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于真空壓縮態(tài)注入的相位敏感放大器，其特征在于，所述雙色鏡鍍有1064nm的高透膜及532nm的高反膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于真空壓縮態(tài)注入的相位敏感放大器，其特征在于，所述PPKTP晶體為Ⅰ類相位匹配晶體；所述PPKTP晶體置于所述溫度控制系統(tǒng)的紫銅控溫爐內(nèi)，進(jìn)行控溫。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于真空壓縮態(tài)注入的相位敏感放大器，其特征在于，所述壓縮光為1064nm，所述泵浦光為532nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于真空壓縮態(tài)注入的相位敏感放大器，其特征在于，所述相位敏感放大器的放大過程為：將所述泵浦光及所述壓縮光通過所述雙色鏡入射到所述PSA腔中，在所述PSA腔中產(chǎn)生閑頻光；當(dāng)所述閑頻光的頻率與所述信號光的頻率相等時(shí)，實(shí)現(xiàn)相位敏感放大。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于真空壓縮態(tài)注入的相位敏感放大器，其特征在于，所述探測裝置包括50/50分束器、導(dǎo)光鏡、凹面高反鏡及光電管。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基于真空壓縮態(tài)注入的相位敏感放大器，其特征在于，所述探測裝置的探測過程為：
將所述壓縮光從所述PSA腔中輸出后通過所述50/50分束器，與Local光進(jìn)行干涉，并分成兩束功率相等的光，經(jīng)過25°入射的所述導(dǎo)光鏡和透鏡進(jìn)入所述光電管進(jìn)行探測；所述凹面高反鏡將剩余反射光再次注入光電管進(jìn)行探測。
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