[發明專利]一種光學介質材料的透光率和均勻度檢測方法有效
| 申請號: | 202110368251.5 | 申請日: | 2021-04-06 |
| 公開(公告)號: | CN113281310B | 公開(公告)日: | 2022-12-02 |
| 發明(設計)人: | 聶光軍;臧毅鵬;岳文瑾 | 申請(專利權)人: | 安徽工程大學 |
| 主分類號: | G01N21/59 | 分類號: | G01N21/59;G01N21/84 |
| 代理公司: | 蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107 | 代理人: | 鐘雪 |
| 地址: | 241000 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光學 介質 材料 透光率 均勻 檢測 方法 | ||
1.一種光學介質材料的透光率和均勻度檢測方法,其特征在于,所述方法具體包括如下步驟:
S1、原位采集光學介質材料覆蓋前后的物像數字圖像,獲取圖像1和圖像2;
S2、獲取圖像1和圖像2中物像區域所在行和列的最大值及最小值,僅保留圖像1及圖像2中的物像區域,分別稱為圖像M和圖像N;
S3、計算圖像M及圖像N在R、G、B三個維度上的比值,進而計算出光學介質材料的透光率;
S4、對圖像M及圖像N進行二值化處理和gamma校正,生成二維矩陣GM和GN,計算二維矩陣GM和GN的相關系數,即為光學介質材料的均勻度;
光學介質材料的透光率的計算方法具體如下:
分別計算圖像M及圖像N在R、G、B三個色相的光透過率tr、tg、tb;
選擇gamma值為2-3對三個色相光線的透過率值進行gamma校正,得到待測光學介質材料的可見光透過率值T;
光透過率tr、tg、tb計算公式具體如下:
待測光學介質材料的可見光透過率值T的計算公式具體如下:
其中,MRij表示圖像M中R色相矩陣上的第i行第j列上的數值,MGij表示圖像M中G色相矩陣上的第i行第j列上的數值,MBij表示圖像M中B色相矩陣上的第i行第j列上的數值;NRij表示圖像N中R色相矩陣上的第i行第j列上的數值,NGij表示圖像N中G色相矩陣上的第i行第j列上的數值,NBij表示圖像N中B色相矩陣上的第i行第j列上的數值,a表示圖像M和圖像N的行數最大值,b表示圖像M和圖像N的列數最大值;
光學介質材料的均勻度計算公式具體如下:
GM1為圖像M的二值化圖像,GM為圖像GM1進行gamma校正后的圖像,GN1為圖像N的二值化圖像,GN為圖像GN1進行gamma校正后的圖像,μ1為圖像GM的定位區域中所有像素值的平均值,μ2為圖像GN的定位區域中所有像素值的平均值。
2.如權利要求1所述光學介質材料的透光率和均勻度檢測方法,其特征在于,物像區域所在行和列的最大值及最小值的獲取方法具體如下:
在黑色背景下獲取的光學介質材料覆蓋前后的物像數字圖像,稱為圖1及圖2;
將圖像1和圖像2轉化為二值圖像;
計算整個矩陣中所有元素1連通區域的個數并編號,計算每個編號區域元素1的個數,將個數小于整個矩陣元素個數1%的對應編號區域元素均改為0;
找出矩陣中剩余非0元素的坐標對應行數和列數的最大值與最小值,即行數及列數的最大值及最小值。
3.如權利要求1所述光學介質材料的透光率和均勻度檢測方法,其特征在于,物像選擇二維熵評價圖像復雜度,選用復雜度為2.5-4圖片作為物像。
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