[發明專利]一種電子顯示屏用自潔膜及其制備方法

在審

• 申請號: 202110368041.6
• 申請日: 2021-04-06
• 公開（公告）號: CN113386429A
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發明（設計）人: 李加海;譚鴻
• 申請（專利權）人: 安徽禾臣新材料有限公司
• 主分類號: B32B27/30
• 分類號: B32B27/30
• 代理公司: 北京和聯順知識產權代理有限公司 11621
• 代理人: 李照

1.一種電子顯示屏用自潔膜，包括復合基材層(1)、自潔層(2)和抗刮花面層(3)，其特征在于，所述復合基板層(1)、自潔層(2)和抗刮花面層(3)自下往上復合連接，所述自潔層(2)上滴落的水滴在自潔層(2)的表面上呈球狀，自潔層(2)與水滴接觸角為153°，自潔層(2)與水滴滾動角為8°。

2.如權利要求1所述的一種電子顯示屏用自潔膜，其特征在于，所述復合基材層(1)包括如下質量份數的原料：乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物：8-13份；交聯劑：0.6-0.9份；增粘劑：0.5-0.7份；光穩定劑：0.2-0.4份；增塑劑：0.1-0.2份；抗氧劑：0.4-0.7份。

3.如權利要求2所述的一種電子顯示屏用自潔膜，其特征在于，所述自潔層(2)包括如下質量份數的原料：聚四氟乙烯：6-11份；納米清潔復合粒子：3-6份；環氧基硅氧烷偶聯劑：0.6-1.1份；交聯劑：0.4-1.3份；抗氧劑：0.3-0.8份；去離子水：21-34份。

4.如權利要求3所述的一種電子顯示屏用自潔膜，其特征在于，所述納米清潔復合粒子采用納米氧化鋁和光觸媒材料聚合制成，納米氧化鋁和光觸媒的比例為1.3:1，其中納米氧化鋁的晶型為γ-Al2O3，粒徑為17-21nm，比表面積≥230m2/g，光觸媒材料為ZrO2、ZnO、TiO2、SrTiO3、SiO2中的一種或兩種以上的混合物。

5.如權利要求4所述的一種電子顯示屏用自潔膜，其特征在于，所述環氧基硅氧烷偶聯劑為含有甲氧基、乙氧基、氯基和乙酰氧基中的至少一種基團以及環氧基團的有機硅烷化合物，包括γ-縮水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷和3-(2，3-環氧丙氧)丙基三乙氧基硅烷中的至少一種。

6.如權利要求5所述的一種電子顯示屏用自潔膜，其特征在于，所述交聯劑為雙甲基丙烯酸二縮三乙二醇酯、四烯丙氧基乙烷、馬來酸二烯丙酯和乙二胺四亞甲基膦酸中的一種或兩種以上的混合物。

7.如權利要求6所述的一種電子顯示屏用自潔膜，其特征在于，所述抗刮花面層(3)包括如下質量份數的原料：聚氨酯丙烯酸樹脂：3-6份；改性納米二氧化硅：2-7份；交聯劑：0.6-0.8份；增粘劑：0.5-0.6份；偶聯劑：0.2-0.4份；增塑劑：0.1-0.2份；抗氧劑：0.5-0.7份。

8.一種如權利要求7所述的電子顯示屏用自潔膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1：按照配方配比將聚四氟乙烯、納米清潔復合粒子、環氧基硅氧烷偶聯劑、交聯劑、抗氧劑和去離子水均投入高速攪拌混料機內，高速攪拌12-18min且攪拌轉速為2136-2374r/min后，低速攪拌23-27min且攪拌轉速為871-1264r/min，得到混合料；

S2：將混合料投入螺桿擠出機內，在110℃-175℃的條件下熔融塑化，經過擠出、拉伸、牽引、收卷工序制得自潔層膜；

S3：對自潔層膜進行裁剪，將復合基材層(1)和抗刮花面層(3)分別貼合在裁剪好的自潔層膜的兩側端面。