[發明專利]一種輕質抗紫外面料及其制備方法

在審

• 申請號: 202110367566.8
• 申請日: 2021-04-06
• 公開（公告）號: CN113089310A
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 郭碧葉
• 申請（專利權）人: 郭碧葉
• 主分類號: D06M11/46
• 分類號: D06M11/46;D06M11/38;D06M13/13;D06M15/03;D06M13/355;D06M15/37;C08G83/00
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1.一種輕質抗紫外面料，其特征在于：所述面料包括基布，所述基布上表面沉積有二氧化鈦層，所述二氧化鈦層上方設有金屬骨架層。

2.根據權利要求1所述的一種輕質抗紫外面料，其特征在于：所述金屬骨架層表面通過功能化殼聚糖、檸檬醛改性處理。

3.根據權利要求1所述的一種輕質抗紫外面料，其特征在于：所述金屬骨架層主要由多元羧酸、稀土氯化物反應制得。

4.根據權利要求3所述的一種輕質抗紫外面料，其特征在于：所述稀土氯化物為氯化銪六水合物、氯化鑭六水合物中的任意一種或多種。

5.根據權利要求3所述的一種輕質抗紫外面料，其特征在于：所述多元羧酸為2-氨基對苯二甲酸。

6.一種輕質抗紫外面料的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：

(1)取基布，置于氫氧化鈉溶液浸泡，去離子水超聲清洗，下真空干燥；

(2)取干燥后的基布，以四異丙醇鈦和水作為反應前驅體，氮氣吹掃后進行原子層沉積，在基布表面形成二氧化鈦層；

(3)取步驟(2)處理后的基布，置于多元羧酸水溶液中，超聲分散5-10min，去離子清洗，真空干燥，再置于稀土氯化物水溶液中，下超聲分散5-10min，去離子清洗，真空干燥；

(4)重復(3)步驟3-4次，真空干燥，形成金屬骨架層；

(5)取步驟(4)處理后的面料，置于二甲基亞砜溶液中，超聲分散，加入功能化殼聚糖，混合攪拌，再加入檸檬醛、吡啶和二環己基碳二亞胺，氮氣環境下避光反應，離心過濾，DMF洗滌后浸泡至二氯甲烷溶液中，置換，去離子水超聲清洗，真空干燥，得到所述面料。

7.根據權利要求6所述的一種輕質抗紫外面料的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：

(1)取基布，置于氫氧化鈉溶液中，浸泡10-20min，去離子水超聲清洗10-15min，60-80℃下真空干燥；

(2)取干燥后的基布，以四異丙醇鈦和水作為反應前驅體，氮氣吹掃后進行原子層沉積，在基布表面形成二氧化鈦層；

(3)取步驟(2)處理后的基布，置于多元羧酸水溶液中，85-90℃下超聲分散5-10min，去離子清洗10-20min，100-110℃下真空干燥，再置于稀土氯化物水溶液中，85-90℃下超聲分散5-10min，去離子清洗10-20min，100-110℃下真空干燥；

(4)重復(3)步驟3-4次，真空干燥，形成金屬骨架層；

(5)取步驟(4)處理后的面料，置于二甲基亞砜溶液中，超聲分散30-40min，加入功能化殼聚糖，混合攪拌30-40min，再加入檸檬醛、吡啶和二環己基碳二亞胺，氮氣環境下避光反應3-4h，離心過濾，DMF洗滌后浸泡至二氯甲烷溶液中，置換2-3d，去離子水超聲清洗30-40min，真空干燥，得到所述面料。

8.根據權利要求7所述的一種輕質抗紫外面料的制備方法，其特征在于：步驟(5)中，所述功能化殼聚糖包括殼聚糖和雙醛殼聚糖，所述殼聚糖和雙醛殼聚糖的質量比為(1.5-2)：1。

9.根據權利要求7所述的一種輕質抗紫外面料的制備方法，其特征在于：所述雙醛殼聚糖的制備方法為：取殼聚糖，乙酸溶解，混合攪拌1-2h，加入高碘酸鈉，微波條件下處理5-10min，避光攪拌20-22h，抽濾，洗滌干燥，得到雙醛殼聚糖。

10.根據權利要求7所述的一種輕質抗紫外面料的制備方法，其特征在于：步驟(2)中，原子層沉積反應溫度為100-105℃，沉積厚度為200-250nm。