[發明專利]光學系統、取像模組及電子設備

有效

• 申請號: 202110367553.0
• 申請日: 2021-04-06
• 公開（公告）號: CN113138458B
• 公開（公告）日: 2022-05-17
• 發明（設計）人: 譚怡翔;李明
• 申請（專利權）人: 江西晶超光學有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/18;G02B13/06
• 代理公司: 華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 張培柳

1.一種光學系統，其特征在于，所述光學系統中具有屈折力的透鏡的數量為七片，所述光學系統沿光軸由物側至像側依次包括：

具有負屈折力的第一透鏡，所述第一透鏡的物側面于近光軸處為凹面；

具有屈折力的第二透鏡，所述第二透鏡的物側面于近光軸處為凸面，像側面于近光軸處為凹面；

具有正屈折力的第三透鏡，所述第三透鏡的物側面于近光軸處為凸面；

具有正屈折力的第四透鏡，所述第四透鏡的物側面于近光軸處為凸面，像側面于近光軸處為凸面；

具有負屈折力的第五透鏡，所述第五透鏡的物側面于近光軸處為凹面，像側面于近光軸處為凹面；

具有正屈折力的第六透鏡，所述第六透鏡的像側面于近光軸處為凸面；以及

具有負屈折力的第七透鏡；

且所述光學系統滿足以下條件式：

120°≤FOV≤130°；

0.5≤SD11/ImgH≤0.7；

其中，FOV為所述光學系統的最大視場角，SD11為所述第一透鏡的物側面的最大有效半孔徑，ImgH為所述光學系統的最大視場角所對應的像高的一半。

2.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，滿足以下條件式：

FNO≤1.87；

其中，FNO為所述光學系統的光圈數。

3.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，還包括光闌，所述光闌設于所述第三透鏡和所述第四透鏡之間。

4.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，滿足以下條件式：

56≤FOV/f≤65；

其中，f為所述光學系統的有效焦距。

5.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，滿足以下條件式：

4≤SD11/CT12≤8；

其中，CT12為所述第一透鏡的像側面至所述第二透鏡的物側面于光軸上的距離。

6.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，滿足以下條件式：

1≤(|R62|+|R71|)/f≤11；

其中，R62為所述第六透鏡的像側面于光軸處的曲率半徑，R71為所述第七透鏡的物側面于光軸處的曲率半徑，f為所述光學系統的有效焦距。

7.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，滿足以下條件式：

1.6≤(|f6|+|f7|)/f≤1.8；

其中，f6為所述第六透鏡的曲率半徑，f7為所述第七透鏡的曲率半徑，f為所述光學系統的有效焦距。

8.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，滿足以下條件式：

0.16≤(CT1+CT2+CT3)/TTL≤0.2；

其中，CT1為所述第一透鏡于光軸上的厚度，CT2為所述第二透鏡于光軸上的厚度，CT3為所述第三透鏡于光軸上的厚度，TTL為所述第一透鏡的物側面至所述光學系統的成像面于光軸上的距離。

9.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，滿足以下條件式：

0≤|R71|/|f7|≤10；

其中，R71為所述第七透鏡的物側面于光軸處的曲率半徑，f7為所述第七透鏡的有效焦距。

10.根據權利要求1所述的光學系統，其特征在于，滿足以下條件式：

0≤CT45/ET45≤2.6；

其中，CT45為所述第四透鏡的像側面至所述第五透鏡的物側面于光軸上的距離，ET45為所述第四透鏡的像側面的最大有效孔徑處至所述第五透鏡的物側面的最大有效孔徑處于光軸方向上的距離。