[發(fā)明專利]一種用于滲漏檢測(cè)的頻分電法校正方法有效
申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110364562.4 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-06 |
公開(公告)號(hào): | CN113031078B | 公開(公告)日: | 2022-01-28 |
發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉嶸;劉春明;曹創(chuàng)華;周煒鑒;王貴財(cái);郭榮文;唐冬春;程云濤;陳儒軍;汪鑫強(qiáng);汪衡珍;宋智勇;王金海 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中南大學(xué) |
主分類號(hào): | G01V3/00 | 分類號(hào): | G01V3/00;G01V13/00;G01M3/00;G01M3/16 |
代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
地址: | 410083 湖南省長(zhǎng)沙*** | 國(guó)省代碼: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 滲漏 檢測(cè) 頻分電法 校正 方法 | ||
1.一種用于滲漏檢測(cè)的頻分電法校正方法,其具體步驟如下:
a)在填埋場(chǎng)內(nèi)部布置一條或多條電法勘探測(cè)線,如果是多條電法勘探測(cè)線,則所有電法勘探測(cè)線不相交;
b)在填埋場(chǎng)外部布置供電電極A1和B1,在填埋場(chǎng)內(nèi)部布置供電電極A2和B2及頻分電法供電系統(tǒng),并供電,供電電極A1和B1所通過的電信號(hào)頻率f1與供電電極A2和B2所通過的電信號(hào)頻率f2不相同,即f1≠f2;
c)本步驟基于工作模式不同,分2種情況:第一種是差分工作模式,第二種是總場(chǎng)工作模式;
若開展的是差分工作模式,則在填埋場(chǎng)內(nèi)部的電法勘探測(cè)線上布置測(cè)量電極M和N,并布置測(cè)量系統(tǒng),同時(shí)觀測(cè)測(cè)量電極M和N之間的頻率f1電信號(hào)的電位差VMN-A1B1-f1和頻率f2電信號(hào)的電位差VMN-A2B2-f2,開展某次電位差測(cè)量時(shí)的測(cè)量電極M和N均在同一條電法勘探測(cè)線上,后續(xù)步驟的開展某次電位差測(cè)量時(shí)的測(cè)量電極M和N均在同一條電法勘探測(cè)線上;同時(shí)記錄通過供電電極A1和B1上的頻率f1電信號(hào)的供電電流值;同時(shí)記錄通過供電電極A2和B2上的頻率f2電信號(hào)的供電電流值;
若開展的是總場(chǎng)工作模式,則在填埋場(chǎng)內(nèi)部的電法勘探測(cè)線上布置測(cè)量電極M和在填埋場(chǎng)外部布置無(wú)窮遠(yuǎn)測(cè)量電極P,并布置測(cè)量系統(tǒng),同時(shí)觀測(cè)測(cè)量電極M和無(wú)窮遠(yuǎn)測(cè)量電極P之間的頻率f1電信號(hào)的總電場(chǎng)VM-A1B1-f1和頻率f2電信號(hào)的總電場(chǎng)VM-A2B2-f2;同時(shí)記錄通過供電電極A1和B1上的頻率f1電信號(hào)的供電電流值;同時(shí)記錄通過供電電極A2和B2上的頻率f2電信號(hào)的供電電流值;
d)本步驟基于工作模式不同,分2種情況:若開展的是差分工作模式,則改變測(cè)量電極M和N的位置,再次同時(shí)觀測(cè)測(cè)量電極M和N之間的頻率f1電信號(hào)的電位差和頻率f2電信號(hào)的電位差;同時(shí)記錄通過供電電極A1和B1上的頻率f1電信號(hào)的供電電流值;同時(shí)記錄通過供電電極A2和B2上的頻率f2電信號(hào)的供電電流值;
若開展的是總場(chǎng)工作模式,則改變測(cè)量電極M的位置,再次同時(shí)觀測(cè)測(cè)量電極M和無(wú)窮遠(yuǎn)測(cè)量電極P之間的頻率f1電信號(hào)的總電場(chǎng)和頻率f2電信號(hào)的總電場(chǎng);同時(shí)記錄通過供電電極A1和B1上的頻率f1電信號(hào)的供電電流值;同時(shí)記錄通過供電電極A2和B2上的頻率f2電信號(hào)的供電電流值;
e)直至填埋場(chǎng)內(nèi)設(shè)計(jì)的所有測(cè)點(diǎn)上的電位差或總電場(chǎng)測(cè)量完畢;差分工作模式的測(cè)點(diǎn)的記錄點(diǎn)以測(cè)量電位差時(shí)的測(cè)量電極M與N的中心為記錄點(diǎn),并以該中心的平面坐標(biāo)作為測(cè)點(diǎn)的平面坐標(biāo);總場(chǎng)工作模式的測(cè)點(diǎn)的記錄點(diǎn)以測(cè)量總電場(chǎng)時(shí)的測(cè)量電極M為記錄點(diǎn);
f)根據(jù)工作模式,選擇公式計(jì)算;若是差分工作模式,按照公式(1),求取所有測(cè)點(diǎn)的差分判漏參數(shù)LEAKMN,
公式(1)中的VMN-A1B1-f1為供電電極A1和B1供電時(shí),測(cè)量電極M和N上的測(cè)量頻率f1電信號(hào)的電位差;為測(cè)量電極M和N之間的距離;IA1B1-MN-f1為測(cè)量電極M和N上測(cè)量電位差時(shí),供電電極A1和B1通過的頻率f1電信號(hào)的供電電流值;KMN-A2B2為供電電極A2和B2、測(cè)量電極M和N的裝置系數(shù);VMN-A2B2-f2為供電電極A2和B2供電時(shí),測(cè)量電極M和N上的頻率f2電信號(hào)的電位差;IA2B2-MN-f2為測(cè)量電極M和N上測(cè)量頻率f2電信號(hào)的電位差時(shí),供電電極A2和B2通過的頻率f2電信號(hào)的供電電流值;公式(1)中的IA1B1-MN-f1、VMN-A1B1-f1、KMN-A2B2、VMN-A2B2-f2、IA2B2-MN-f2中的測(cè)量電極M和N的位置均相同;
若是總場(chǎng)工作模式,則按照公式(2),求取所有測(cè)點(diǎn)的總場(chǎng)判漏參數(shù)LEAKM,
公式(2)中的VM-A1B1-f1為供電電極A1和B1供電時(shí),測(cè)量電極M和無(wú)窮遠(yuǎn)測(cè)量電極P上的測(cè)量頻率f1電信號(hào)的總電場(chǎng);IA1B1-M-f1為測(cè)量電極M和無(wú)窮遠(yuǎn)測(cè)量電極P上測(cè)量總電場(chǎng)時(shí),供電電極A1和B1通過的頻率f1電信號(hào)的供電電流值;KM-A2B2為供電電極A2和B2、測(cè)量電極M的裝置系數(shù);VM-A2B2-f2為供電電極A2和B2供電時(shí),測(cè)量電極M和無(wú)窮遠(yuǎn)測(cè)量電極P上的頻率f2電信號(hào)的總電場(chǎng);IA2B2-M-f2為測(cè)量電極M和無(wú)窮遠(yuǎn)測(cè)量電極P上測(cè)量頻率f2電信號(hào)的總電場(chǎng)時(shí),供電電極A2和B2通過的頻率f2電信號(hào)的供電電流值;公式(2)中的IA1B1-M-f1、VM-A1B1-f1中的測(cè)量電極M的位置均相同;
g)根據(jù)工作模式,進(jìn)行圖形繪制;若開展的是差分工作模式,則對(duì)測(cè)點(diǎn)的差分判漏參數(shù)根據(jù)測(cè)點(diǎn)平面坐標(biāo)進(jìn)行差分判漏參數(shù)圖形繪制;若只有一條電法勘探測(cè)線,則繪制差分判漏參數(shù)單曲線圖形;若有多條電法勘探測(cè)線,則繪制差分判漏參數(shù)平面剖面圖;
若開展的是總場(chǎng)工作模式,則對(duì)測(cè)點(diǎn)的總場(chǎng)判漏參數(shù)根據(jù)測(cè)點(diǎn)平面坐標(biāo)進(jìn)行總場(chǎng)判漏參數(shù)圖形繪制;若只有一條電法勘探測(cè)線,則繪制總場(chǎng)判漏參數(shù)單曲線圖形;若有多條電法勘探測(cè)線,則繪制總場(chǎng)判漏參數(shù)平面剖面圖;
h)對(duì)g)步驟的差分判漏參數(shù)或總場(chǎng)判漏參數(shù)圖形按照判斷滲漏點(diǎn)的法則進(jìn)行分析,判斷填埋場(chǎng)是否存在滲漏,若存在滲漏,獲取滲漏點(diǎn)的平面坐標(biāo)位置。
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G01V3-00 電或磁的勘探或探測(cè);;地磁場(chǎng)特性的測(cè)量;例如,磁偏角或磁偏差
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G01V3-08 .通過被測(cè)目標(biāo)或地質(zhì)結(jié)構(gòu)或通過探測(cè)裝置產(chǎn)生或改變磁場(chǎng)或電場(chǎng)進(jìn)行操作的
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