[發(fā)明專利]深度學(xué)習(xí)模型生產(chǎn)系統(tǒng)、電子設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110363166.X | 申請(qǐng)日: | 2021-04-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113052328B | 公開(公告)日: | 2023-05-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林達(dá)華;曹陽(yáng);李兆松;張行程;陳愷;楊冠姝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海商湯科技開發(fā)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06N20/00 | 分類號(hào): | G06N20/00;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 201306 上海市自由貿(mào)*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 深度 學(xué)習(xí) 模型 生產(chǎn) 系統(tǒng) 電子設(shè)備 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
1.一種深度學(xué)習(xí)模型生產(chǎn)系統(tǒng),其特征在于,包括用戶開發(fā)平臺(tái)、專家開發(fā)平臺(tái)以及生產(chǎn)線商店平臺(tái),所述專家開發(fā)平臺(tái)與所述生產(chǎn)線商店平臺(tái)之間通過通信接口進(jìn)行信息傳輸,所述生產(chǎn)線商店平臺(tái)與所述用戶開發(fā)平臺(tái)之間通過通信接口進(jìn)行信息傳輸;
所述專家開發(fā)平臺(tái)用于搭建模型生產(chǎn)線,并將預(yù)搭建或已搭建的模型生產(chǎn)線發(fā)布至所述生產(chǎn)線商店平臺(tái),所述預(yù)搭建或已搭建的模型生產(chǎn)線中包括:預(yù)訓(xùn)練的深度學(xué)習(xí)模型、待設(shè)置的訓(xùn)練方式、預(yù)設(shè)數(shù)據(jù)采集標(biāo)準(zhǔn)以及預(yù)設(shè)數(shù)據(jù)標(biāo)注標(biāo)準(zhǔn);
所述生產(chǎn)線商店平臺(tái)用于展示并售賣預(yù)搭建或已搭建的模型生產(chǎn)線;
所述用戶開發(fā)平臺(tái)用于進(jìn)入所述生產(chǎn)線商店平臺(tái)以購(gòu)買模型生產(chǎn)線,以及基于購(gòu)買的模型生產(chǎn)線,生成待部署的目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型,所述用戶開發(fā)平臺(tái)的生產(chǎn)線列表中展示已購(gòu)買的模型生產(chǎn)線的生產(chǎn)線信息;
所述用戶開發(fā)平臺(tái)包括:
生產(chǎn)線選擇模塊,用于響應(yīng)于針對(duì)生產(chǎn)線列表中模型生產(chǎn)線的選擇操作,展示選中的模型生產(chǎn)線的設(shè)置列表,其中,所述選中的模型生產(chǎn)線用于生成待部署的目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型,所述設(shè)置列表中包括所述選中的模型生產(chǎn)線的第一設(shè)置項(xiàng),所述第一設(shè)置項(xiàng)用于設(shè)置目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型、所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型的訓(xùn)練方式以及用于訓(xùn)練所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型的數(shù)據(jù)集,所述生產(chǎn)線列表用于展示供選擇的模型生產(chǎn)線的生產(chǎn)線信息;
設(shè)置模塊,用于響應(yīng)于針對(duì)所述設(shè)置列表中第一設(shè)置項(xiàng)的設(shè)置操作,確定用于實(shí)現(xiàn)目標(biāo)任務(wù)的目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型、所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型的訓(xùn)練方式以及用于訓(xùn)練所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型的數(shù)據(jù)集;
訓(xùn)練模塊,用于響應(yīng)于針對(duì)所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型的訓(xùn)練觸發(fā)操作,根據(jù)所述數(shù)據(jù)集以及所述訓(xùn)練方式,對(duì)所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型進(jìn)行訓(xùn)練,得到待部署的目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,所述第一設(shè)置項(xiàng)的設(shè)置操作,包括:數(shù)據(jù)集設(shè)置操作、網(wǎng)絡(luò)類型設(shè)置操作以及訓(xùn)練方式設(shè)置操作;
所述響應(yīng)于針對(duì)所述設(shè)置列表中第一設(shè)置項(xiàng)的設(shè)置操作,確定用于實(shí)現(xiàn)所述目標(biāo)任務(wù)的目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型、所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型的訓(xùn)練方式以及用于訓(xùn)練所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型的數(shù)據(jù)集,包括:
響應(yīng)于針對(duì)所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型的網(wǎng)絡(luò)類型設(shè)置操作,確定用于實(shí)現(xiàn)所述目標(biāo)任務(wù)的目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型;
響應(yīng)于針對(duì)所述目標(biāo)任務(wù)的數(shù)據(jù)集的數(shù)據(jù)集設(shè)置操作,確定用于訓(xùn)練所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型的數(shù)據(jù)集;
響應(yīng)于針對(duì)所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型的訓(xùn)練方式設(shè)置操作,確定所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型的訓(xùn)練方式。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的系統(tǒng),其特征在于,所述訓(xùn)練方式包括用于執(zhí)行訓(xùn)練的訓(xùn)練設(shè)備、訓(xùn)練結(jié)束指標(biāo)及樣本數(shù)據(jù)的指定尺寸;
所述根據(jù)所述數(shù)據(jù)集以及所述訓(xùn)練方式,對(duì)所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型進(jìn)行訓(xùn)練,得到待部署的目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型,包括:
根據(jù)所述指定尺寸調(diào)整所述數(shù)據(jù)集中樣本數(shù)據(jù)的尺寸,得到調(diào)整后的數(shù)據(jù)集;
根據(jù)所述調(diào)整后的數(shù)據(jù)集以及所述訓(xùn)練結(jié)束指標(biāo),在所述訓(xùn)練設(shè)備中訓(xùn)練所述目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型,得到待部署的目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的系統(tǒng),其特征在于,所述設(shè)置列表中還包括第二設(shè)置項(xiàng),所述第二設(shè)置項(xiàng)用于設(shè)置所述待部署的目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型的封裝參數(shù),所述封裝參數(shù)包括封裝方式和/或部署設(shè)備,所述用戶開發(fā)平臺(tái)還包括:
部署模塊,用于響應(yīng)于針對(duì)所述設(shè)置列表中第二設(shè)置項(xiàng)的設(shè)置操作,對(duì)所述待部署的目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型進(jìn)行封裝,得到所述待部署的目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型的封裝文件,
其中,所述第二設(shè)置項(xiàng)的設(shè)置操作包括:對(duì)封裝方式和/或部署設(shè)備的設(shè)置操作,所述封裝文件用于在所述部署設(shè)備中部署所述待部署的目標(biāo)深度學(xué)習(xí)模型。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海商湯科技開發(fā)有限公司,未經(jīng)上海商湯科技開發(fā)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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