[發明專利]指紋識別裝置和電子設備

在審

• 申請號: 202110362385.6
• 申請日: 2021-04-02
• 公開（公告）號: CN113065469A
• 公開（公告）日: 2021-07-02
• 發明（設計）人: 蔡斐欣;王胤;張思超;林峻賢
• 申請（專利權）人: 曜芯科技有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 北京龍雙利達知識產權代理有限公司 11329
• 代理人: 毋小妮;毛威

1.一種指紋識別裝置，其特征在于，適用于顯示屏的下方以實現屏下光學指紋識別，所述指紋識別裝置包括呈陣列分布的多個指紋識別單元，所述多個指紋識別單元中的每個指紋識別單元包括：

多個像素單元；

微透鏡，設置在所述多個像素單元的上方；

多層阻光層，設置在所述微透鏡和所述多個像素單元之間，所述多層阻光層中每一層阻光層中均設置有與所述多個像素單元對應的通光小孔，以形成與所述多個像素單元一一對應的多個導光通道；

其中，所述多個像素單元分別用于接收從所述顯示屏上方的手指反射或散射返回的，通過所述微透鏡會聚后，再經由所述多個導光通道傳輸的多個指紋光信號，所述多個指紋光信號用于檢測所述手指的指紋信息以進行指紋識別；

其中，所述多層阻光層包括底層阻光層和中間阻光層，所述中間阻光層包括除所述底層阻光層之外的阻光層，由所述中間阻光層中與所述多個像素單元對應的通光小孔形成的通光區域的通光口徑D₂與所述微透鏡的最大口徑CA滿足0.3≤D₂/CA≤1.3，D2為所述中間阻光層所在的平面上，所述通光區域中最遠的兩點之間的距離。

2.根據權利要求1所述的指紋識別裝置，其特征在于，所述中間阻光層的下表面至所述微透鏡的下表面之間的深度Z₂與所述底層阻光層的下表面至所述微透鏡的下表面之間的深度Z₁滿足0.1≤Z₂/Z₁≤0.9。

3.根據權利要求2所述的指紋識別裝置，其特征在于，若所述中間阻光層的下表面至所述微透鏡的下表面之間的深度Z₂與所述底層阻光層的下表面至所述微透鏡的下表面之間的深度Z₁滿足0.1≤Z₂/Z₁≤0.5，所述通光區域的通光口徑D₂與所述微透鏡的最大口徑CA滿足0.5≤D₂/CA≤1，所述通光區域的形狀為一個圓形。

4.根據權利要求2所述的指紋識別裝置，其特征在于，若所述中間阻光層的下表面至所述微透鏡的下表面之間的深度Z₂與所述底層阻光層的下表面至所述微透鏡的下表面之間的深度Z₁滿足0.3≤Z₂/Z₁≤0.75，所述通光區域的通光口徑D₂與所述微透鏡的最大口徑CA滿足0.5≤D₂/CA≤0.8，所述通光區域的形狀為一個圓角矩形或一個花瓣形。

5.根據權利要求2所述的指紋識別裝置，其特征在于，若所述中間阻光層的下表面至所述微透鏡的下表面之間的深度Z₂與所述底層阻光層的下表面至所述微透鏡的下表面之間的深度Z₁滿足0.65≤Z₂/Z₁≤0.9，所述通光區域的通光口徑D₂與所述微透鏡的最大口徑CA滿足0.8≤D₂/CA≤1.2，所述中間阻光層中與所述多個像素單元對應的通光小孔為一一對應的多個獨立小孔。

6.根據權利要求1所述的指紋識別裝置，其特征在于，所述通光區域的通光口徑D₂與所述微透鏡的最大口徑CA滿足0.5≤D₂/CA≤1.2。

7.根據權利要求2所述的指紋識別裝置，其特征在于，所述中間阻光層的下表面至所述微透鏡的下表面之間的深度Z₂與所述底層阻光層的下表面至所述微透鏡的下表面之間的深度Z₁滿足0.5≤Z₂/Z₁≤0.9。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的指紋識別裝置，其特征在于，所述底層阻光層中每個通光小孔的最大口徑D₁與所述微透鏡的最大口徑CA滿足0.02≤D₁/CA≤0.4。