[發明專利]一種分子印跡光子晶體及其制備方法和應用有效
| 申請號: | 202110361189.7 | 申請日: | 2021-04-02 |
| 公開(公告)號: | CN113234188B | 公開(公告)日: | 2022-02-15 |
| 發明(設計)人: | 張安強;封曦翔;林雅鈴 | 申請(專利權)人: | 華南理工大學 |
| 主分類號: | C08F220/06 | 分類號: | C08F220/06;C08F222/14;C08J9/26;G01N21/31;G01N21/33 |
| 代理公司: | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人: | 齊鍵 |
| 地址: | 510641 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 分子 印跡 光子 晶體 及其 制備 方法 應用 | ||
1.結構式如式(1)所示的分子印跡光子晶體:
式(1)中的a、b、m和n為正整數;
分子印跡光子晶體的制備方法,包括以下步驟:
(1)二氧化硅微球乳液的制備:將醇、堿和溶劑混合,形成混合物A,然后加入偶聯劑,反應,制得二氧化硅微球乳液;
(2)二氧化硅光子晶體的制備:將步驟(1)制得的二氧化硅微球乳液加入有機溶劑中,超聲分散,得到混合物B;將含有二氧化硅的載體進行親水處理,然后將混合物B涂覆在經過親水處理后的含有二氧化硅的載體表面,制得二氧化硅光子晶體;所述親水處理的過程為,將含有二氧化硅的載體浸入酸和氧化劑的混合溶液中,然后取出含有二氧化硅的載體;
(3)預聚液的制備:將鐮刀菌酸、交聯劑和功能單體加入溶劑中,降溫,制得預聚液;所述功能單體用于形成氫鍵;
(4)取基底,將基底與步驟(2)處理得到的含有二氧化硅的載體貼合,得到貼合物,將貼合物浸入步驟(3)制得的預聚液與引發劑的混合物中,然后取出貼合物,反應,制得所述分子印跡光子晶體。
2.權利要求1所述的分子印跡光子晶體的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)二氧化硅微球乳液的制備:將醇、堿和溶劑混合,形成混合物A,然后加入偶聯劑,反應,制得二氧化硅微球乳液;
(2)二氧化硅光子晶體的制備:將步驟(1)制得的二氧化硅微球乳液加入有機溶劑中,超聲分散,得到混合物B;將含有二氧化硅的載體進行親水處理,然后將混合物B涂覆在經過親水處理后的含有二氧化硅的載體表面,制得二氧化硅光子晶體;所述親水處理的過程為,將含有二氧化硅的載體浸入酸和氧化劑的混合溶液中,然后取出含有二氧化硅的載體;
(3)預聚液的制備:將鐮刀菌酸、交聯劑和功能單體加入溶劑中,降溫,制得預聚液;所述功能單體用于形成氫鍵;
(4)取基底,將基底與步驟(2)處理得到的含有二氧化硅的載體貼合,得到貼合物,將貼合物浸入步驟(3)制得的預聚液與引發劑的混合物中,然后取出貼合物,反應,制得所述分子印跡光子晶體。
3.根據權利要求2所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,所述混合物A中,所述醇、堿和溶劑的體積比為100:(8-18):(40-80)。
4.根據權利要求2所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,所述含有二氧化硅的載體為玻璃。
5.根據權利要求2所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,所述親水處理的過程中,所述酸為硫酸;所述硫酸的質量分數大于80%;所述氧化劑為過氧化物。
6.根據權利要求2所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,所述親水處理的過程中,所述酸與所述氧化劑的體積比為7:(1-5)。
7.根據權利要求2所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)中,所述交聯劑為二甲基丙烯酸乙二醇酯;所述功能單體為甲基丙烯酸。
8.根據權利要求2所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)中,所述鐮刀菌酸、交聯劑和功能單體的摩爾比為1:(0.2-1.8):(2-10)。
9.根據權利要求2所述的制備方法,其特征在于,步驟(4)中,反應后,將貼合物浸入質量分數為0.5-1%的氫氟酸溶液中2-3h至基底與載體分離,然后取出基底和載體,沖洗,然后浸入乙酸和甲醇的混合物中處理,得到所述分子印跡光子晶體,再放入磷酸緩沖溶液進行保存。
10.權利要求1所述的分子印跡光子晶體在檢測鐮刀菌酸或香蕉枯萎病菌中的應用。
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