[發(fā)明專利]抗蝕墨及抗蝕印刷物的制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110358861.7 | 申請日: | 2021-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN113527940A | 公開(公告)日: | 2021-10-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 小林智惠;岡田守弘 | 申請(專利權(quán))人: | DIC油墨株式會社 |
| 主分類號: | C09D11/10 | 分類號: | C09D11/10;B41M1/28;B41M7/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 王銘浩 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 抗蝕墨 印刷 制造 方法 | ||
本發(fā)明的目的在于提供抗蝕墨及抗蝕印刷物的制造方法。所述抗蝕墨即使用于掩模的抗蝕覆膜為薄膜,也能夠兼具與形成電路的金屬箔的密合性和耐酸性蝕刻性。所述抗蝕墨含有聚酯樹脂、氧化鈦和硅烷偶聯(lián)劑,上述聚酯樹脂的數(shù)均分子量為3000~10000,并且上述聚酯樹脂的羥值為15mgKOH/g以上和/或酸值為15mgKOH/g以上,上述氧化鈦的含量為抗蝕墨總量的5~30質(zhì)量%。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及在由金屬箔制作電路圖案狀的電路基板時使用的抗蝕墨。
背景技術(shù)
近年來,以使錄像帶租賃店、藥妝店、家電量販店等各種業(yè)態(tài)的零售店、圖書館等依賴于人手的應對自動化、消解人材不足、削減人工費為目的,正在普及被稱為“電子式商品監(jiān)視裝置”、“電子式物品監(jiān)視裝置”、“電子式商品監(jiān)視設備”的EAS設備(ElectronicArticle surveillance:電子商品監(jiān)視設備)的導入。
其是如下系統(tǒng):如果在商品上貼上專用標簽,在結(jié)算收銀處正規(guī)地支付價款,則當場取下標簽,或者進行使標簽無效化的處理。如果想要非法帶走商品,則檢測未處理的標簽并發(fā)出警報聲等,將異常通知給管理者,由此在進行了所謂的偷竊(偷盜商品)時,通過警報聲等進行通知。
另外,在使用近距離無線通信的自動識別技術(shù)的RFID(radio frequencyidentification:射頻識別)中,通常,使用無線通信來識別·管理貼有IC標簽的各種對象物的系統(tǒng)及其相關(guān)部件正在世界上普及,在日本國內(nèi),需求也開始逐年增加。并且,在制造這些EAS設備、RFID中使用的IC標簽時,使用抗蝕墨。
IC標簽通常在金屬箔上用抗蝕墨進行形成電路圖案的線圈狀的掩模印刷,根據(jù)需要經(jīng)過印刷部的紫外線固化、熱固化,浸漬于酸性或堿性的蝕刻液中,蝕刻除去作為電路圖案所不需要的部分,制作所需的電路圖案(例如,專利文獻1:日本特開2015-65384)。
在將成為蝕刻時的抗蝕劑的印刷覆膜熱固化的類型中,通常使用烘箱進行170℃~200℃的烘烤。
另外,近年來,迫切期望分辨率更高且再現(xiàn)性優(yōu)異的掩模,相對于現(xiàn)狀的約2.2~3.0g/m2的涂布量(例如,專利文獻2:日本專利6117457號),需要制成涂布量2g/m2以下的薄膜,另一方面,如果制成薄膜,則在酸蝕刻時觀察到墨剝落的現(xiàn)象,因此期望即使在薄膜時也能夠兼顧與金屬箔的密合性和耐酸性蝕刻性。
現(xiàn)有技術(shù)文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2015-65384號公報
專利文獻2:日本專利6117457號公報
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題
本發(fā)明的目的在于提供一種抗蝕墨,即使用于掩模的抗蝕覆膜為薄膜,也能夠兼具與成為電路的金屬箔的密合性和耐酸性蝕刻性。
用于解決課題的手段
本發(fā)明人等為了解決上述課題而反復進行了深入研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),在抗蝕墨中,含有特定的聚酯樹脂、氧化鈦和硅烷偶聯(lián)劑作為必須成分對于解決課題是有效的。
即,本發(fā)明涉及一種抗蝕墨,其特征在于,含有聚酯樹脂、氧化鈦和硅烷偶聯(lián)劑,上述聚酯樹脂的數(shù)均分子量為3000~10000,并且上述聚酯樹脂的羥值為15mgKOH/g以上和/或酸值為15mgKOH/g以上,上述氧化鈦的含量為抗蝕墨總量的5~30質(zhì)量%。
另外,本發(fā)明涉及一種抗蝕墨,其中,上述硅烷偶聯(lián)劑為選自3-巰基丙基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-異氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、對苯乙烯基三甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷中的1種以上。
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