[發(fā)明專利]一種新型納米壓印設(shè)備及其壓印方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110357714.8
• 申請(qǐng)日: 2021-04-01
• 公開（公告）號(hào): CN113075861B
• 公開（公告）日: 2023-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 冀然
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 青島天仁微納科技有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): G03F7/00
• 分類號(hào): G03F7/00;G03F7/20;G03F7/16
• 代理公司: 山東重諾律師事務(wù)所 37228
• 代理人: 王鵬里

1.一種新型納米壓印設(shè)備，其特征在于，包括：

吸盤，所述吸盤可升降，且在吸盤的上表面設(shè)置有真空槽，與所述真空槽連接有真空發(fā)生裝置，以在吸盤上表面形成負(fù)壓，用于吸附晶圓；

支撐裝置，其設(shè)置有兩個(gè)，分別位于所述吸盤的左側(cè)及右側(cè)，其中，左側(cè)支撐裝置上連接有可升降的第一升降塊，右側(cè)支撐裝置上連接有可升降的第二升降塊和第三升降塊，所述左側(cè)支撐裝置以及右側(cè)支撐裝置上分別設(shè)置有兩限位塊，以相應(yīng)的限位第一升降塊、第二升降塊以及第三升降塊的升降位置；

滴膠裝置，其位于左側(cè)支撐裝置與吸盤之間，所述滴膠裝置包括移動(dòng)機(jī)構(gòu)，以及與所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)連接有可轉(zhuǎn)動(dòng)的滴膠嘴組件，所述滴膠嘴組件轉(zhuǎn)動(dòng)至工作位置后，并通過移動(dòng)機(jī)構(gòu)移動(dòng)，可向晶圓的不同位置滴膠；

涂布裝置，與所述第三升降塊連接，所述涂布裝置具有可伸縮的涂布?jí)K，以在所述晶圓上滴膠后，通過涂布?jí)K的伸縮涂布膠液，所述涂布?jí)K為條形，所述涂布?jí)K上設(shè)置有涂布面，所述涂布面朝向晶圓，所述涂布?jí)K的兩端連接有厚度控制板，以控制膠液涂布厚度，所述涂布?jí)K通過伸縮桿第三升降塊連接，所述涂布面包括四個(gè)不相同的涂布面，所述涂布?jí)K可轉(zhuǎn)動(dòng)，以使不同的涂布面朝向晶圓控制不同的涂膠厚度；

固定裝置，用于固定PET，包括連接于所述左側(cè)支撐裝置上的第一固定裝置，以及連接于所述第二升降塊上的第二固定裝置，用于固定PET的兩端，且所述第二固定裝置的高度位于第一固定裝置以上；

壓印曝光裝置，其與第一升降塊連接，壓印曝光裝置具有可伸縮的壓印頭，壓印頭朝向壓印方向的角為圓弧形，壓印頭可與PET上表面相抵，并向第二固定裝置的方向伸縮，所述壓印頭上具有透光區(qū)以及與透光區(qū)對(duì)應(yīng)的紫外燈；

膠液回收裝置，其具有收集槽，所述收集槽位于真空槽外側(cè)，所述收集槽通過收集管連接有廢液收集瓶，以收集壓印溢出的廢膠液。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型納米壓印設(shè)備，其特征在于：所述真空發(fā)生裝置包括設(shè)置于真空槽內(nèi)的真空孔以及與真空孔連接的真空泵。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型納米壓印設(shè)備，其特征在于：所述左側(cè)支撐裝置以及右側(cè)支撐裝置均為支撐桿，所述第一升降塊、第二升降塊、第三升降塊均為升降電機(jī)，所述第一升降塊位于所述第一固定裝置上方，所述第二升降塊位于所述第三升降塊的下方。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型納米壓印設(shè)備，其特征在于：所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)為滑軌，所述滴膠嘴組件包括連接于滑軌上的旋轉(zhuǎn)電機(jī)，與旋轉(zhuǎn)電機(jī)連接的剛性膠管，以及連接于膠管兩管口上的膠嘴以及膠瓶。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型納米壓印設(shè)備，其特征在于：所述第一固定裝置包括水平設(shè)置的橫向支撐桿，以及連接于橫向支撐桿上用于固定PET一端的固定卡，所述橫向支撐桿朝向右側(cè)支撐裝置的方向設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型納米壓印設(shè)備，其特征在于：所述二固定裝置包括連接于所述第二升降塊上用于固定PET另一端的固定卡。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的新型納米壓印設(shè)備，其特征在于：所述固定卡包括上固定板，以及與所述上固定板對(duì)應(yīng)的下固定板，所述上固定板與下固定板之間可連接，以使所述PET的邊緣固定于所述上固定板與下固定板之間。

8.一種采用權(quán)利要求1-7任一權(quán)利要求書所述的新型納米壓印設(shè)備的壓印方法，其特征在于：包括以下步驟：

S1：上料

將晶圓放在吸盤上，通過負(fù)壓吸附固定晶圓，將PET的兩端通過所述第一固定裝置以及第二固定裝置固定；

S2：點(diǎn)膠

吸盤提升至點(diǎn)膠位置，滴膠嘴組件轉(zhuǎn)動(dòng)至工作位置后，并通過移動(dòng)機(jī)構(gòu)移動(dòng)，向晶圓的不同位置滴膠，點(diǎn)膠完成后，滴膠嘴組件旋轉(zhuǎn)至起點(diǎn)位置；

S3：涂布及廢膠液回收

轉(zhuǎn)動(dòng)涂布?jí)K，選擇朝向晶圓的涂布面后，固定涂布?jí)K，涂布?jí)K伸出至膠液遠(yuǎn)離涂布方向一端對(duì)應(yīng)的a位置，吸盤提升至涂布位置，涂布?jí)K逐步向涂布方向回拉至b位置；

溢出的多余膠液溢流至回收槽內(nèi)，通過收集管回收至廢液收集瓶；

S4：壓印

吸盤提升至壓印位置，以使晶圓上的膠體與靠近第一固定裝置上PET的下表面接觸，壓印曝光裝置在第一升降塊的移動(dòng)下向下移動(dòng)，以使壓印頭與PET的上表面相抵，紫外燈打開，壓印頭向第二固定裝置的方向移動(dòng)的同時(shí)，第二升降塊向下移動(dòng)，第二固定裝置在第二升降塊的帶動(dòng)下，使PET另一端向下移動(dòng)，PET自靠近左側(cè)支撐裝置一側(cè)向右側(cè)支撐裝置一側(cè)逐步與膠液接觸，并通過壓印頭壓印、紫外燈固化，完成壓印，紫外燈關(guān)閉；

S5：脫模

壓印曝光裝置上的壓印頭回至起點(diǎn)，第二升降塊向上移動(dòng)，第二固定裝置在第二升降塊的帶動(dòng)下，使PET另一端向上移動(dòng)，PET自靠近右側(cè)支撐裝置一側(cè)向左側(cè)支撐裝置一側(cè)逐步與固化的膠液分離，完成脫模，吸盤回至起點(diǎn)。