[發明專利]具有日間輻射制冷的多孔聚二甲基硅氧烷及其制備方法有效
| 申請號： | 202110356113.5 | 申請日： | 2021-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN113072737B | 公開（公告）日： | 2022-09-06 |
| 發明（設計）人： | 鄧元;翁楊紫菀;趙未昀;姜一 | 申請（專利權）人： | 北京航空航天大學杭州創新研究院 |
| 主分類號： | C08J9/26 | 分類號： | C08J9/26;C08L83/04 |
| 代理公司： | 北京細軟智谷知識產權代理有限責任公司 11471 | 代理人： | 劉靜培 |
| 地址： | 310000 浙江省*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 日間 輻射 制冷 多孔 聚二甲基硅氧烷 及其 制備 方法 | ||
1.一種具有日間輻射制冷的多孔聚二甲基硅氧烷的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
(1)微米級NaCl致孔劑的合成：
將NaCl溶液在攪拌條件下滴加至無水乙醇中，反應一段時間，停止攪拌，靜置后，倒去上清液，離心，收集沉淀；將所述沉淀用無水乙醇進行清洗后離心，收集沉淀，經干燥、粉碎，即得微米級NaCl致孔劑；
所述NaCl溶液與無水乙醇的體積比為1:100-20:100；所述微米級NaCl致孔劑的粒徑為5-10μm；
(2)取PDMS預聚物與固化劑，經充分混勻后，制得PDMS混合液；向所述PDMS混合液中加入步驟(1)所述微米級NaCl致孔劑，充分混勻后，制得PDMS與微米級NaCl致孔劑的混合物；
所述PDMS的分子量范圍為5.0萬-20萬；
(3)將步驟(2)所述PDMS與微米級NaCl致孔劑的混合物先進行固化，再浸入去離子水中進行浸泡刻蝕，干燥，即得具有日間輻射制冷的多孔聚二甲基硅氧烷；
步驟(1)中，所述NaCl溶液的濃度為0.5-5M，所述NaCl溶液的溶劑為水和/或甘油。
2.根據權利要求1所述的具有日間輻射制冷的多孔聚二甲基硅氧烷的制備方法，其特征在于，步驟(1)中，反應的時間為1-10min；
所述干燥的溫度為40-100℃，所述干燥的時間為3-24h。
3.根據權利要求1所述的具有日間輻射制冷的多孔聚二甲基硅氧烷的制備方法，其特征在于，步驟(2)中，所述PDMS預聚物與固化劑的質量之比為10:1-10:2。
4.根據權利要求1所述的具有日間輻射制冷的多孔聚二甲基硅氧烷的制備方法，其特征在于，步驟(2)中，所述微米級NaCl致孔劑與所述PDMS混合液的質量比為1:2-10:1。
5.根據權利要求1所述的具有日間輻射制冷的多孔聚二甲基硅氧烷的制備方法，其特征在于，步驟(3)中，所述固化的溫度為60-200℃，所述固化的時間為3-24h。
6.根據權利要求1所述的具有日間輻射制冷的多孔聚二甲基硅氧烷的制備方法，其特征在于，步驟(3)中，在去離子水中的浸泡時間為1-5天；
所述干燥為真空干燥或冷凍干燥。
7.權利要求1-6任一項所述方法制得的具有日間輻射制冷的多孔聚二甲基硅氧烷。
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