[發明專利]一種表面具有多孔結構的碲化鉍柔性復合薄膜及其制備方法

有效

• 申請號: 202110352627.3
• 申請日: 2021-03-31
• 公開（公告）號: CN113088910B
• 公開（公告）日: 2023-07-14
• 發明（設計）人: 劉帥;謝曉銳;韓文靜;劉迎港
• 申請（專利權）人: 西安石油大學
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/58
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 王艾華

1.一種表面具有多孔結構的碲化鉍柔性復合薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1，將聚酰亞胺襯底放置于磁控濺射設備中，在聚酰亞胺襯底上沉積碲化鉍薄膜，獲得過程碲化鉍柔性復合薄膜；

步驟1中，磁控濺射以前，將聚酰亞胺襯底加熱至200℃；磁控濺射的功率為20-30W，施加襯底偏壓為20V，濺射時間為10-20分鐘；

步驟1中，聚酰亞胺襯底的厚度為100μm；

步驟2，將過程碲化鉍柔性復合薄膜退火處理，獲得最終的碲化鉍柔性復合薄膜；所述薄膜表面有孔隙結構；

步驟2中，退火溫度為150℃-300℃，退火時間為2h；退火處理的氛圍為氬氣環境；

所述碲化鉍薄膜的厚度為200-300nm；

聚酰亞胺襯底的膨脹系數大于碲化鉍柔性復合薄膜。

2.根據權利要求1所述的一種表面具有多孔結構的碲化鉍柔性復合薄膜的制備方法，其特征在于，步驟1中，磁控濺射的靶材為碲化鉍合金，所述碲化鉍合金中的Bi和Te的原子比為2:3，靶材規格為?2?inch×5mm。

3.根據權利要求1所述的一種表面具有多孔結構的碲化鉍柔性復合薄膜的制備方法，其特征在于，步驟1中，在磁控濺射以前濺射氬氣，氣體流量為50sccm，工作氣壓為1Pa。

4.根據權利要求1所述的一種表面具有多孔結構的碲化鉍柔性復合薄膜的制備方法，其特征在于，步驟2中，退火處理的裝置為單溫區管式爐。

5.一種通過權利要求1-4任意一項制備方法制得的表面具有多孔結構的碲化鉍柔性復合薄膜，其特征在于，所述復合薄膜包括聚酰亞胺襯底和碲化鉍薄膜，碲化鉍薄膜在聚酰亞胺襯底上，所述碲化鉍薄膜的厚度為200-300nm。