[發(fā)明專利]光學(xué)系統(tǒng)、取像模組及電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110352511.X | 申請日： | 2021-03-31 |
| 公開（公告）號： | CN112987259B | 公開（公告）日： | 2022-05-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉彬彬;鄒海榮;李明 | 申請（專利權(quán)）人： | 江西晶超光學(xué)有限公司 |
| 主分類號： | G02B13/00 | 分類號： | G02B13/00;H04N5/225;H04M1/02 |
| 代理公司： | 華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人： | 張培柳 |
| 地址： | 330096 江西省南昌市*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué)系統(tǒng) 模組 電子設(shè)備 | ||
1.一種光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述光學(xué)系統(tǒng)中具有屈折力的透鏡的數(shù)量為八片，沿光軸由物側(cè)至像側(cè)依次包括：
具有負(fù)屈折力的第一透鏡，所述第一透鏡的物側(cè)面于近光軸處為凸面，像側(cè)面于近光軸處為凹面；
具有負(fù)屈折力的第二透鏡，所述第二透鏡的物側(cè)面于近光軸處為凸面，像側(cè)面于近光軸處為凹面；
具有正屈折力的第三透鏡，所述第三透鏡的物側(cè)面于近光軸處為凸面，像側(cè)面于近光軸處為凸面；
具有屈折力的第四透鏡，所述第四透鏡的像側(cè)面于近光軸處為凸面；
具有屈折力的第五透鏡；
具有屈折力的第六透鏡；
具有正屈折力的第七透鏡，所述第七透鏡的像側(cè)面于近光軸處為凸面；以及
具有屈折力的第八透鏡，所述第八透鏡的物側(cè)面于近光軸處為凸面，像側(cè)面于近光軸處為凹面；
所述光學(xué)系統(tǒng)滿足以下條件式：
1.5≤TTL/(ImgH*2)≤1.7；
150°≤FOV≤170°；
其中，TTL為所述第一透鏡的物側(cè)面至所述光學(xué)系統(tǒng)的成像面于光軸上的距離，ImgH為所述光學(xué)系統(tǒng)的最大視場角所對應(yīng)的像高的一半，F(xiàn)OV為所述光學(xué)系統(tǒng)的最大視場角。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：
0.5≤f1/f(123)≤1.3；
其中，f1為所述第一透鏡的有效焦距，f(123)為所述第一透鏡、所述第二透鏡與所述第三透鏡的組合焦距。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：
1≤R16/f≤4.5；
其中，R16為所述第八透鏡的像側(cè)面于光軸處的曲率半徑，f為所述光學(xué)系統(tǒng)的有效焦距。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：
1.5≤T12/T23≤3.5；
其中，T12為所述第一透鏡的像側(cè)面至所述第二透鏡的物側(cè)面于光軸上的距離，T23為所述第二透鏡的像側(cè)面至所述第三透鏡的物側(cè)面于光軸上的距離。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：
1≤(n1+n3)/(n2+n8)≤1.2；
其中，n1為所述第一透鏡在d線下的折射率，n2為所述第二透鏡在d線下的折射率，n3為所述第三透鏡在d線下的折射率，n8為所述第八透鏡在d線下的折射率。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：
1≤SD11/SD82≤2；
其中，SD11為所述第一透鏡的物側(cè)面的最大有效孔徑，SD82為所述第八透鏡的像側(cè)面的最大有效孔徑。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，滿足以下條件式：
7≤(f1+|f2|+|f3|)/f≤12；
其中，f1為所述第一透鏡的有效焦距，f2為所述第二透鏡的有效焦距，f3為所述第三透鏡的有效焦距，f為所述光學(xué)系統(tǒng)的有效焦距。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述第八透鏡的物側(cè)面及像側(cè)面中至少一者存在反曲點，且所述光學(xué)系統(tǒng)滿足以下條件式：
0.5≤Yc82/SD82≤1；
其中，Yc82為所述第八透鏡的像側(cè)面最靠近成像面的位置的垂軸高度，SD82為所述第八透鏡的像側(cè)面的最大有效孔徑。
9.一種取像模組，其特征在于，包括感光元件以及權(quán)利要求1-8任一項所述的光學(xué)系統(tǒng)，所述感光元件設(shè)置于所述光學(xué)系統(tǒng)的像側(cè)。
10.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括殼體以及權(quán)利要求9所述的取像模組，所述取像模組設(shè)置于所述殼體。
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