[發(fā)明專利]一種含持久性表面活性污染物污水的處理方法及處理系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110351716.6 | 申請日: | 2021-03-31 |
| 公開(公告)號: | CN113072223A | 公開(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 呂先謹(jǐn);胡紅喜;劉超;呂建芳;馬致遠(yuǎn);劉勇;陳志強(qiáng);周吉奎;饒金山;呂昊子 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東省科學(xué)院資源綜合利用研究所 |
| 主分類號: | C02F9/08 | 分類號: | C02F9/08;C02F1/24;C02F1/32;C02F101/30;C02F101/36;C02F101/38;C02F101/34 |
| 代理公司: | 北京勁創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11589 | 代理人: | 王闖 |
| 地址: | 510651 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 持久性 表面活性 污染物 污水 處理 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種含持久性表面活性污染物污水的處理方法,其特征在于:所述處理方法包括:
通過溶氣氣浮工藝富集污水中的持久性表面活性污染物,在污水上部形成富含持久性表面活性污染物的氣液混合層;
對所述氣液混合層中的持久性表面活性污染物進(jìn)行光降解處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理方法,其特征在于:所述持久性表面活性污染物為全氟化合物,包括全氟烷基羧酸類、全氟烷基磺酸類、全氟烷基磺酸胺類;優(yōu)選為全氟辛酸、全氟辛基磺酸和全氟辛基磺酸胺中的一種或幾種的混合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理方法,其特征在于:所述溶氣氣浮工藝在溶氣過程中,所述污水流量控制在5~20L/h,進(jìn)氣量控制在0.5~2.0L/h,溶氣裝置內(nèi)的壓力穩(wěn)定在0.4~0.55MPa;和/或,
所述污水在處理前先進(jìn)行靜置沉淀和/或過濾去除固體懸浮顆粒物;優(yōu)選地,所述污水中固體懸浮物的濃度低于300mg/L。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理方法,其特征在于:所述光降解處理過程中,污水的液面高度和氣液混合層的高度保持穩(wěn)定;優(yōu)選地,所述氣液混合層的高度穩(wěn)定在80~100mm;和/或,
所述光降解處理過程中,控制污水的水力停留時(shí)間為60~180min;優(yōu)選地,所述污水的水力停留時(shí)間為150~180min;和/或,
所述光降解處理是利用紫外光源對氣液混合層進(jìn)行紫外輻照;優(yōu)選地,所述紫外光源為500W的中壓汞燈。
5.一種專用于實(shí)施如權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的處理方法的污水處理系統(tǒng),其特征在于:所述污水處理系統(tǒng)包括:
至少一溶氣裝置,
至少一降解反應(yīng)器;
所述至少一溶氣裝置的出水口與所述至少一降解反應(yīng)器的進(jìn)水口相連通;
所述至少一降解反應(yīng)器包括污染物降解區(qū),所述污染物降解區(qū)內(nèi)布設(shè)有用于降解持久性表面活性污染物的光降解設(shè)備。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的污水處理系統(tǒng),其特征在于:所述污水處理系統(tǒng)在溶氣裝置的前端還可以包括至少一溶氣泵,所述至少一溶氣泵與所述至少一溶氣裝置構(gòu)成溶氣系統(tǒng);優(yōu)選地,所述至少一溶氣泵為氣液混合泵,所述氣液混合泵上設(shè)有用于進(jìn)污水的進(jìn)水口、用于進(jìn)氣體的進(jìn)氣口、用于排出污水和氣體的出水/氣口。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的污水處理系統(tǒng),其特征在于:所述至少一溶氣裝置為一密閉的耐壓容器,通過提高壓力將空氣溶解進(jìn)入污水中;所述至少一溶氣裝置設(shè)有用于進(jìn)水/氣的進(jìn)水/氣口、用于排出溶解過空氣的污水的出水口、用于排出多余空氣的排氣口;所述至少一溶氣裝置的所述進(jìn)水/氣口與所述至少一溶氣泵的出水/氣口相連通;優(yōu)選地,所述排氣口通過排氣管道與大氣連通,所述排氣管道上設(shè)有壓力控制閥。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的污水處理系統(tǒng),其特征在于:所述至少一降解反應(yīng)器包括污染物降解區(qū)和污水流經(jīng)區(qū);所述至少一降解反應(yīng)器設(shè)有用于進(jìn)污水的進(jìn)水口、用于循環(huán)污水的回水口和用于排出污水的出水口;優(yōu)選地,所述降解反應(yīng)器的進(jìn)水口、回水口和出水口均設(shè)置在所述污水流經(jīng)區(qū);和/或,
所述至少一降解反應(yīng)器的所述進(jìn)水口通過進(jìn)水管道與所述至少一溶氣裝置的出水口相連通;所述至少一降解反應(yīng)器的所述回水口通過回水管道與所述溶氣泵的進(jìn)水口相連通;所述進(jìn)水管道上設(shè)有進(jìn)水流量調(diào)節(jié)閥,所述回水管道上設(shè)有回水流量調(diào)節(jié)閥,所述排水管道上設(shè)有出水流量調(diào)節(jié)閥。
9.根據(jù)權(quán)利要求6~8中任一項(xiàng)所述的污水處理系統(tǒng),其特征在于:基于所述污水處理系統(tǒng)的含持久性表面活性污染物污水的處理方法,包括:
通過所述溶氣裝置將非反應(yīng)性氣體加壓溶解進(jìn)含有持久性表面活性污染物的污水中,并將所述污水通入所述降解反應(yīng)器中;
所述污水中溶解的非反應(yīng)性氣體在所述降解反應(yīng)器內(nèi)溶出,形成大量氣泡并上浮,在所述降解反應(yīng)器的污染物降解區(qū)形成富含持久性表面活性污染物的氣液混合層;
利用光降解設(shè)備對所述氣液混合層進(jìn)行輻照處理,降解所述氣液混合層中的持久性表面活性污染物。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的污水處理系統(tǒng),其特征在于:所述污水處理方法包括:打開溶氣泵,將所述污水和空氣混合輸送至溶氣罐中,待溶氣泵壓力符合要求后,打開進(jìn)水流量調(diào)節(jié)閥,將所述污水通入降解反應(yīng)器中,通過所述進(jìn)水流量調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)進(jìn)水流量,并通過所述出水流量調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)出水流量,以及通過所述回水流量調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)回水流量,以使降解反應(yīng)器內(nèi)的污水水位保持穩(wěn)定;優(yōu)選地,所述進(jìn)水流量與所述出水流量和回水流量之和相等;和/或,
所述污水處理方法通過調(diào)整所述壓力控制閥,調(diào)節(jié)所述溶氣罐中所述污水中溶解的非反應(yīng)性氣體總量,從而調(diào)整降解反應(yīng)器中非反應(yīng)性氣體溶出所形成的氣液混合層的厚度;優(yōu)選地,所述溶氣罐內(nèi)的壓力調(diào)整為0.45~0.55MPa,更優(yōu)選為0.5MPa;和/或,
所述污水處理方法通過調(diào)節(jié)所述進(jìn)水流量調(diào)節(jié)閥、出水流量調(diào)節(jié)閥、回水流量調(diào)節(jié)閥對污水處理系統(tǒng)的水力停留時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,將所述回水流量調(diào)整為進(jìn)水流量的25~50%,使污水處理系統(tǒng)內(nèi)污水的水力停留時(shí)間為60~180min;優(yōu)選地,所述污水的水力停留時(shí)間為150~180min;和/或,
所述光降解設(shè)備水平安置于所述降解反應(yīng)器的污染物降解區(qū),且位于最高污水液面下方10~50mm。
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