[發明專利]基板處理裝置

有效

• 申請號: 202110348656.2
• 申請日: 2021-03-31
• 公開（公告）號: CN113458085B
• 公開（公告）日: 2023-04-28
• 發明（設計）人: 出村健介;松嶋大輔;神谷將也
• 申請（專利權）人: 芝浦機械電子株式會社
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 李雪春;閻文君

1.一種基板處理裝置，其特征為，

具備：放置臺，呈板狀且可旋轉；

多個支撐部，設置于所述放置臺的一個面且可支撐基板；

冷卻部，能夠向所述放置臺與被所述支撐部所支撐的所述基板的背面之間的空間供給冷卻氣體；

液體供給部，能夠向所述基板的與所述背面相反一側的表面供給液體；

及至少1個突起部，固定設置于所述放置臺的一個面，俯視觀察時沿著所述基板的設置區域的邊界線延伸。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征為，

當俯視觀察時，所述突起部的至少一部分與所述基板發生重疊，

在所述突起部的頂部與所述基板的背面之間可形成間隙。

3.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征為，

當俯視觀察時，所述突起部的至少一部分與所述基板發生重疊，

所述突起部的頂部的至少一部分與所述基板的背面可發生接觸。

4.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征為，

所述基板的平面形狀為四角形，

當俯視觀察時，所述突起部并不設置在所述基板的角的位置。

5.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征為，

所述基板的平面形狀為四角形，

當俯視觀察時，所述突起部并不設置在所述基板的角的位置。

6.根據權利要求3所述的基板處理裝置，其特征為，

所述基板的平面形狀為四角形，

當俯視觀察時，所述突起部并不設置在所述基板的角的位置。

7.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征為，通過從被所述放置臺、所述基板的背面、所述突起部所圍住的空間介由間隙流出的所述冷卻氣體的流出阻力以及所述間隙的開口大小以及所述間隙的位置的至少任意一個，可控制被冷卻的所述基板的溫度分布。

8.根據權利要求5所述的基板處理裝置，其特征為，通過從被所述放置臺、所述基板的背面、所述突起部所圍住的空間介由間隙流出的所述冷卻氣體的流出阻力以及所述間隙的開口大小以及所述間隙的位置的至少任意一個，可控制被冷卻的所述基板的溫度分布。

9.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征為，

所述基板的平面形狀為四角形，

當俯視觀察時，在所述基板的一個角的附近與鄰接于該角的角的附近之間，所述突起部沿著所述基板的周緣延伸。

10.根據權利要求5所述的基板處理裝置，其特征為，當俯視觀察時，在所述基板的一個角的附近與鄰接于該角的角的附近之間，所述突起部沿著所述基板的周緣延伸。

11.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征為，

所述基板的平面形狀為四角形，

當俯視觀察時，所述突起部沿著所述基板的邊延伸。

12.根據權利要求5所述的基板處理裝置，其特征為，當俯視觀察時，所述突起部沿著所述基板的邊延伸。

13.根據權利要求1～12中任意一項所述的基板處理裝置，其特征為，當俯視觀察時，所述突起部設置在所述基板的設置區域的內側。

14.根據權利要求1～12中任意一項所述的基板處理裝置，其特征為，當俯視觀察時，所述突起部的一部分設置在所述基板的設置區域的內側，所述突起部的其余部分設置在所述基板的設置區域的外側。

15.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征為，當俯視觀察時，所述突起部設置在所述基板的設置區域的外側。