[發(fā)明專利]一種基于模式轉(zhuǎn)換的空間功率合成倍頻器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110348505.7
• 申請日: 2021-03-31
• 公開（公告）號: CN113078428B
• 公開（公告）日: 2022-03-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張勇;王莉;魏浩淼;鄧樂;陳陽
• 申請（專利權(quán)）人: 電子科技大學
• 主分類號: H01P1/213
• 分類號: H01P1/213
• 代理公司: 電子科技大學專利中心 51203
• 代理人: 吳姍霖

1.一種基于模式轉(zhuǎn)換的空間功率合成倍頻器，其特征在于，包括輸入波導、輸出波導、屏蔽腔、n層金屬膜片和非線性器件；所述屏蔽腔與信號傳輸方向垂直的一端面為電壁，輸入波導與屏蔽腔靠近電壁的側(cè)面相連接，輸出波導與屏蔽腔的輸出端口相連接；輸入波導、輸出波導和屏蔽腔均為長方體，輸入波導和屏蔽腔的電場方向垂直；n層金屬膜片分別設(shè)置于屏蔽腔中電場模式場強最強處，非線性器件設(shè)置于每層金屬膜片上；屏蔽腔的尺寸，以及輸入波導和屏蔽腔連接處與屏蔽腔電壁的距離，共同實現(xiàn)電場模式由TE₁₀向TE_n0模式的轉(zhuǎn)換；其中，模式數(shù)n和金屬膜片層數(shù)n一致，n≥2。

2.如權(quán)利要求1所述的空間功率合成倍頻器，其特征在于，輸入波導和輸出波導均選用標準波導，尺寸由工作頻率決定。

3.如權(quán)利要求1所述的空間功率合成倍頻器，其特征在于，屏蔽腔和波導的內(nèi)壁應平整光滑。

4.如權(quán)利要求1所述的空間功率合成倍頻器，其特征在于，金屬膜片均為鰭線形狀，通過調(diào)整鰭線形狀的金屬膜片的縫隙以及形狀使倍頻器達到阻抗匹配的效果，金屬膜片的厚度越厚倍頻器的損耗越大。

5.如權(quán)利要求1所述的空間功率合成倍頻器，其特征在于，每層金屬膜片上的設(shè)置一個非線性器件或金屬膜片上下兩側(cè)并聯(lián)設(shè)置非線性器件。

6.如權(quán)利要求1所述的空間功率合成倍頻器，其特征在于，非線性器件設(shè)置于每層金屬膜片的波腹處，為短路面的位置，為波導波長。

7.如權(quán)利要求1所述的空間功率合成倍頻器，其特征在于，當n為2時，兩層的金屬膜片分別設(shè)置于屏蔽腔的場強最強處，即屏蔽腔寬邊的1/4及3/4位置。