[發(fā)明專(zhuān)利]一種化學(xué)實(shí)驗(yàn)室污水絮凝處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110347419.4
• 申請(qǐng)日: 2021-03-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113060811B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-11-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 程琳;馮春梅;努娜
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 內(nèi)蒙古工業(yè)大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): C02F1/52
• 分類(lèi)號(hào): C02F1/52
• 代理公司: 北京冠榆知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11666
• 代理人: 王道川

本發(fā)明公開(kāi)一種化學(xué)實(shí)驗(yàn)室污水絮凝處理裝置，包括絮凝反應(yīng)器、污水進(jìn)水管、污水分布器、絮凝劑儲(chǔ)存器、粉體噴頭和絮凝劑分布器；污水進(jìn)水管出水端與污水分布器進(jìn)水端流體導(dǎo)通連接，污水分布器安裝在絮凝反應(yīng)器封蓋上且污水分布器出水端與絮凝反應(yīng)器內(nèi)部流體導(dǎo)通；絮凝劑儲(chǔ)存器與粉體噴頭流體導(dǎo)通連接，粉體噴頭噴嘴設(shè)置在絮凝反應(yīng)器內(nèi)且粉體噴頭安裝在臨近封蓋的絮凝反應(yīng)器側(cè)壁上；絮凝劑分布器設(shè)置在位于粉體噴頭噴嘴下方的絮凝反應(yīng)器內(nèi)且位于絮凝反應(yīng)器內(nèi)液面的上方。本發(fā)明解決了在保證絮凝劑在污水中的分散度的同時(shí)不影響絮狀物的連續(xù)生長(zhǎng)，減少或者消除了攪拌作用對(duì)絮狀物連續(xù)生長(zhǎng)的影響。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及污水處理技術(shù)領(lǐng)域。具體地說(shuō)是一種化學(xué)實(shí)驗(yàn)室污水絮凝處理裝置。

背景技術(shù)

在污水處理過(guò)程中，常常會(huì)需要添加絮凝劑進(jìn)行絮凝沉降，而為了測(cè)試絮凝劑的絮凝沉降效果通常需要在實(shí)驗(yàn)室里進(jìn)行驗(yàn)證。但在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)對(duì)污水進(jìn)行絮凝沉降實(shí)驗(yàn)時(shí)，會(huì)因?yàn)閿嚢杞邓贂r(shí)機(jī)把控不好容易造成絮凝劑分散不均以及絮狀物斷裂破碎。因此如何實(shí)現(xiàn)提高絮凝劑在污水中的分散度且不影響絮狀物的生長(zhǎng)，成為實(shí)驗(yàn)室人員需要考慮的問(wèn)題。然而，在科研的壓力下，實(shí)驗(yàn)室人員往往沒(méi)有時(shí)間去從設(shè)備上解決這一問(wèn)題，基本上依靠經(jīng)驗(yàn)來(lái)控制攪拌速度以及攪拌劇烈程度。

發(fā)明內(nèi)容

為此，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供一種化學(xué)實(shí)驗(yàn)室污水絮凝處理裝置，解決了在保證絮凝劑在污水中的分散度的同時(shí)不影響絮狀物的連續(xù)生長(zhǎng)，減少或者消除了攪拌作用對(duì)絮狀物連續(xù)生長(zhǎng)的影響。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種化學(xué)實(shí)驗(yàn)室污水絮凝處理裝置，包括絮凝反應(yīng)器、污水進(jìn)水管、污水分布器、絮凝劑儲(chǔ)存器、粉體噴頭和絮凝劑分布器；所述污水進(jìn)水管出水端與所述污水分布器進(jìn)水端流體導(dǎo)通連接，所述污水分布器安裝在所述絮凝反應(yīng)器封蓋上且污水分布器出水端與所述絮凝反應(yīng)器內(nèi)部流體導(dǎo)通；所述絮凝劑儲(chǔ)存器與所述粉體噴頭流體導(dǎo)通連接，所述粉體噴頭噴嘴設(shè)置在所述絮凝反應(yīng)器內(nèi)且所述粉體噴頭安裝在臨近所述封蓋的所述絮凝反應(yīng)器側(cè)壁上；所述絮凝劑分布器設(shè)置在位于所述粉體噴頭噴嘴下方的所述絮凝反應(yīng)器內(nèi)且位于所述絮凝反應(yīng)器內(nèi)液面的上方；在進(jìn)行絮凝沉降實(shí)驗(yàn)時(shí)，所述粉體噴頭將所述絮凝劑儲(chǔ)存器內(nèi)存放的絮凝劑噴入所述絮凝反應(yīng)器內(nèi)，一部分絮凝劑落在所述絮凝劑分布器上，然后所述絮凝劑分布器上的絮凝劑被從所述污水分布器中流出的污水沖入所述絮凝劑分布器下方的污水中。

上述化學(xué)實(shí)驗(yàn)室污水絮凝處理裝置，所述粉體噴頭噴出方向與所述絮凝反應(yīng)器側(cè)壁之間的夾角為30～70°。

上述化學(xué)實(shí)驗(yàn)室污水絮凝處理裝置，所述絮凝劑分布器包括環(huán)形構(gòu)件和桿狀連接件，大于或等于3個(gè)不同內(nèi)徑的所述環(huán)形構(gòu)件通過(guò)桿狀連接件同軸裝配成盤(pán)狀構(gòu)件且相鄰的兩個(gè)所述環(huán)形構(gòu)件之間設(shè)有供絮凝劑或污水通過(guò)的間隙。

上述化學(xué)實(shí)驗(yàn)室污水絮凝處理裝置，所述絮凝劑分布器包括環(huán)形構(gòu)件和桿件，所述環(huán)形構(gòu)件內(nèi)側(cè)平行安裝有不同長(zhǎng)度的所述桿件且相鄰的兩個(gè)所述桿件之間設(shè)有供絮凝劑或污水通過(guò)的間隙。

上述化學(xué)實(shí)驗(yàn)室污水絮凝處理裝置，所述絮凝劑分布器由表面設(shè)有凸起的基材制成，相鄰的兩個(gè)所述凸起之間的距離為2～7mm；所述絮凝劑分布器放置在設(shè)置在所述絮凝反應(yīng)器內(nèi)壁上的支撐塊上。

上述化學(xué)實(shí)驗(yàn)室污水絮凝處理裝置，所述絮凝劑分布器由表面設(shè)有凹槽的基材制成，相鄰的兩個(gè)所述凹槽之間的距離為2～7mm。

上述化學(xué)實(shí)驗(yàn)室污水絮凝處理裝置，所述污水分布器分布板上的導(dǎo)流孔為階梯孔。

上述化學(xué)實(shí)驗(yàn)室污水絮凝處理裝置，所述階梯孔包括一級(jí)孔、二級(jí)孔和三級(jí)孔，所述一級(jí)孔、所述二級(jí)孔和所述三級(jí)孔均為錐形孔。

上述化學(xué)實(shí)驗(yàn)室污水絮凝處理裝置，所述一級(jí)孔擴(kuò)口端與所述二級(jí)孔擴(kuò)口端同軸連接，所述二級(jí)孔縮口端與所述三級(jí)孔縮口端同軸連接。