[發(fā)明專利]一種盤類件用上料裝置

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• 申請日: 2021-03-31
• 公開（公告）號: CN113200340A
• 公開（公告）日: 2021-08-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 宋光輝;田樂帥;任日華;趙聰;李國紅
• 申請（專利權(quán)）人: 山東華滋自動化技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: B65G47/82
• 分類號: B65G47/82;B65G47/90;B23P19/02;B23P19/00
• 代理公司: 濟南誠智商標專利事務(wù)所有限公司 37105
• 代理人: 馬春燕

1.一種盤類件用上料裝置，包括機架，其特征在于，所述機架上設(shè)有水平布置的滑板，所述滑板上設(shè)有物料供給機構(gòu)，與所述物料供給機構(gòu)對應(yīng)位置的所述滑板上設(shè)有避讓滑槽；

位于所述滑板下方的所述機架上設(shè)有擺動式推送機構(gòu)，所述擺動式推送機構(gòu)延伸至所述避讓滑槽內(nèi)；位于所述擺動式推送機構(gòu)下游的所述機架上設(shè)有旋轉(zhuǎn)式夾送機構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)式夾送機構(gòu)豎向滑動安裝于所述機架上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤類件用上料裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)式夾送機構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件上設(shè)有夾爪氣缸，所述夾爪氣缸上設(shè)有兩個相對移動的夾持體，所述夾持體的兩端均設(shè)有夾持槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤類件用上料裝置，其特征在于，兩所述夾持體均設(shè)置為Z字形、并滑動配合在一起；每個所述夾持體的兩端均設(shè)有蓋板。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的盤類件用上料裝置，其特征在于，所述機架上設(shè)有豎向布置的第一直線驅(qū)動元件，所述第一直線驅(qū)動元件的執(zhí)行端朝向所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件，所述第一直線驅(qū)動元件的執(zhí)行端與所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動件連接在一起。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項所述的盤類件用上料裝置，其特征在于，所述物料供給機構(gòu)包括設(shè)置于所述避讓滑槽兩側(cè)的限位導向條，兩所述限位導向條之間形成出料通道，所述限位導向條的一端向所述旋轉(zhuǎn)式夾送機構(gòu)方向延伸，位于所述限位導向條另一端的所述滑板上設(shè)有支撐座，所述支撐座的一端延伸至所述限位導向條的上方、并設(shè)有料管，所述支撐座和所述料管上設(shè)有相互連通的料道，所述料道與所述出料通道連通。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的盤類件用上料裝置，其特征在于，所述限位導向條和所述支撐座相抵，所述限位導向條的厚度小于兩個物料疊加設(shè)置的厚度；

與所述避讓滑槽對應(yīng)位置的所述支撐座上設(shè)有避讓槽。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的盤類件用上料裝置，其特征在于，所述料管的高度方向上設(shè)有觀察窗。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的盤類件用上料裝置，其特征在于，所述擺動式推送機構(gòu)包括設(shè)置于所述機架上、并水平布置的第二直線驅(qū)動元件，所述第二直線驅(qū)動元件的驅(qū)動端安裝有安裝座，所述安裝座上轉(zhuǎn)動安裝有旋轉(zhuǎn)體，所述旋轉(zhuǎn)體上設(shè)有呈V字形布置的推塊和壓塊，處于推送前的初始狀態(tài)時，所述推塊位于所述避讓滑槽內(nèi)，所述壓塊和物料分布于所述推塊的兩側(cè)，且所述壓塊與所述安裝座相抵、所述推塊的長度大于所述滑板的厚度，處于回初始位置狀態(tài)時，所述推塊和所述壓塊不高于所述滑板的上表面；

位于所述旋轉(zhuǎn)體一側(cè)的所述安裝座上設(shè)有用于對所述推塊進行限位的限位柱。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的盤類件用上料裝置，其特征在于，所述限位柱上設(shè)有傾斜設(shè)置的傾斜頂靠部；

所述推塊和所述壓塊之間的夾角為：大于90度、小于180度。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的盤類件用上料裝置，其特征在于，靠近所述旋轉(zhuǎn)式夾送機構(gòu)一側(cè)的所述支撐座上設(shè)有壓板，所述壓板位于兩所述限位導向條之間。