[發明專利]掩模支撐模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一體型掩模的制造方法

在審

• 申請號: 202110346346.7
• 申請日: 2021-03-31
• 公開（公告）號: CN113529081A
• 公開（公告）日: 2021-10-22
• 發明（設計）人: 李炳一;金奉辰;李裕進
• 申請（專利權）人: 悟勞茂材料公司
• 主分類號: C23F1/02
• 分類號: C23F1/02;C23F4/00;C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 姜虎;陳英俊

本發明涉及掩模支撐模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一體型掩模的制造方法。根據本發明的掩模支撐模板的制造方法，包括以下步驟：(a)準備一面形成有第一絕緣部的掩模金屬膜；(b)通過在模板上夾設第一絕緣部使掩模金屬膜粘合到模板的上部面；(c)通過在掩模金屬膜上形成掩模圖案來制造掩模。

技術領域

本發明涉及掩模支撐模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一體型掩模的制造方法。更具體地，涉及一種能夠準確地控制掩模圖案的尺寸與位置的掩模支撐模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一體型掩模的制造方法。

背景技術

作為OLED(有機發光二極管)制造工藝中形成像素的技術，主要使用FMM(FineMetal Mask，精細金屬掩模)方法，該方法將薄膜形式的金屬掩模(Shadow Mask，陰影掩模)緊貼于基板并且在所需位置上沉積有機物。

現有的掩模制造方法準備用作掩模的金屬薄板，在金屬薄板上進行PR涂布之后進行圖案化或進行PR涂布使具有圖案之后通過蝕刻制造具有圖案的掩模。然而，為了防止陰影效果(Shadow Effect)，難以使掩模圖案傾斜地形成錐形(Taper)，而且需要執行額外的工藝，因此導致工藝時間、費用增加，生產性下降。

在超畫質的OLED中，現有的QHD畫質為500-600PPI(pixel per inch，每英寸像素)，像素的尺寸達到約30-50μm，而4K UHD、8K UHD畫質具有比之更高的-860PPI，-1600PPI等的分辨率。因此，急需開發能夠精準地調節掩模圖案的尺寸的技術。

另外，在現有的OLED制造工藝中，將掩模制造成條狀、板狀等之后，將掩模焊接固定到OLED像素沉積框架并使用。一個掩模上可以具有與一個顯示器對應的多個單元。另外，為了制造大面積OLED，可將多個掩模固定于OLED像素沉積框架，在固定于框架的過程中，拉伸各個掩模，以使其變得平坦。調節拉伸力以使掩模的整體部分變得平坦是非常困難的作業。特別是，為了一邊使各單元都平坦化且一邊對準尺寸為數～數十μm的掩模圖案，需要進行如下高難度作業：一邊細微地調節施加于掩模各側的拉伸力，一邊實時地確認對準狀態。

盡管如此，在將多個掩模固定于一個框架的過程中，仍然存在掩模之間及掩模單元之間對準不好的問題。另外，在將掩模焊接固定于框架的過程中，掩模膜的厚度過薄且面積大，因此存在掩模因荷重而下垂或者扭曲的問題；由于焊接過程中在焊接部分產生的皺紋、毛刺(burr)等，導致掩模單元的對準不準的問題等。

如此，考慮到超高畫質的OLED的像素尺寸，需要將各單元之間的對準誤差縮減為數μm左右，超出這一誤差將導致產品的不良，所以收率可能極低。因此，需要開發能夠防止掩模的下垂或者扭曲等變形并使對準精確的技術以及將掩模固定于框架的技術等。

發明內容

技術問題

因此，本發明為了解決如上所述的現有技術的各種問題而提出，其目的在于提供一種能夠準確地控制掩模圖案的尺寸的掩模支撐模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一體型掩模的制造方法。

此外，本發明的目的在于提供一種可防止掩模發生皺紋或者扭曲等變形的框架一體型掩模的制造方法。

技術方案

本發明的上述目的通過掩模支撐模板的制造方法實現，所述方法包括以下步驟：(a)準備一面形成有第一絕緣部的掩模金屬膜；(b)通過在模板上夾設第一絕緣部使掩模金屬膜粘合到模板的上部面；(c)通過在掩模金屬膜上形成掩模圖案來制造掩模。

臨時粘合部形成于模板的上部面，掩模金屬膜可通過夾設臨時粘合部和第一絕緣部粘合到模板的上部面。

第一絕緣部可包括固化負型光刻膠、含有環氧樹脂的負型光刻膠中的至少一個。

臨時粘合部可以是可通過加熱而分離的粘合劑或者粘合片材及可通過照射紫外線而分離的粘合劑或者粘合片材。