[發(fā)明專利]一種超薄PTMSP復(fù)合納濾膜及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110342741.8 | 申請日: | 2021-03-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112999888A | 公開(公告)日: | 2021-06-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張凱松;劉琴 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院城市環(huán)境研究所 |
| 主分類號(hào): | B01D69/12 | 分類號(hào): | B01D69/12;B01D67/00;B01D61/00;B01D71/70 |
| 代理公司: | 廈門市精誠新創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35218 | 代理人: | 方惠春 |
| 地址: | 361021 福*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 超薄 ptmsp 復(fù)合 濾膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種超薄PTMSP復(fù)合納濾膜,其特征在于,所述超薄PTMSP復(fù)合納濾膜包括支撐層和PTMSP分離層,所述支撐層的孔徑為200nm以下,所述PTMSP分離層的厚度為600nm以下,所述PTMSP分離層中含有聚三甲基硅-1-丙炔和添加劑,所述添加劑選自p-DCX、PAFs、MoS2、O-MoS2和SiO2中的至少一種。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超薄PTMSP復(fù)合納濾膜,其特征在于,所述支撐層的材質(zhì)選自聚砜、聚醚砜、聚醚醚酮、聚丙烯腈、聚酰亞胺、聚偏氟乙烯和聚四氟乙烯中的至少一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超薄PTMSP復(fù)合納濾膜,其特征在于,所述聚三甲基硅-1-丙炔和添加劑的質(zhì)量比為(5~15):1。
4.一種超薄PTMSP復(fù)合納濾膜的制備方法,其特征在于,該方法包括以下步驟:
S1、鑄膜液的配制:將1~10重量份聚三甲基硅-1-丙炔、0.1~10重量份添加劑和80~99重量份有機(jī)溶劑混合均勻后靜置脫泡,得到鑄膜液;所述添加劑選自p-DCX、PAFs、MoS2、O-MoS2和SiO2中的至少一種;
S2、將所述鑄膜液在孔徑為200nm以下的支撐層上經(jīng)刮膜、固化和干燥形成厚度為600nm以下的PTMSP分離層,從而得到包括支撐層和PTMSP分離層的超薄PTMSP復(fù)合納濾膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的超薄PTMSP復(fù)合納濾膜的制備方法,其特征在于,步驟S1中,所述聚三甲基硅-1-丙炔和添加劑的質(zhì)量比為(5~15):1。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的超薄PTMSP復(fù)合納濾膜的制備方法,其特征在于,步驟S1中,所述有機(jī)溶劑選自四氫呋喃、氯仿和環(huán)己烷中的至少一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的超薄PTMSP復(fù)合納濾膜的制備方法,其特征在于,步驟S2中,所述支撐層的材質(zhì)選自聚砜、聚醚砜、聚醚醚酮、聚丙烯腈、聚酰亞胺、聚偏氟乙烯和聚四氟乙烯中的至少一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求4~7中任意一項(xiàng)所述的超薄PTMSP復(fù)合納濾膜的制備方法,其特征在于,步驟S2中,所述刮膜所采用工藝為刮刀涂覆、狹縫擠出工藝,厚度為1~50μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求4~7中任意一項(xiàng)所述的超薄PTMSP復(fù)合納濾膜的制備方法,其特征在于,步驟S2中,所述固化的溫度為20~40℃,時(shí)間為5min~12h;所述干燥的溫度為30~80℃,時(shí)間為4~24h。
10.權(quán)利要求4~9中任意一項(xiàng)所述的方法制備得到超薄PTMSP復(fù)合納濾膜。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院城市環(huán)境研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院城市環(huán)境研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110342741.8/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





