[發明專利]用于研究光脅迫對光系統II結構和功能影響的裝置及方法

有效

• 申請號: 202110340477.4
• 申請日: 2021-03-30
• 公開（公告）號: CN112964838B
• 公開（公告）日: 2023-03-14
• 發明（設計）人: 董芳
• 申請（專利權）人: 臨沂大學
• 主分類號: G01N33/00
• 分類號: G01N33/00;B01L9/06
• 代理公司: 北京棧橋知識產權代理事務所(普通合伙) 11670
• 代理人: 潘衛鋒

1.用于研究光脅迫對光系統II結構和功能影響的裝置，其特征在于，主要包括裝置主體（1）、分段光照裝置（2）、葉片處理裝置（3）、光系統II處理裝置（4）和內周天線處理裝置（5），

所述裝置主體（1）為固定在水平臺面上的圓柱型筒體，裝置主體（1）從上到下均分為上、中、下三部分，

所述分段光照裝置（2）包括豎直將裝置主體（1）平均分為三部分的隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23），所述隔板槽一（21）與隔板槽二（22）的夾角處、隔板槽二（22）與隔板槽三（23）的夾角處、隔板槽三（23）與隔板槽一（21）的夾角處分別設有可調節光源（24），

所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）連接處設有圓柱型光照控制槽（25），所述光照控制槽（25）內部設有與三個所述可調節光源（24）分別連接用于控制可調節光源（24）亮度的亮度調節器（251），所述亮度調節器（251）與可調節光源（24）連接處設有用于轉換亮度調節器（251）調節區域的轉換控制器（252），

所述葉片處理裝置（3）設置在所述裝置主體（1）的上部，葉片處理裝置（3）包括環繞設置在裝置主體（1）上部外側的三個弧形槽體一（31）、分別設置在所述弧形槽體一（31）內部的葉片存儲裝置（32）和分別設置在所述弧形槽體一（31）上部的密封遮蓋（33），

所述光系統II處理裝置（4）設置在所述裝置主體（1）的中部，光系統II處理裝置（4）包括分別通過轉軸活動安裝在所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）側部的三個弧形槽體二（41）和分別設置在三個所述弧形槽體二（41）內部的試管架一（42），

所述內周天線處理裝置（5）設置在所述裝置主體（1）的下部，內周天線處理裝置（5）包括分別通過轉軸活動安裝在所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）側部的三個弧形槽體三（51）和分別設置在三個所述弧形槽體三（51）內部的試管架二（52）。

2.根據權利要求1所述用于研究光脅迫對光系統II結構和功能影響的裝置，其特征在于，所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）側面分別設有用于防止光線折射和熱量聚集的吸光吸熱板（6）。

3.根據權利要求1所述用于研究光脅迫對光系統II結構和功能影響的裝置，其特征在于，所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）內部分別設有用于裝置主體（1）內熱量散發的散熱器（7）。

4.根據權利要求1所述用于研究光脅迫對光系統II結構和功能影響的裝置，其特征在于，三個所述弧形槽體一（31）與光照控制槽（25）上端面之間分別連接設有用于遮擋外部光源進入裝置主體（1）內的遮光感應板（8）。

5.根據權利要求4所述用于研究光脅迫對光系統II結構和功能影響的裝置，其特征在于，所述遮光感應板（8）上分別設有光照強度顯色卡（81），用于感應所述可調節光源（24）的光照強度并通過不同程度的顏色進行顯示。

6.根據權利要求1所述用于研究光脅迫對光系統II結構和功能影響的裝置，其特征在于，所述光照控制槽（25）上端設有與光亮調節器（251）連接的亮度調節旋鈕（253）和與所述轉換控制器（252）連接的區域轉換旋鈕（254）。

7.根據權利要求1所述用于研究光脅迫對光系統II結構和功能影響的裝置，其特征在于，所述試管架一（42）包括多個放置試管的試管槽一（421），所述試管槽一（421）底部均設有用于轉動試管的旋轉托座一（422），所述旋轉托座一（422）分別通過設置在試管架一（42）底部的多個旋轉電機一（423）驅動；

所述試管架二（52）包括多個放置試管的試管槽二（521），所述試管槽二（521）底部均設有用于轉動試管的旋轉托座二（522），所述旋轉托座二（522）分別通過設置在試管架二（52）底部的多個旋轉電機二（523）驅動。