[發明專利]一種單向拉伸聚酰亞胺薄膜定位結構有效
| 申請號: | 202110340084.3 | 申請日: | 2021-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN113263714B | 公開(公告)日: | 2022-09-27 |
| 發明(設計)人: | 桑慎楚 | 申請(專利權)人: | 太湖聯邦新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | B29C55/04 | 分類號: | B29C55/04 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 單向 拉伸 聚酰亞胺 薄膜 定位 結構 | ||
本發明公開了一種單向拉伸聚酰亞胺薄膜定位結構,本發明涉及聚酰亞胺薄膜技術領域,為解決現有提出單向拉伸過程中使用時無法根據不用的聚酰亞胺薄膜寬度進行微調且不易操作,使得使用效率降低的問題。所述底座下端設置有四個等距分布的支撐腿,所述底座上端設置有第一滑板和第二滑板,所述第一滑板和第二滑板之間設置有轉桿,所述轉桿與第一滑板和第二滑板活動連接,所述底座上端開設有第一滑槽,所述第一滑槽位于第一滑板和第二滑板后方,所述第一滑槽內開設有對稱的第二滑槽,所述第一滑槽內設置有對稱的第一滑塊,兩個所述第一滑塊兩側設置有對稱的第二滑塊,四個所述第二滑塊與第二滑槽滑動連接,兩個所述第一滑塊上端設置有對稱的第三滑板。
技術領域
本發明涉及聚酰亞胺薄膜技術領域,具體為一種單向拉伸聚酰亞胺薄膜定位結構。
背景技術
聚酰亞胺薄膜包括均苯型聚酰亞胺薄膜和聯苯型聚酰亞胺薄膜兩類,呈黃色透明,薄膜制備方法為:聚酰胺酸溶液流延成膜、拉伸后,高溫酰亞胺化,薄膜呈黃色透明,相對密度1.39~1.45,有突出的耐高溫、耐輻射、耐化學腐蝕和電絕緣性能,可在250~280℃空氣中長期使用,玻璃化溫度分別為280℃、385℃和500℃以上,20℃時拉伸強度為200MPa,200℃時大于100MPa,特別適宜用作柔性印制電路板基材和各種耐高溫電機電器絕緣材料。
隨著聚酰亞胺薄膜在各種電路板基材和耐高溫電機電器中起到重要的絕緣作用,因此在對于聚酰亞胺薄膜的生產制備也是由為重要的,在聚酰亞胺薄膜的生產過程中單向拉伸是由為重要的一項作業,但現有的單向拉伸過程中使用時無法根據不用的聚酰亞胺薄膜寬度進行微調且不易操作,使得使用效率降低。
發明內容
本發明的目的在于提供一種單向拉伸聚酰亞胺薄膜定位結構,以解決上述背景技術中提出單向拉伸過程中使用時無法根據不用的聚酰亞胺薄膜寬度進行微調且不易操作,使得使用效率降低的問題。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:一種單向拉伸聚酰亞胺薄膜定位結構,包括底座,所述底座下端設置有四個等距分布的支撐腿,所述底座上端設置有第一滑板和第二滑板,所述第一滑板和第二滑板之間設置有轉桿,所述轉桿與第一滑板和第二滑板活動連接,所述底座上端開設有第一滑槽,所述第一滑槽位于第一滑板和第二滑板后方,所述第一滑槽內開設有對稱的第二滑槽,所述第一滑槽內設置有對稱的第一滑塊,兩個所述第一滑塊兩側設置有對稱的第二滑塊,四個所述第二滑塊與第二滑槽滑動連接,兩個所述第一滑塊上端設置有對稱的第三滑板,兩個所述第三滑板與第一滑塊滑動連接。
優選的,所述第一滑板和第二滑板前端開設有對稱的第一凹槽,兩個所述第一凹槽上下兩端開設有對稱的第二凹槽,所述第一滑板和第二滑板一側設置有對稱的活動桿,兩個所述活動桿下端設置有對稱的活動擋板,兩個所述活動擋板內設置有對稱的固定件。
優選的,所述第二滑板一側設置有第一固定盒,所述第一滑板和第二滑板之間開設有第三滑槽,所述第一滑板和第二滑板與第三滑槽為滑動連接,所述第一滑板和第二滑板下端通過第三滑槽設置有對稱的第三滑塊,兩個所述第三滑塊與第三滑槽滑動連接,兩個所述第三滑塊一側通過底座設置有對稱的氣缸,兩個所述氣缸下端設置有控制設備。
優選的,所述轉桿兩側設置有對稱的活動塊,所述第二滑板另一側設置有旋轉電機,所述旋轉電機與活動塊一側設置有對稱的吸鐵貼,兩個所述吸鐵貼相互吸附。
優選的,兩個所述第三滑板內設置有對稱的固定螺母,兩個所述第三滑板一側設置有對稱的第一連接塊,兩個所述第一連接塊內開設有對稱的凹口,兩個所述凹口前端設置有對稱的限位圈,兩個所述限位圈前端設置有對稱的第一螺紋桿,兩個所述第一螺紋桿與凹口活動連接,兩個所述限位圈內開設有對稱的第三凹槽,兩個所述限位圈前端設置有對稱的插桿,兩個所述插桿后端通過第三凹槽設置有對稱的第一卡塊,兩個所述第一卡塊與第三凹槽活動連接。
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